包括两个基于氮化钛的层的可加热低-E装配玻璃的制作方法

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包括两个基于氮化钛的层的可加热低-e装配玻璃
1.本发明涉及低辐射绝缘装配玻璃，其装备有包括薄“功能”层(目前为基于氮化钛)的堆叠，也就是说，基本上通过反射和/或吸收近红外(太阳)或远红外(热)辐射而作用于太阳辐射和/或热辐射。本发明更具体针对的应用是首先车辆装配玻璃，例如侧窗、天窗或后窗。在不背离本发明上下文的情况下，本装配玻璃还可以用于建筑工业领域，作为阳光控制装配玻璃。
[0002]“功能”或“活性”层在本专利申请的含义内应理解为表示堆叠的层，所述层赋予堆叠其大部分的热绝缘性质。通常，装配在装配玻璃上的由薄层制成的堆叠非常基本地通过所述活性层的固有性质赋予所述装配玻璃显著改善的绝缘性质。与其它层相比，所述层作用于穿过所述装配玻璃的热红外辐射流，所述其它层通常由介电材料制成，并且通常主要具有所述功能层的化学或机械保护功能。介电材料被理解为是指以下材料，其无大量杂质的形式表现出高电阻率，例如25℃下大于10
10
欧姆
·
米(ω
·
m)的电阻率。
[0003]
这种装备有薄层的堆叠的装配玻璃基本上通过由一个或多个功能层吸收入射辐射或基本上通过由这些相同的层反射而作用于入射的太阳辐射。
[0004]
它们在阳光控制装配玻璃的名称下被集中在一起。它们是可商购的并且基本上用于：-为客厢(机动车辆)或住宅提供基本保护以免受太阳辐射并防止其过热，这种装配玻璃在工业中被描述为遮阳装配玻璃（solar protection glazing），-或基本提供住宅的热绝缘并防止热损失，这些玻璃被描述为绝缘玻璃。
[0005]
热绝缘装配玻璃应理解为表示一种装配玻璃，该装配玻璃配备有赋予其减少的能量损失的至少一个功能层，所述层表现出5至50微米的反射ir辐射的性质。用于该功能的功能层表现出高ir辐射反射系数，并且被称为低辐射(或低-e)。在应用中，例如在机动车辆工业中，经常希望限制进入车辆的客厢的热量，也就是说限制太阳辐射通过装配玻璃的能量传输。在本领域中用于评价这种能力的常规参数是装配玻璃的法向辐射率，如在标准iso 10292 (1994)，annex a中计算的。
[0006]
通常，本说明书中所给出的所有光和热特性是根据国际标准iso 9050 (2003)和iso 10292 (1994)中所述的原理和方法获得的，分别涉及建筑工业用玻璃中所用装配玻璃的光和能量特性的测定。
[0007]
目前特别探寻另外提供改善的视觉舒适性的装配玻璃，特别是在机动车辆领域(作为侧窗、后窗或也作为天窗)。为了满足这种需求，本发明的目的之一是提供合适的装配玻璃，其允许车辆的乘客或建筑物的居住者在日间光下不可或几乎不可从外部被看到，但能够在他们所位于的侧看到外部环境而没有任何麻烦。这种装配玻璃从外部起包括第一玻璃基材，优选以其本体着（tinted in its bulk），通过中间热塑性片材粘结到第二基材上，所述中间热塑性片材特别由pvb制成，其也可以着，所述第二基材优选由透明玻璃制成，并且装备有所述层的堆叠，所述层的堆叠优选位于其朝向车厢内部暴露的面上。根据这一要求，目前市场需要由涂有本层的堆叠的透明玻璃制成的构造制品的光透射率包括20至40%，以得到光透射率低于10%的最终层合装配玻璃。此外，还需要由涂有本层的堆叠的透明
玻璃制成的构造制品的低光反射率，特别是在沉积所述堆叠的制品侧上测量时，低于10%，优选约或低于5%。
[0008]
装配玻璃的另一个基本特性是其承受热处理，并且更特别是弯曲的能力，更特别是在车辆装配玻璃领域中。
[0009]
这种能力通常首先通过在这种处理之后出现(更确切地说不存在)物理损坏来测量，所述物理损坏例如出现在涂层中并且对于车辆乘客高度可见的裂纹。
[0010]
另一个标准也是已经经历所述热处理的装配玻璃保持(或甚至改进)其绝热性质的能力，如通过上述法向辐射率所测量的。
[0011]
