宽范围、偏振稳定的850 nm 液晶可调谐垂直腔面发射激光器特性

阅读: 评论:0

第41卷㊀第10期2020年10月
发㊀光㊀学㊀报
CHINESEJOURNALOFLUMINESCENCE
Vol 41No 10
Oct.ꎬ2020
文章编号:1000 ̄7032(2020)10 ̄1287 ̄07
无纺布挂历
宽范围、偏振稳定的850nm液晶可调谐
垂直腔面发射激光器特性
王小龙ꎬ邹永刚∗ꎬ郝永芹ꎬ马晓辉ꎬ刘国军∗
(长春理工大学ꎬ吉林长春㊀130022)
摘要:设计了一种具有内腔耦合层的850nm液晶可调谐垂直腔面发射激光器(VCSEL)结构ꎬ从而
获得了更宽的波长调谐范围以及稳定的偏振模式输出ꎮ通过分析在不同液晶层厚度下ꎬ两种偏振模式的共振波长以及对应的阈值增益的变化关系ꎬ研究了液晶厚度影响可调谐VCSEL偏振模式和波长调谐的机理ꎮ此外ꎬ通过优化半导体腔和液晶腔之间的耦合层结构ꎬ使得基于液晶的可调谐VCSEL结构在实现稳定偏振模式输出的基础上具有更宽的波长调谐范围ꎮ结果表明ꎬ耦合层结构的加入可以有效地增大液晶可调谐VCSEL的调谐范围ꎬ最大达到41.1nmꎮ同时ꎬ在连续的波长调谐过程中ꎬ由于o光偏振模式始终处于受抑制状态ꎬ因此液晶可调谐VCSEL可实现稳定的单偏振模式输出ꎮ
关㊀键㊀词:偏振稳定ꎻ液晶ꎻ垂直腔面发射激光器(VCSEL)ꎻ波长调谐
中图分类号:TN302㊀㊀㊀文献标识码:A㊀㊀㊀DOI:10.37188/CJL.20200175
Characteristicsof850nmLiquidCrystalTunableVCSELwith
PolarizationStabilityandWideTuningRange
WANGXiao ̄longꎬZOUYong ̄gang∗ꎬHAOYong ̄qinꎬMAXiao ̄huiꎬLIUGuo ̄jun∗
(ChangchunUniversityofScienceandTechnologyꎬChangchun130022ꎬChina)
∗CorrespondingAuthorsꎬE ̄mail:zouyg@cust.edu.cnꎻgjliu626@126.com
Abstract:Inthispaperꎬwedesignedan850nmliquidcrystaltunablevertical ̄cavitysurface ̄emit ̄tinglaser(VCSEL)structurewithinternalcouplinglayertooptimizethewavelengthtuningrangeandpolarizationstabilityofthedevice.TheresonancewavelengthandthecorrespondingthresholdgainofthetwopolarizationmodesareanalyzedunderdifferentliquidcrystallayerthicknessesꎬandtheeffectofliquidcrystalthicknessonthetunableVCSELpolarizationmodeandwavelengthtuningisstudied.Inadditionꎬweaddacouplinglayerstructurebetweenthesemiconductorcavityandtheliquidcrystalcavityꎬ
whichcanmaketheliquidcrystaltunableVCSELstructurerealizestablepolar ̄izationmodeandwiderwavelengthtuningrange.TheresultsshowthatthecouplinglayerstructurecaneffectivelyincreasethetuningrangeofliquidcrystaltunableVCSELto41.1nm.Atthesametimeꎬbecausethepolarizationmodeofo ̄beamisalwayssuppressedꎬtheliquidcrystaltunableVC ̄SELcanachievestablesinglepolarizationmodeoutputinthecontinuouswavelengthtuningprocess.
