一种OLED生产过程中石英晶振片沉积监测装置的制作方法

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一种oled生产过程中石英晶振片沉积监测装置
技术领域
1.本实用新型属于蒸镀监测技术领域，特别涉及oled生产过程中石英晶振片沉积监测装置。

背景技术：

2.有机发光二极管oled在生产过程中因镁材料在石英晶振片表面沉积难以成膜而无法监控到镁材料实际蒸镀速率，从而无法精确控制镁材料蒸镀的膜厚问题。因为镁材料较难在石英晶振片上沉积，在石英晶振片切换后，较长时间内无法监控到镁实际蒸发速率，导致生产中断，一个生产周期最大需要切换11次晶振片，生产预计需要停机11h左右，严重影响有机发光二极管产品产能。

技术实现要素：

3.基于此，有必要提供一种技术方案，能够给石英晶振片进行预镀一定膜厚处理，通过生产前大速率、短时间内自动完成石英晶振片表面成膜沉积，在实际生产中切换石英晶振片保证蒸镀速率正常监控，确保蒸镀膜厚精确控制，大大缩短停机时长，显著提高生产产能。
4.为达到上述目的，本实用新型提供了oled生产过程中石英晶振片沉积监测装置，包括蒸镀源、蒸镀基板、膜厚监测探头、探头内衬和探头波纹管，所述膜厚监测探头中设置转盘、转轴、初始位置传感器、装载盘和石英晶振片，其中，
5.所述转盘上设置开口，转盘的开口率w为所设开口的面积与整个转盘面积的比例，转盘的中央与转轴的一端连接，转轴转动便带动转盘转动；
6.所述初始位置传感器设置在转轴的另一端，感应转盘的位置是否处于初始位置；
7.所述装载盘上设置间隔均匀、呈圆周分布的若干个石英晶振片，装载盘由外部机构控制可旋转；
8.所述初始位置为转盘上的一开口对准装载盘上的一石英晶振片，装载盘每旋转石英晶振片的间隔距离后，石英晶振片均对准转盘的开口。
9.优选地，所述开口设置一个。
10.优选地，所述开口设置对称的两个。
11.优选地，所述转盘与转轴通过螺丝连接。
12.优选地，所述石英晶振片设置12个。
13.本实用新型的有益效果至少包括：
14.1、装置上增设带开口的转盘和初始位置传感器，使预镀时石英晶振片对准转盘的开口，并在石英晶振片上快速预镀上目标预镀膜厚，大大缩短预镀时间；
15.2、转盘上开口优化，可设置转盘开口对称，石英晶振片寿命满足生产周期144h需求的前提下，转盘开口率设置为10％，转盘上的单开口大小可完全暴露晶振片，转盘的开口对准石英晶振片，此时达到石英晶振片上的材料量为转盘转动时的10倍，缩短每片石英晶
振片预镀时间为原来的1/10(转盘不停转的时候，速率只有而转盘停转时，速率达到等转盘恢复转速时，速率又恢复到不需要更改蒸发源的温度控制参数，即可实现大速率下镁蒸发源对应的石英晶振片预镀处理，故本实用新型可大大缩短预镀时间；
16.3、增加预镀功能，输入预镀参数即可进行镁晶振片的预镀功能，把量产过程中镁晶振片无法及时有效监控材料蒸镀速率，提前到生产前、统一大速率去预先镀膜，从而避免生产过程中宕机，并缩短预镀时间，提高生产效率。
附图说明
17.为了使本实用新型的目的、技术方案和有益效果更加清楚，本实用新型提供如下附图进行说明：
18.图1为本实用新型实施例的oled生产过程中石英晶振片沉积监测装置的整体结构示意图；
19.图2为本实用新型实施例的oled生产过程中石英晶振片沉积监测装置的膜厚检测探头内部结构图；
20.图3为本实用新型实施例的oled生产过程中石英晶振片沉积监测装置的预镀速率波形图。
具体实施方式
21.下面将结合附图，对本实用新型的优选实施例进行详细的描述。
22.参见图1、图2，oled生产过程中石英晶振片沉积监测装置，包括蒸镀源101、蒸镀基板102、膜厚监测探头105、探头内衬103 和探头波纹管106，膜厚监测探头105中设置转盘104、转轴107、初始位置传感器113、装载盘108和石英晶振片110，其中，转盘104 上设置开口109，转盘104的开口率w为该开口109的面积与整个转盘104面积的比例，转盘104的中央与转轴107的一端连接，转轴107转动便带动转盘104转动；初始位置传感器113设置在转轴107 的另一端，感应转盘104的位置是否处于初始位置；装载盘108上设置间隔均匀、呈圆周分布的若干个石英晶振片110，装载盘108由外部机构控制可旋转；初始位置为转盘104上的一开口109对准装载盘 108上的一石英晶振片110，装载盘108每旋转石英晶振片110的间隔距离后，石英晶振片110均对准转盘104的开口109。开口109设置一个或对称的两个。