目前出售的解决前述复杂问题的最有效的堆叠通常通过磁控溅射技术沉积，并结合银型金属层，该银型金属层基本上以反射大部分入射ir (红外)辐射的模式操作。因此，这些堆叠主要用作低辐射(或低-e)类型的装配玻璃，用于建筑物以及车辆的热绝缘。然而，这些层对湿气非常敏感，其说明它们几乎不可以用于单个装配玻璃上，并且因此主要用于双层装配玻璃或层合装配玻璃在其面2或3上，以便防止湿气。根据本发明的堆叠不包括这种银型的层，或者实际上不包括金或铂型的层或实际上不包括铜型的层。更一般而言，根据本发明的堆叠不含有这种贵金属，或者以非常可忽略量含有，特别是以不可避免的杂质形式。
[0012]
已经提出了基于堆叠的其它绝缘装配玻璃，其中氮化钛或氮氧化钛作为一个或多个功能层，使用氮化硅作为在所述功能层之上和之间的上述介电层，例如在公开wo2019/002737或us10294147b2中。然而，如下文报道的，由申请人进行的实验显示，当这种装配玻璃的涂层在其经历如弯曲的热处理（如目前在本技术的技术领域中操作的）时，其表现出裂纹。
[0013]
于是，鉴于某些特定的应用或安排，使得开发新颖的且适合的堆叠成为必要。
[0014]
根据申请人公司获得的结果，上述问题已经通过现在描述的玻璃制品和装配玻璃解决。
[0015]
根据第一方面，本发明涉及具有阳光控制性质的玻璃制品，更特别地可用于制造车辆装配玻璃例如汽车车顶或用于制造建筑物的建筑装配玻璃，其包括至少一个装备有层的堆叠的玻璃基材，其中所述堆叠从所述基材的表面依次包括：-第一模块m1，由包含介电材料并且优选基于介电材料的一个或多个层组成，-包含氮化钛的第一层tin1，-第二模块m2，由包含介电材料并且优选基于介电材料的一个或多个层组成，-包含氮化钛的第二层tin2，-第三模块m3，由包含介电材料并且优选基于介电材料的一个或多个层组成，其中包含氮化钛的tin1和tin2层的厚度的累积和为25至60 nm，其中第三模块m3包括厚度大于10 nm的包含氧化硅或氮氧化硅的层，并且其中在所述第二层tin2和所述第三模块m3之间沉积钛、铝、硅、这些元素中至少两种的合金、或镍铬合金的中间层il，所述中间层il的厚度为0.5 nm至7 nm。
[0016]
更特别地，本发明涉及一种玻璃制品，特别是具有阳光控制性质的车辆或建筑物装配玻璃，其包括至少一个装备有层的堆叠的玻璃基材，其中所述堆叠从所述基材的表面依次包括：-第一模块m1，其包括厚度t1的基于介电材料的层或累积厚度t1的基于介电材料的一组层，-第一tin1层，其包含氮化钛，具有10纳米至30纳米的厚度，-第二模块m2，其包括厚度t2的基于介电材料的层或累积厚度t2的基于介电材料的一组层，-第二tin2层，其包含氮化钛，具有10纳米至30纳米的厚度，-第三模块m3，其包括厚度t3的基于介电材料的层或累积厚度t3的基于介电材料的一组层，其中包含氮化钛的tin1和tin2层的厚度的累积和为25至60 nm，其中第三模块m3包括包含氧化硅或氮氧化硅的层，其厚度大于10 nm，优选大于20 nm，和其中，钛、铝、硅、这些元素中至少两种的合金、或镍铬合金的中间层il沉积在所述第二层tin2和所述第三模块m3之间，所述中间层il的厚度为0.5 nm至7 nm，优选1 nm至6 nm。
[0017]
已经发现，这种制品可以有效地解决上述技术问题。
[0018]
本发明的优选实施方案在所附权利要求中报告，其，当然并且如果合适，可以彼此组合。
[0019]
根据其它优选实施方案，但不是全部报告在权利要求中的：-基于氮化钛的第一层和基于氮化钛的第二层的累积厚度tin
1 + tin2小于50 nm，优选地小于45 nm。
[0020]-厚度之比t1/t3小于0.55。
[0021]-基于氮化钛的第一层的厚度tin1为15 nm至25纳米，包括界限。
[0022]-基于氮化钛的第二层的厚度tin2为15 nm至25纳米，包括界限。
[0023]-第一模块m1的厚度t1为1 nm至50纳米，包括界限，-第一模块m1的厚度t1小于25 nm，特别地为1 nm至25纳米，包括界限，优选地为4 nm至20纳米，包括界限。
[0024]