Keywords:polarizationstabilityꎻliquidcrystalꎻvertical ̄cavitysurface ̄emittinglaser(VCSEL)ꎻwavelengthtuning
㊀㊀收稿日期:2020 ̄06 ̄24ꎻ修订日期:2020 ̄07 ̄25
㊀㊀基金项目:吉林省科技发展计划(20180519018JHꎬ20190302052GX)ꎻ吉林省教育厅 十三五 科学技术项目(JJKH20190543KJ)ꎻ国
家自然科学基金(11474038)ꎻ装备预研基金重点项目(61404140103)资助
SupportedbyJilinScienceandTechnologyDevelopmentPlan(20180519018JHꎬ20190302052GX)ꎻJilinEducationDepartment
135 ScienceandTechnology(JJKH20190543KJ)ꎻNationalNaturalScienceFoundationofChina(11474038)ꎻKeyProjectof
EquipmentPre ̄researchFund(61404140103)
1288㊀发㊀㊀光㊀㊀学㊀㊀报第41卷
1㊀引㊀㊀言
可调谐垂直腔面发射激光器(VCSEL)具有低阈值电流㊁单纵模㊁连续的波长调谐特性㊁圆形对称的光斑以及易于2D阵列等特点ꎬ在光通信㊁光储存㊁光谱学以及医疗等领域具有广阔的应用前景ꎮ特别地ꎬ在高速数据通信以及各种电信应用(尤其是光网络)中具有宽波长调谐范围的
VCSEL已经成为最具竞争力的激光光源[1]ꎮ但是ꎬ传统的VCSEL由于其对称的波导结构使得偏振模式间的各向异性很弱ꎬ很难实现稳定的单偏振模式输出ꎬ在器件的工作温度和注入电流改变时ꎬVCSEL会出现偏振模式间的切换现象[2 ̄3]ꎬ一定程度上影响器件的工作性能ꎮ因此ꎬ面向实际应用的具有偏振稳定㊁宽波长调谐范围的VCSEL器件ꎬ一直以来都是研究领域的热点ꎮ目前ꎬ实现VCSEL偏振稳定常用的技术包括:非对称电流注入[4]㊁非对称氧化孔径[5]㊁表面浮雕[6]㊁选择性外延生长[7]㊁单层高对比度光栅结构[8]㊁内腔液晶[9]等ꎮ其中集成单层高对比度光栅(HCG)结构的VCSEL具有较优良的单偏振输出特性ꎮHCG可完全替代传统VCSEL的上DBR反射镜结构ꎬ同时对两个正交偏振态光波之间引入较大反射率差ꎬ从而输出稳定的单偏振模式ꎮChang ̄Hasnain课题组报道的HCG ̄VCSEL结构具有稳定的单偏振模式能力ꎬ并且引入MEMS结构控制HCG产生位移ꎬ在一定范围内使VCSEL的输出波长可以连续调谐ꎬ该结构已经分别在850ꎬ1060ꎬ1550nm等VCSEL的常用波段先后得到了证实[10 ̄12]ꎮ2006年ꎬLevalloisa等首次提出了通过腔内嵌入液晶层结构来实现对VCSEL输出偏振模式的调控[13]ꎬ利用液晶的双折射特性来增大腔内偏振模式间的阈值增益差ꎬ该方法同样可以使VCSEL具有稳定的单偏振模式输出特性ꎮ同时ꎬ液晶作为一种电光折射率调制材料ꎬ在外加电压的作用下通过改变e光的等效折射率可以使VCSEL的输出波长连续调谐[14]ꎮ该方法不仅拓展了VCSEL的功能性ꎬ同时由于放弃了MEMS的调谐方式ꎬ使得其制作工艺更加简单ꎬ可靠性高ꎮ因此ꎬ结合内腔液晶结构的可调谐VCSEL受到了广泛关注ꎬ成为研究热点之一ꎮ