23.具体实施例中，转盘104与转轴107通过螺丝117连接，转轴 107的相应位置设置螺孔111。石英晶振片110设置12个。真空室内设置蒸镀源101、蒸镀基板102、膜厚监测探头105中的转盘104机构和石英晶振片110结构，以及位于真空室外的振荡器和控制装置；蒸镀源101用于提供蒸镀材料，m代表材料蒸发路径；蒸镀基板102 内含作为镀膜载体的晶振片，用于供镀膜材料吸附，在其表面形成薄膜；真空室是有机发光二极管需要的基本镀膜环境，确保材料不受水氧破坏、蒸镀材料运动过程中确保沿直线运动到达基板上成膜；转盘 104运动机构包含转盘104、转轴107、固定转盘104和转轴107的螺丝117及伺服马达(使转轴107转动)，r代表转轴107旋转；石英晶振片110将其上的蒸镀材料量的物理信号转化成电信号，并通过真空室外控制装置实现蒸镀材料速率控制。
24.上述监测装置的工作流程为：
25.设置目标膜厚x和目标预镀速率y，转盘104停在初始位置，转盘104的开口109对准第一个石英晶振片110；开启蒸镀源101，进行对开口109漏出的石英晶振片110的预镀；监测石英晶振片110 的膜厚达到目标膜厚x，转动装载盘108，使相邻的下一个石英晶振片110对准转盘104的开口109，同样进行s12中的预镀，直至所有石英晶振片110均预镀至目标膜厚x。
26.装载盘108上第一个石英晶振片110对准转盘104的开口109，转盘104以100rpm的转速转动，目标蒸镀速率为z，存在关系z/w＝y，其中，w为转盘104的开口率；s22，通过对石英晶振片110上蒸镀材料的物理信号转化为电信号，监测实时蒸镀速率。
27.具体实施例中，目标膜厚x为目标预镀速率y为转盘104的开口率w为1/10，目标蒸镀速率z为1/10的开口率说明只有1/10的材料量能通过转盘104到达石英晶振片110上，即转盘104上设置的若干个开口109的面积总和为1/10，优选实施例为设置一个或两个对称的开口109，故转盘104停止在初始位置，材料可全部蒸镀到石英晶振片110上，故转盘104停在初始位置时，石英晶振片110监控到的速率扩大了10倍；在预镀过程中通过速率控制模式(监控速率值在pid调节下，不断微调供给的功率去保持目标速率)可保持速率稳定，确保每颗晶振片预镀膜厚相同；当预镀膜厚达到目标值后，装载盘108控制旋转切换到下一颗石英晶振片110进行预镀依此类推，依次完成12个晶振片表面预镀处理；石英晶振片110完成s10预镀后，切换到第一颗石英晶振片110，同时转盘104以100rpm的转速转动起来，镁材料目标控制速率恢复到生产时目标速率此时每个石英晶振片110表面预镀镁的膜厚相同，预镀时间一致，预镀时间较正常生产蒸镀速率下大大缩短；生产前提前将镁晶振片全部提前蒸镀上一定厚度的镁材料，在生产过程中晶振片切换后，下一颗石英晶振片110速率即可立即恢复正常监控水平，不需要长时间等待，避免产生宕机问题。
28.参见图3为具体实施例中预镀速率波形图，其中，114代表镁材料蒸镀速率显示坐标系，纵坐标蒸镀速率，横坐标时间；115代表12 个石英晶振片110监控到的速率曲线；116代表不同石英晶振片110 切换后存在
△
t时间石英晶振片110监控不到速率。在12个石英晶振片110预镀完成后，再次切换到第一个石英晶振片110，转盘104转动，开始正式监测蒸镀速率。预镀后切换过最后一个石英晶振片110，对第一个石英晶振片110检测的速率曲线正确，因为预镀过程是转盘 104停在初始位置，转盘104开口109处可看见石英晶振片110(转盘 104增加初始位置传感器目的是转盘104停转或者在预镀位置时候，转盘104的开口109可露出石英晶振片110)，即材料可通过转盘104 的开口109直接蒸镀到石英晶振片110上)，转盘104停下来的时候，材料通过转盘104的材料量是100％(材料速率是)，一旦转盘104 转动起来(石英晶振片110完成预镀)，材料通过转盘104只有10％(转盘104开口率即是材料通过转盘104到达石英晶振片110的材料率)，所以，切换到第一个晶振片后速率为故在预镀时转盘104 停下来预镀时间节省超10倍。
29.最后说明的是，以上优选实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制，尽管通过上述优选实施例已经对本实用新型进行了详细的描述，但本领域技术人员应当理解，可以在形式上和细节上对其做出各种各样的改变，而不偏离本实用新型权利要求书所
限定的范围。

