一种光学转移材料及其制备方法与流程

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1.本发明涉及包装技术领域，特别是涉及一种光学转移材料及其制备方法。

背景技术：

2.近年来包装印刷业随着市场脚步朝着节能环保的方向发展，镭射转移膜就是其中一种，它由原来的复合纸转变而来，在印刷工艺和环保方面有着很强的市场适应率，从以前的直接覆膜到先覆膜再剥离使包装纸的降解率有很大提高，覆膜再利用的节能效果有明显表现。现有的浅纹结构镭射转移膜采用传统热压工艺，树脂涂料为溶剂型，生产过程有溶剂挥发，不利于环保，且传统热压工艺所限，表现力不强，因此采用环保uv压印是必然趋势。
3.环保uv压印采用uv树脂涂层，通过模具将微纳结构压印复制在uv树脂涂层上。目前uv树脂涂层制备转移材料的问题是：在uv树脂涂层上用模具压印浅纹路结构时，uv树脂涂层与镍板之间的粘接力大于基膜与uv树脂涂层的粘接力，uv树脂涂层与模具互粘，难以剥离，制作困难；若为了便于模具脱离，增加基膜与uv树脂涂层的粘接力，又会导致将树脂涂层转移至衬底时基膜剥离困难。
4.前面的叙述在于提供一般的背景信息，并不一定构成现有技术。

技术实现要素：

5.本发明的目的在于提供一种光学转移材料及其制备方法，其uv树脂涂层与模具容易剥离。
6.本发明提供一种光学转移材料的制备方法，包括：提供基膜；在所述基膜上涂布uv树脂涂层；用具有微纳结构的模具将微纳结构模压复制在所述uv树脂涂层上并进行uv固化，模压时在所述uv树脂涂层与模具之间填充隔离剂；在所述uv树脂涂层具有微纳结构的一侧复合基底；剥离所述基膜。
7.进一步地，所述微纳结构深度为0.1～5um。
8.进一步地，所述隔离剂为纳米级，填充厚度为1～20nm。
9.进一步地，所述隔离剂为脱模剂、水汽喷雾、硅油或氟油。
10.进一步地，所述隔离剂填充在所述uv树脂涂层上或所述模具上或同时填充在所述uv树脂涂层与模具上。
11.进一步地，在所述模压工序中，在所述uv树脂涂层与模具接触前设置喷雾装置，通过所述喷雾装置喷设所述隔离剂在所述uv树脂涂层上或所述模具上或同时填充在所述uv树脂涂层与模具上。
12.进一步地，所述隔离剂为水汽喷雾，所述喷雾装置为加湿器。
13.进一步地，在所述uv树脂涂层uv固化后复合基底前，还包括：在所述uv树脂涂层具有微纳结构的表面进行金属沉积形成镀层；所述复合基底步骤为在所述镀层上涂布胶水并与基底粘贴实现复合。
14.本发明还提供一种光学转移材料，由如上所述的制备方法制备而成，包括uv全息
层与基底，所述uv全息层由具有微纳结构的uv树脂涂层形成。
15.本发明还提供一种光学转移材料，由如上所述的制备方法制备而成，从上至下依次包括uv全息层、镀层、胶层以及基底，所述uv全息层由具有微纳结构的uv树脂涂层形成，所述胶层由所涂布的胶水形成。
16.本发明提供的光学转移材料及其制备方法，通过模压时在uv树脂涂层与模具之间填充隔离剂，使得uv树脂涂层与模具容易剥离，并且uv树脂涂层转移至基底时基膜剥离容易，从而制作简单，工艺性好，且基膜可循环利用，同时光学转移材料表面无基膜，环保易降解。
附图说明
17.图1为本发明实施例光学转移材料的制备方法中模压工序第一种方式的示意图。
18.图2为本发明实施例光学转移材料的制备方法中模压工序第二种方式的示意图。
19.图3为本发明实施例光学转移材料的制备方法中模压工序第二种方式的示意图。
20.图4为本发明实施例光学转移材料的示意图。
具体实施方式
21.下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
22.如图1、图2、图3所示，本实施例中，光学转移材料的制备方法包括如下步骤。
23.步骤一、提供基膜11。
24.步骤二、在基膜11上涂布uv树脂涂层12。
25.步骤三、用具有微纳结构的模具14(可为镍板模具)将微纳结构模压复制在uv树脂涂层12上并进行uv固化，模压的同时在uv树脂涂层12与模具14之间填充隔离剂15。本发明的制备方法更适合于制备浅纹结构，微纳结构深度为0.1～5um；隔离剂15的粒径为纳米级，填充厚度为1～20nm，可为脱模剂、水汽喷雾、硅油或氟油等。隔离剂可填充在uv树脂涂层上，也可填充在模具上，还可以同时填充在uv树脂涂层与模具上。
26.本实施例中，是在uv树脂涂层12与模具14接触前设置喷雾装置(如加湿器)，通过喷雾装置喷设隔离剂15(水汽喷雾)在uv树脂涂层12上(如图1)或模具14上(如图2)或同时填充在uv树脂涂层12与模具14上(如图3，喷射在uv树脂涂层12与模具14之间形成)。水汽喷雾可设置温度＜50℃，湿度30％～80％，喷雾装置置雾量3～18kg/h。喷设上的水汽层厚度10um。待压印固化结束后将水汽蒸发烘干。由于水汽层厚度非常薄，对微纳结构深度压印复制无影响，但是可以起到隔离作用，很好地解决了脱模困难的问题。并且，本实施例是在模压工序中填充隔离剂，不需单独另设一道涂布工序，从而能简化工艺流程，缩短设备长度，提高生产效率。uv固化方式可为采用紫外固化灯13进行照射。
27.步骤四、在uv树脂涂层12具有微纳结构的表面进行金属沉积形成镀层。真空镀层可以为介质层、金属层等，例如硫化锌、铝，优选铝。铝层厚度可为30～40nm。
28.步骤五、在镀层上涂布胶水并与基底粘贴，使在uv树脂涂层具有微纳结构的一侧复合基底。
29.步骤六、剥离基膜，得到表面无基膜的光学转移材料。
30.在其它实施例中，步骤四不限于进行金属沉积形成镀层，也可以根据需要采取不同方式，如采用颜油墨填充在微纳结构中形成颜层。或者也可以不设置步骤四，即不进行金属沉积，而是直接在uv树脂涂层具有微纳结构的表面复合基底。步骤五复合基底也不限于采用胶水，还可采用其它不同方式。
31.如图4所示，本实施例还提供一种由如上所述制备方法制备而成的光学转移材料，包括uv全息层21(即具有微纳结构的uv树脂涂层)、镀层22、胶层23(由涂布的胶水形成)以及基底纸张层24(当然基底还可以采用玻璃、皮革、织物等材料)。若上述实施例不形成镀层且不采用胶水，则光学转移材料只包括uv全息层与基底，没有镀层与胶层。
32.该光学转移纸结构简单，采用uv树脂材料可实现更强的表现力和防伪力。纸张表面无基膜，环保易降解，可广泛应用于各类包装装饰领域。
33.与现有技术相比，本实施例提供的光学转移材料及其制备方法，能替代传统的热压制作方法，且通过模压的同时在uv树脂涂层与模具之间填充隔离剂，使得uv树脂涂层与模具容易剥离，并且uv树脂涂层转移至基底时基膜剥离容易，从而制作简单，工艺性好，且基膜可循环利用，同时光学转移材料表面无基膜，环保易降解。
34.在附图中，为了清晰起见，会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。应当理解的是，当元件例如层、区域或基板被称作“形成在”、“设置在”或“位于”另一元件上时，该元件可以直接设置在所述另一元件上，或者也可以存在中间元件。相反，当元件被称作“直接形成在”或“直接设置在”另一元件上时，不存在中间元件。
35.在本文中，用于描述元件的序列形容词“第一”、“第二”等仅仅是为了区别属性类似的元件，并不意味着这样描述的元件必须依照给定的顺序，或者时间、空间、等级或其它的限制。
36.在本文中，除非另有说明，“多个”、“若干”的含义是两个或两个以上。
37.本领域普通技术人员可以理解，实现上述方法实施例的全部或部分步骤可以通过程序指令相关的硬件来完成，前述的程序可以存储于一计算机可读取存储介质中，该程序在执行时，执行包括上述方法实施例的步骤。前述的存储介质包括：rom、ram、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。
38.以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
39.在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，除了包含所列的那些要素，而且还可包含没有明确列出的其他要素。
40.以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