本文设计了一种基于内腔液晶的宽调谐范围㊁偏振稳定的850nm可调谐VCSEL结构ꎮ通过传输矩阵法研究了液晶厚度影响可调谐VCSEL偏振模式和波长调谐的机理ꎮ同时ꎬ通过优化半导体腔和液晶腔之间的耦合层结构ꎬ使得基于液晶的可调谐VCSEL结构在实现稳定偏振模式输出的基础上具有更宽的波长调谐范围ꎮ
2㊀液晶VCSEL结构设计
设计的基于向列相液晶的VCSEL器件结构如图1所示ꎮ该VCSEL由以下几部分组成ꎬ分别是半VCSEL结构㊁耦合层㊁液晶层和顶部DBR结构ꎮ其中ꎬ半VCSEL结构沿外延生长方向主要包括背面电极㊁GaAs衬底㊁底部n ̄DBR㊁有源区以及激光器注入电极等ꎻ液晶层包括间隔层和向列相型液晶ꎻ顶部DBR区包括顶部多层SiO2/TiO2介质膜DBR㊁玻璃基底㊁电极等ꎮ液晶垂直腔面发射激光器采用多片集成技术制备ꎬ即VCSEL阵列的半VCSEL区㊁液晶层区和顶部DBR区3个部分分别制备ꎬ在半VCSEL区制备完成后在其上面制作间隔层形成液晶单元ꎬ通过旋涂法填充液晶ꎬ最后将上DBR部分覆盖在液晶之上并密封ꎬ最终获得结构完整的液晶
VCSELꎮ
ITO薄膜
顶部DBR
液晶层
耦合层
氧化限制层
有源区
底部DBR
衬底
电极
图1㊀液晶垂直腔面发射激光器阵列结构
Fig.1㊀Structureofliquidcrystalverticalcavitysurfaceemit ̄tinglaserarray
增大偏振模式间的损耗差或增益差是使VC ̄SEL实现偏振稳定的关键因素ꎮ本文利用液晶所具有的双折射(具有两种不同的折射率no和ne)特性使不同偏振模式的共振波长发生分离ꎬ从而增大偏振模式间的增益差ꎬ进而实现VCSEL稳定的偏振模式输出ꎮ其中ꎬ影响液晶可调谐VCSEL偏振特性的参数主要包括液晶层的厚度以及ne和no的折射率差等ꎮ因此ꎬ对液晶参数的确定是设计过程中的关键因素ꎮ为了计算液晶折射率随波长的变化ꎬ采用与实验结果拟合较好的柯西方程来计算ꎬ如公式(1)所示:
㊀第10期王小龙ꎬ等:宽范围㊁偏振稳定的850nm液晶可调谐垂直腔面发射激光器特性1289
㊀neꎬoɸAeꎬo+
Beꎬoλ2+Ceꎬo
旋转座椅
λ
4ꎬ(1)
其中ꎬAeꎬo㊁Beꎬo和Ceꎬo分别为液晶o光和e光的柯
西系数ꎮ通过查阅文献[15]ꎬ在25ħ时ꎬ液晶E7的柯西系数取值分别为:Ae=1.6933ꎬBe=0.0078ꎬCe=0.0028ꎬAo=1.4994ꎬBo=0.007ꎬCo=0.0004ꎮ由公式(1)计算得到液晶折射率分别为
no=1.5036和ne=1.6899ꎮ
3㊀模拟结果
3.1㊀偏振特性优化
在LC ̄VCSEL结构的优化过程中ꎬ液晶层的厚度是影响器件输出偏振态的主要因素ꎮ因此ꎬ有必要进一步地分析液晶厚度对偏振模式间的共振波长以及阈值增益差的影响ꎮVCSEL的共振波长由腔模位置决定ꎬ可以通过光学传输矩阵法
[16]
计算VCSEL多层结构的反射谱来获得ꎬ其
传输矩阵表达式为:
[]
=ᵑk
j=1cos(δj
)
njsin(δj)injsin(δj)cos(δj)æèççöø÷÷1n
k+1
[]
(2)
式中B㊁C为矩阵单元ꎬnj和δj分别是第j层膜的折射率以及通过第j层膜后的相位差ꎬ其表达式为:
δj=
2πλnj+iαjλ4πæèç
ö
ø
÷
djꎬ(3)
其中αj㊁nj和dj分别是吸收系数㊁折射率和物理厚度ꎮ膜系的反射率可由公式(4)计算得到:
R=(n0B-C)(n0B-C)∗