技术特征：

1.一种oled生产过程中石英晶振片沉积监测装置，包括蒸镀源、蒸镀基板、膜厚监测探头、探头内衬和探头波纹管，其特征在于，所述膜厚监测探头中设置转盘、转轴、初始位置传感器、装载盘和石英晶振片，其中，所述转盘上设置开口，转盘的开口率w为所设开口的面积与整个转盘面积的比例，转盘的中央与转轴的一端连接，转轴转动便带动转盘转动；所述初始位置传感器设置在转轴的另一端，感应转盘的位置是否处于初始位置；所述装载盘上设置间隔均匀、呈圆周分布的若干个石英晶振片，装载盘由外部机构控制可旋转；所述初始位置为转盘上的一开口对准装载盘上的一石英晶振片，装载盘每旋转石英晶振片的间隔距离后，石英晶振片均对准转盘的开口。2.根据权利要求1所述的oled生产过程中石英晶振片沉积监测装置，其特征在于，所述开口设置一个。3.根据权利要求1所述的oled生产过程中石英晶振片沉积监测装置，其特征在于，所述开口设置对称的两个。4.根据权利要求1所述的oled生产过程中石英晶振片沉积监测装置，其特征在于，所述转盘与转轴通过螺丝连接。5.根据权利要求1所述的oled生产过程中石英晶振片沉积监测装置，其特征在于，所述石英晶振片设置12个。

技术总结

本实用新型公开了OLED生产过程中石英晶振片沉积监测装置，转盘上设置开口，转盘的开口率W为该开口的面积与整个转盘面积的比例，转盘的中央与转轴的一端连接，转轴转动便带动转盘转动；初始位置传感器设置在转轴的另一端，感应转盘的位置是否处于初始位置；装载盘上设置间隔均匀、呈圆周分布的若干个石英晶振片，装载盘由外部机构控制可旋转；初始位置为转盘上的一开口对准装载盘上的一石英晶振片，装载盘每旋转石英晶振片的间隔距离后，石英晶振片均对准转盘的开口。本实用新型把量产过程中晶振片无法及时有效监控材料蒸镀速率，提前到生产前、统一大速率去预先镀膜，从而避免生产过程中宕机情况，并缩短预镀时间，提高生产效率。效率。效率。