第二模块m2的厚度t2为20 nm至100 nm，包括界限，-第二模块m2的厚度t2为20 nm至100 nm，包括界限，优选为25 nm至80 nm，包括界限。
[0025]-第三模块m3的厚度t3为20 nm至65纳米，包括界限，优选为25 nm至60纳米，包括界限，并且非常优选为30 nm至50纳米，包括界限。
[0026]-涂层不含有基于银或基于金的层。
[0027]-涂层不含有基于透明导电层(tco)如ito或sno2:f的层。
[0028]-m1由基于介电材料的单层组成。
[0029]-m1包括且更优选地为包含氮化硅或氧化硅，优选基于氮化硅或基于氧化硅的单层，且更优选地为包含或基于氮化硅的单层。
[0030]-m2是包含或基于单一介电材料的单层，所述单一介电材料优选地选自氧化硅或氮氧化硅，优选地包含或基于二氧化硅。
[0031]-m2是由介电材料制成的一组层，优选地包括包含或基于选自氧化硅或氮氧化硅
的材料的层。
[0032]-m2包括至少一包含氮化硅的层和一包含氧化硅的层，在氮化钛层和包含氧化硅的层之间沉积一个或多个中间层il。
[0033]-m2是由介电材料制成的一组层，所述组由包含或基于选自氧化硅或氮氧化硅的材料的一个或多个层和包含或基于氮化硅的一个或多个层构成。
[0034]-m2是由介电材料制成的一组层，所述组由包含或基于氮化硅的第一层、包含或基于选自氧化硅或氮氧化硅的材料的层以及包含或基于氮化硅的第二层构成。
[0035]-基于氮氧化硅的层的特征在于在550 nm下介于未氮化的氧化物层与未氧化的氮化物层之间的折射率。基于氮氧化硅的层优选地具有在550 nm下大于1.55、1.60或1.70或在1.55至1.99的折射率；1.60至1.97的折射率；1.70至1.95的折射率或1.70至1.90的折射率。
[0036]-上述氮氧化硅材料呈现出0.94至0.25的摩尔比o/(o + n)，优选地0.87至0.36的摩尔比o/(o + n)。
[0037]-m3不包括包含氮化硅的层。
[0038]-m1和m3是单层。
[0039]
‑ꢀ
tin1层具有大于tin2层的厚度。
[0040]
‑ꢀ
tin2层具有大于tin1层的厚度-一个或多个中间层il的厚度为1至6 nm，更优选2至5 nm，包括界限。
[0041]-一个或多个中间层il由钛、铝、硅、这些元素中的至少两种的合金制成，并且更优选地由钛制成。
[0042]-其上沉积有堆叠的玻璃基材由透明玻璃制成。
[0043]-装配玻璃包括由热塑性片材组装的两个玻璃基材，所述装配玻璃装备有所述层的堆叠，所述堆叠优选地位于基材面向所述装配玻璃的外表面的面上。
[0044]-前述装配玻璃包括第一玻璃基材，优选以其本体着，通过中间热塑性片材，特别是由pvb制成的中间热塑性片材粘结到第二基材上，所述第二基材由透明玻璃制成，并且装备有所述层的堆叠，所述层的堆叠优选位于其朝向所述装配玻璃的外表面暴露的面上。以其本体着理解为是指基材在其玻璃组合物中包含旨在赋予其着的元素(即，不同于“透明”玻璃的元素)，特别是诸如钴、铁、硒、实际上甚至是铬的元素，所述元素也可以旨在降低其光透射率。
[0045]-所述一个或多个玻璃基材被回火或弯曲。
[0046]
优选地，氮化钛层基于氮化钛，或者更优选地基本上由氮化钛制成。
[0047]
根据本发明的基于钛的层包含例如大于50重量%的氮化钛，优选大于80重量%或甚至大于90重量%的氮化钛。
[0048]
根据本发明的氮化钛不必是化学计量的(ti/n原子比为1)，而可以是过化学计量或亚化学计量的。根据一个有利的实施方案，n/ti比为1至1.2。此外，根据本发明的氮化钛可以包含少量的氧，例如1摩尔%至10摩尔%的氧，特别是1摩尔%至5摩尔%的氧。
[0049]
根据特别优选的形式，根据本发明的氮化钛层对应于通式tin
x
oy，其中1.00＜x＜1.20且其中0.01＜y＜0.10。
[0050]
然而，介电材料一旦以薄层的形式沉积，就可以包含所用的额外的元素，所述元素