(n0B+C)(n0B+C)∗
(4)
通过计算不同波长对应的反射率可得到膜系整体的反射谱ꎬ谱线中的缺陷位置对应的波长即为VCSEL的共振波长ꎮ本文使用Rsoft软件对液晶可调谐VCSEL结构进行建模ꎬ通过计算不同液晶厚度时多层膜系的反射谱和腔膜位置ꎬ即可获得液晶厚度与VCSEL共振波长的变化关系ꎮ图2为液晶厚度等于0.5μm时的膜系反射谱ꎬ其中谱线缺陷位置对应的波长即为VCSEL在液晶厚度为0.5μm时的共振波长ꎮ通过求解㊁整合不同液晶厚度时对应的腔膜位置即可得到液晶厚度与共振波长的关联ꎮ
公式(5)
用来计算两种偏振模式的阈值增益
0.80.75
0.95
姿/滋m
R e f l e c t i v i t y
0.80
0.850.90
1.00.60.40.2
图2㊀液晶厚度为0.5μm时ꎬLC ̄VCSEL的反射谱ꎮFig.2㊀LC ̄VESELreflectionspectrumatthethickness0.5
μmofLC
随液晶厚度的变化关系:
Gth=
1Γα+1Lln
1R1R2æè
çöø
÷ꎬ(5)
其中L为液晶VCSEL的等效腔长ꎬΓ为光限制因子ꎬR1和R2分别为上下DBR反射率ꎬα为腔内吸收系数ꎮ共振波长和阈值增益的计算结果如图3所示ꎮ其中图3(a)为25ħ时ꎬ不同液晶厚度与腔内共振波长的关系ꎬ其中红曲线为寻常光(no)ꎬ黑曲线为非寻常光(ne)ꎮ从图中可以发现ꎬ液晶的 双折射 特性使得腔内两种偏振模式的共振波长存在分离ꎮ偏振模式间
4
Thickness /滋m
姿/n m
1
23890850830810
880870860840820n e
n o
(a )
04
Thickness /滋m
T h r e s h o l d g a i n /c m -1
33000n e n o
(b )
2000
1000
12图3㊀不同的液晶厚度与共振波长(a)和阈值增益(b)的
关系
Fig.3㊀Relationshipbetweendifferentliquidcrystalthickness
andresonancewavelength(a)andthresholdgain(b)
1290㊀发㊀㊀光㊀㊀学㊀㊀报第41卷
的波长差异呈现周期性变化ꎬ例如当液晶厚度为2.2~2.4μm时ꎬ两种偏振模式的共振波长曲线存在几乎重合的情况ꎮ当继续增大液晶厚度时ꎬ模式间差异重新变得明显ꎮ随着液晶厚度的增大ꎬ两种偏振模式的自由光谱范围均呈现减小的趋势ꎮ两种偏振模式的阈值增益随液晶厚度变化的关系如图3(b)所示ꎮ由于共振波长的分离ꎬ使得偏振模式间的阈值增益也同样存在明显的差异ꎮ通过设置合适的液晶厚度ꎬ可以使得ne模式相比于no模式始终具有更小的阈值增益ꎬ从而使得器件始终输出稳定的单偏振模式ꎮ随着液晶厚度的增大ꎬ由于更多的光场将存在于液晶层内ꎬ这会使得器件整体的光场限制因子减小ꎬ从而导致阈值增益的增大ꎮ
因此ꎬ一味地增大液晶厚度对于器件的波长调
谐范围和阈值都是不利的ꎮ
为了更清晰地观察液晶厚度对偏振模式间的共振波长和阈值增益的影响ꎬ分别将图3(a)㊁(b)中的两条曲线相减(ne-no)ꎬ得到了在不同液晶层厚度时两种偏振模式的波长差和阈值增益差ꎬ如图4所示ꎮ
4
Thickness /
滋m
Δ姿/n m
23
60-2040200-40-60(a )
-80
1
4
Thickness /滋m