技术特征：

1.一种光学转移材料的制备方法，其特征在于，包括：提供基膜；在所述基膜上涂布uv树脂涂层；用具有微纳结构的模具将微纳结构模压复制在所述uv树脂涂层上并进行uv固化，模压时在所述uv树脂涂层与模具之间填充隔离剂；在所述uv树脂涂层具有微纳结构的一侧复合基底；剥离所述基膜。2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述微纳结构深度为0.1～5um。3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述隔离剂粒径为纳米级，填充厚度为1～20nm。4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述隔离剂为脱模剂、水汽喷雾、硅油或氟油中的任一种或组合。5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述隔离剂填充在所述uv树脂涂层上或所述模具上或同时填充在所述uv树脂涂层与模具上。6.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述模压工序中，在所述uv树脂涂层与模具接触前设置喷雾装置，通过所述喷雾装置喷设所述隔离剂在所述uv树脂涂层上或所述模具上或同时填充在uv树脂涂层与模具上。7.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述隔离剂为水汽喷雾，所述喷雾装置为加湿器。8.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述uv树脂涂层uv固化后复合基底前，还包括：在所述uv树脂涂层具有微纳结构的表面形成镀层；所述复合基底步骤为在所述镀层上涂布胶水并与基底粘贴实现复合。9.一种光学转移材料，其特征在于，由权利要求1至7中任一所述的制备方法制备而成，包括uv全息层与基底，所述uv全息层由具有微纳结构的uv树脂涂层形成。10.一种光学转移材料，其特征在于，由权利要求8所述的制备方法制备而成，从上至下依次包括uv全息层、镀层、胶层以及基底，所述uv全息层由具有微纳结构的uv树脂涂层形成，所述胶层由所涂布的胶水形成。

技术总结

一种光学转移材料的制备方法，包括：提供基膜；在所述基膜上涂布UV树脂涂层；用具有微纳结构的模具将微纳结构模压复制在所述UV树脂涂层上并进行UV固化，模压时在所述UV树脂涂层与模具之间填充隔离剂；在所述UV树脂涂层具有微纳结构的一侧复合基底；剥离所述基膜。本发明提供的光学转移材料及其制备方法，通过模压时在UV树脂涂层与模具之间填充隔离剂，使得UV树脂涂层与模具容易剥离，并且UV树脂涂层转移至基底时基膜剥离容易，从而制作简单，工艺性好，且基膜可循环利用，同时光学转移材料表面无基膜，环保易降解。环保易降解。环保易降解。