显著增加其电导率，例如用于提高构成磁控靶的前体材料的阴极溅射效率。优选地，模块m1、m2和m3包括选自基于氮化硅、氮氧化硅和氧化硅的材料的一个或多个层或由其组成。基于氮化硅、氧化硅或氮氧化硅的材料是例如主要且优选基本上由这种化合物制成的材料，但是其尽管如此也可以含有其它少数元素，特别是作为阳离子的替代物，特别是为了促进通过如上所述的磁控溅射的常规技术以薄层形式的沉积。例如，由氮化硅或氮氧化硅，事实上甚至由氧化硅，特别是由磁控沉积的那些制成的根据本发明的层通常包含附加元素如al、zr、b等，其比例可以是例如基于阳离子(即所述层内除o和n以外的原子)总量为至多10原子%，甚至有时至多20原子%或甚至至多30原子%。
[0051]
根据本发明的装配玻璃可以是包含（可能以其本体着，tinted in its mass）单一玻璃基材的单一装配玻璃，其中薄层的堆叠位于单一装配玻璃的面2上，基材的面从其所装备的建筑物或客厢的外部向内部编号。
[0052]
根据另一个实施方案，特别是用于机动车辆领域，根据本发明的装配玻璃可以是层合装配玻璃，其包括由热塑性片材组装的两个玻璃基材，所述装配玻璃装备有如上所述的层的堆叠。优选地，堆叠沉积在基材面向其所装备的建筑物或客厢的内部的面上。
[0053]
上述玻璃制品可以非常明显地被回火和/或弯曲。
[0054]
根据本发明的制品/装配玻璃的制造方法包括例如至少以下阶段：-将玻璃基材引入阴极溅射装置中，-在第一隔室中，沉积至少一个介电材料的底层，-在随后的隔室中，通过由含氮气体产生的等离子体溅射钛靶，-在随后的隔室中，沉积介电材料的至少一个中间层，-在随后的隔室中，通过由含氮气体产生的等离子体溅射钛靶，-在随后的隔室中，沉积介电材料的至少一个覆盖层。
[0055]
此外，当在堆叠内适当时，在中间隔室中，通过由氩气产生的等离子体溅射由钛、铝、硅、这些元素中的至少两种的合金或镍铬合金制成的金属靶，用于沉积上述il中间层。
[0056]
在本说明书中，术语“底层”和“覆盖层”是指所述层相对于堆叠中的一个或多个功能层的相应位置，所述堆叠由玻璃基材支撑。特别地，当堆叠含有单个底层和单个覆盖层时，底层是与玻璃基材接触的层，并且覆盖层是堆叠的最外层，背向基材。
[0057]
术语“中间层”表示位于分别设置在其下和其上的两个相关层之间的一个或多个层，该相关层之一通常为包含氮化钛的层。
[0058]
在本发明的含义内，层的厚度应理解为意指层的真实几何厚度，如可以具体地通过常规电子显微镜技术或类似技术测量的。
[0059]
根据本发明的涂层通常通过待沉积材料或材料前体的阴极的磁场辅助真空溅射类型的沉积技术来沉积，所述沉积技术在本领域中通常称为磁控溅射技术。这种技术目前被广泛使用并且是公知的，特别是当待沉积的涂层由厚度为几纳米或几十纳米的连续层的更复杂的堆叠组成时。根据本发明的一个或多个金属中间层(il)通过在惰性气体(通常为氩气)的中性气氛中溅射由相应金属制成的靶而沉积。例如，通过在100%氩气氛中溅射钛靶来沉积ti制成的中间层。然而，主张可能在热处理过程中，例如在最终装配玻璃的弯曲或回火中，该中间层的一部分可以部分氧化或氮化。
[0060]
下面通过非限制性实施例更详细地描述本发明及其优点，所述实施例是根据本发
明的和对比的。在所有的实施例和说明书中，除非另有说明，给出的厚度是几何厚度。
[0061]
实施例的所有基材由saint-gobain glass france出售的planiclear型厚度为2 mm的透明玻璃制成。所有层都以已知的方式通过磁场辅助阴极溅射来沉积，通常称为如上所述的磁控阴极溅射。
[0062]
以公知的方式，在阴极溅射装置的连续隔室中沉积不同的连续层，每个隔室在适当气氛中装备有由si (掺杂有铝)或ti制成的特定金属靶，如选择用于沉积堆叠的特定层。
[0063]
更具体地说，在含有与氩气混合的氮气的反应性气氛中，由金属硅靶(掺杂有8重量%的铝)在设备的隔室中沉积氮化硅层。因此，氮化硅层也含有铝。
[0064]
更具体地说，在含有与氩气混合的氧气的反应性气氛中，由相同的金属硅靶(掺杂有8重量%的铝)在设备的隔室中沉积氧化硅层。因此，氧化硅层也含有铝。
[0065]