T h r e s h o l d g a i n d i f f e r e n c e /c m -1
23
1000
-1000
(b )1
图4㊀不同液晶厚度时ꎬ两种偏振模式的共振波长差(a)
和阈值增益差(b)ꎮ
Fig.4㊀Resonancewavelengthdifference(a)andthreshold
gaindifference(b)ofthetwopolarizationmodeswithdifferentliquidcrystalthickness
根据图4的结果可以更容易地确定液晶层的初始厚度ꎬ使得两种偏振模式间的共振波长满足图5所示的调谐过程ꎮ其中ꎬ红线和蓝线分别代表e光和o光的腔纵模位置ꎬ黑线代表材料增益曲线ꎮ由于o光的折射率不随液晶倾角的改变而发生变化ꎬ因此当确定液晶厚度后ꎬo光的共振波长也随之确定ꎮ相比于o光ꎬe光在波长连续调谐的过程中(由E处移动到Eᶄ处时)始终更靠近材料的增益峰ꎬ使得o光在模式竞争中一直处于受抑制的状态ꎬ从而器件在调谐过程中将始终具有稳定的单偏振模式ꎮ例如ꎬ在液晶厚度为
1.75μm和1.9μm时ꎬ两种偏振模式具有较大的波长分离值ꎬ同时e光具有更低的阈值增益ꎮ
λ
λ
G a i n
G a i n
红外多点触摸屏冲淋房E 调谐过程
E E ′图5㊀偏振稳定的LC ̄VCSEL波长调谐过程Fig.5㊀WavelengthtuningprocessofLC ̄VCSELwithpolari ̄
zationstability
3.2㊀波长调谐范围优化
在传统的液晶可调谐VCSEL结构中ꎬ液晶微腔与半导体腔之间常采用1~2对的中间DBR结构相连ꎮ由于在两个微腔界面存在较大的折射率差ꎬ使得大部分的光场被限制在半导体腔内ꎬ这直接影响了器件的最大波长调谐范围[17]ꎮ本文设计了一种具有内腔耦合层的液晶可调谐VCSEL
结构ꎬ将原有的中间DBR与液晶微腔接触的表面由原来的λ/4n光学厚度变为λ/2nꎮ改变了原有的相位分布ꎬ使更多的光场进入到液晶微腔中ꎬ从而增大器件的波长调谐范围ꎮ建立了如图6所示的两种液晶VCSEL结构模型ꎬ通过对比方式来说
优化后
优化前
姿/4n
耦合层
液晶层
顶部DBR 有源区底部DBR
图6㊀液晶可调谐VCSEL结构示意图
Fig.6㊀SchematicdiagramofliquidcrystaltunableVCSEL
㊀第10期王小龙ꎬ等:宽范围㊁偏振稳定的850nm液晶可调谐垂直腔面发射激光器特性1291㊀明耦合层的加入对器件波长调谐范围的提升ꎮ除
耦合层设置不同外ꎬ其他组成部分均使用相同的结构参数ꎬ包括:λ厚度有源区㊁32对GaAs/Al ̄
GaAs底部DBR㊁1.9μm液晶层㊁1对GaAs/Al ̄GaAs中间DBR以及10对SiO2/TiO2顶部DBRꎮ在实际的波长调谐过程中ꎬ通过外加调谐电压的方式控制液晶分子的旋转ꎬ从而连续地改变液晶分子的等效折射率ꎬ实现输出波长的连续调谐ꎮ等效折射率与液晶分子倾角的关系满足下列公式:
nx=noꎬ
ny=none
n2ocos2θ+n2esin2θꎬ(6)θ的变化范围为0~π/2ꎮ当θ=0时ꎬ液晶非寻常光折射率ne=1.6899ꎬ寻常光折射率no=1.5036ꎮ当θ逐渐增大时ꎬo光的折射率不会发生改变ꎬ而e光的折射率逐渐减小ꎬ直至与o光相等ꎮ本文通过连续地改变e光等效折射率的方法来模拟液晶可调谐VCSEL的波长调谐过程ꎮ
