发明人：宁先捷
申请号：CN200910200025.5申请日：20091201
石墨密封圈
车载制氧机公开号：CN102081300A
公开日：
20110601
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明公开了一种圆孔图案的光刻方法，该方法包括：在待刻蚀薄膜上涂覆第一光阻PR，并对第一PR进行曝光、显影，形成第一光刻图案，其中，第一光刻图案为在水平方向或垂直方向上等间距排列的N个长条状第一PR，N为大于1的正整数；沉积低温化学气相沉积CVD氧化硅或低温等离子辅助化学气相沉积PECVD氧化硅，使之于覆盖第一PR的表面和侧面；涂覆第二PR，并对第二PR进行曝光、显影，形成第二光刻图案，其中，第二光刻图案为在与第一PR的排列方向垂直的方向上等间距排列的M个长条状第二PR，M为大于1的正整数。采用该方法能够避免圆孔图案发生变形。
申请人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
地址：201203 上海市浦东新区张江路18号
uv转印胶
国籍：CN
黑苦瓜种子游戏棋代理机构：北京德琦知识产权代理有限公司
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