光刻工艺方法和双大马士革工艺方法

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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN110660733A(43)申请公布日 2020.01.07
陶瓷耳环
食品烤箱(21)申请号 CN201910940017.8
(22)申请日 2019.09.30
(71)申请人 上海华力集成电路制造有限公司
    地址 201315 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区康桥东路298号1幢1060室
(72)发明人 赵弘文;蔡孟霖;许邦泓
(74)专利代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司
    代理人 郭四华
(51)Int.CI
权利要求说明书  说明书  幅图
(54)发明名称
    光刻工艺方法和双大马士革工艺方法
(57)摘要
    本发明公开了一种光刻工艺方法,包括步骤:步骤一、在半导体衬底表面形成包括依次叠加的第一底部抗反射涂层、第一光刻胶层、第二底部抗反射涂层和第二光刻胶层组成的双层式光刻胶结构;步骤二、采用第一光罩进行第一次曝光工艺使第一图形结构转移到第一光刻胶层上;步骤三、采用第二光罩进行第二次曝光工艺使第二图形结构转移到第二光刻胶层上;步骤四、对双层式光刻胶结构进行显影并以显影后的双层式光刻胶结构为掩膜对半导体衬底进行刻蚀将第一和第二图形结构同时转移到半导体衬底中,且第一图形结构位于第二图形结构的底部。本发明还公开了一种双大马士革工艺方法。本发明能采用一次显影和一次刻蚀工艺形成两层图形,能提高生产效率和可靠度。
制钢
法律状态
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
家庭智能终端2020-01-07
公开
公开
2020-01-07
公开
公开
2020-02-04
实质审查的生效
实质审查的生效
权利要求说明书
光刻工艺方法和双大马士革工艺方法的权利要求说明书内容是....请下载后查看
说明书
丙烯运输
光刻工艺方法和双大马士革工艺方法的说明书内容是....请下载后查看荸荠去皮机

本文发布于:2023-05-15 01:20:40,感谢您对本站的认可!

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