夹筋铝箔图7(a)为液晶可调谐VCSEL在有无耦合层前后的输出波长随e光折射率变化的曲线ꎮ在未加入耦合层前ꎬ由于受到界面处较大反射率的影响ꎬ液晶可调谐VCSEL的最大自由光谱范围为27.4nmꎮ当加入耦合层设计后ꎬ重新优化了器件内部的光场分布ꎬ使得更多的光进入到液晶层中ꎬ极大地提升了器件的自由光谱范围ꎮ结果表明ꎬ具有内腔耦合层的液晶可调谐VCSEL的最大波长调谐范围提升到41.1nmꎬ有效地增大了器件的波长调谐范围和调谐效率ꎮ图7(b)为两种偏振模式输出随e光
折射率变化曲线ꎬ随着e光偏振模式折射率的改变ꎬ输出波长蓝移ꎮ在41.1nm的波长移动范围内ꎬe光共振波长始终具有更低的阈值增益ꎬ并且更靠近材料增益峰位置ꎮ因此ꎬe光偏振模式始终具有更高的量子阱增益ꎬ更容易激射ꎮ相反ꎬo光偏振模式在竞争中将一直处于受抑制状态ꎮ结果表明ꎬ本文设计的具有内腔耦合的液晶可调谐VCSEL结构具有41.1nm的连续波长调谐范围ꎬ并且可实现稳定的偏振模式输出ꎮ
图8是在腔内共振波长都为850nm时ꎬ有无耦合层的腔内纵向光场分布ꎮ可以明显发现ꎬ通过改变半导体腔和液晶腔之间的耦合方式后ꎬ有效地增大了光场在液晶层中的分布ꎮ同时我们
870
1.70  1.50
Refractive index
姿
/
n
m
880(a)
41.1nm
27.4nm
优化后
优化前
860
850
840
830
820
1.65  1.60  1.55
870
PONXL1.70  1.50
Refractive index
姿
/
n
m
(b)
860
850
840
830
820
1.65  1.50  1.55
n e
n o
图7㊀(a)优化前后波长调谐范围曲线ꎻ(b)o光和e光的波长调谐曲线ꎮ
Fig.7㊀(a)Wavelengthtuningrangecurvebeforeandafteroptimization.(b)Wavelengthtuningcurveofoande
beam.
1.0
-31
Position/滋m
N
o
r
m
a
l
i
z
e
d
i
n
t
e
n
s
i
t
y
0.8
0.6
0.4
0.2
-4-2-10
优化前
优化后
图8㊀腔内纵向光场分布
Fig.8㊀Distributionoflongitudinallightfieldinthecavity也对优化前后光场限制因子的变化进行了计算ꎮ结果表明ꎬ在加入耦合层设计后ꎬ光场限制因子由原来的2.62%降低到1.57%ꎮ虽然光限制因子的降低会使得器件的工作阈值增大ꎬ但由于VC ̄SEL本身具有低阈值的特点ꎬ优化后的波长调谐范围相比之前具有明显的提升ꎮ
4㊀结㊀㊀论
本文设计了一种具有宽调谐范围㊁偏振稳定的850nm液晶可调谐VCSEL结构ꎮ通过传输矩

本文发布于:2023-05-15 03:47:53,感谢您对本站的认可!

本文链接:https://patent.en369.cn/patent/4/100178.html

版权声明:本站内容均来自互联网,仅供演示用,请勿用于商业和其他非法用途。如果侵犯了您的权益请与我们联系,我们将在24小时内删除。

标签:液晶   波长   偏振   模式   厚度
留言与评论(共有 0 条评论)
   
验证码:
Copyright ©2019-2022 Comsenz Inc.Powered by © 369专利查询检索平台 豫ICP备2021025688号-20 网站地图