因此，本领域技术人员将理解，在本发明的含义内，这些层被认为是基于氮化硅或氧化硅的。
[0066]
在仅含有氮气和氩气的反应性气氛中，由纯金属钛靶在设备的其它隔室中沉积氮化钛层。
[0067]
在仅含有氩气的气氛中，从相同的纯金属钛靶在装置的隔室中沉积钛中间层。
[0068]
用于磁控沉积这些层的条件在技术上是本领域公知的。
[0069]
在随后的实施例中，玻璃基材因此连续地被包括两个由氮化钛(为了方便，随后表示为tin，即使层的实际化学计量并非必须如此)制成的功能层的层的堆叠覆盖。对于所有的实施例，置于玻璃表面和第一功能层tin1之间的第一模块m1由氮化硅(为了方便，随后表示为si3n4，即使层的实际化学计量并非必须如此)制成。使用氮化硅或氧化硅(为了方便，随后表示为sio2，即使层的实际化学计量并非必须如此)对第二模块m2和第三模块m3的不同构造进行实验，以检查所得到的堆叠在提供热绝缘性质的同时经受住诸如弯曲工艺的加热方法的能力，随着所使用材料的变化而变化。
[0070]
根据用于磁控沉积的常规技术调节沉积条件，以便获得不同的堆叠，其层序列及其厚度(以纳米nm计)在下表1中给出，从玻璃表面开始：
*对比**根据本发明a-装配玻璃特性的测量根据以下原理和标准测量由此获得的玻璃制品的热和光学特性：1
°
)光学性质：根据欧洲标准iso 9050 (2003)进行测量。更具体而言，根据光源d
65
，在380和780 nm之间测量堆叠r
lc
侧上的光透射率t
l
和光反射率。
[0071]2°
)热性质：玻璃制品的热绝缘性质通过测定在热弯曲过程之前和之后，在覆盖有层的堆叠的基材的内面上，根据标准iso 10292 (1994)，附录a中所述的条件测量的法向入射辐射率来评价。
[0072]
测量装备有堆叠的装配玻璃的光透射率t
l
、光反射率r
lc
和光法向辐射率值(以百分比计)。
[0073]
b-结果将根据上述实施例的单片玻璃制品获得的结果一起集中至表2，其如下：观察到根据本发明获得的这种玻璃制品表现出低的光反射率(小于10%)，然而光透射率没有过分高(约20-25%)。这种特性使得这种玻璃制品能够作为装配玻璃的一部分插入，所述装配玻璃例如市场所需的天窗，其适于令车辆乘客或装备有这种装配玻璃的建筑物的居住者可以无阻挡地观察车辆外部的用途。
[0074]
根据比较例1 (根据前面引用的现有技术)的制品不能经受所施加的热处理，如观察到的非常大量的裂纹所示。然而，其能量绝缘性能是可接受的，如由低辐射率值表示的。根据比较例2和3的装配玻璃，其中若干一个或多个氮化硅层已经被一个或多个其它的氧化硅代替，具有更好的耐热处理性，但是热绝缘性质降低。
[0075]
通过比较，根据本发明的实施例4至6在耐热处理性和热绝缘性能之间呈现最佳折衷。特别地，实施例5和6表现出与现有技术中的堆叠所获得的辐射率值(参见实施例1)相当的辐射率值，但在弯曲加工后没有裂纹。

技术特征：

1.一种具有阳光控制性质的玻璃制品，其包括至少一个装备有层的堆叠的玻璃基材，其中所述堆叠从所述基材的表面开始依次包括：-由至少一个层制成的第一模块m1，所述一个或多个层包含介电材料，-包含氮化钛的第一层tin1，-由至少一个层制成的第二模块m2，所述一个或多个层包含介电材料，-包含氮化钛的第二层tin2，-由至少一个层制成的第三模块m3，所述一个或多个层包含介电材料，其中包含氮化钛的tin1和tin2层的厚度的累积和为25至60 nm，其中所述第三模块m3包括厚度大于10 nm的包含氧化硅或氮氧化硅的层，并且其中在所述第二层tin2和所述第三模块m3之间沉积钛、铝、硅、这些元素中至少两种的合金、或镍铬合金的中间层il，所述中间层il的厚度为0.5 nm至7 nm。2.根据权利要求1的玻璃制品，其包括至少一个装备有层的堆叠的玻璃基材，其中所述堆叠从所述基材的表面依次包括：-第一模块m1，其包括厚度t1的基于介电材料的层或累积厚度t1的基于介电材料的一组层，-第一tin1层，其包含氮化钛，具有10纳米至30纳米的厚度，-第二模块m2，其包括厚度t2的基于介电材料的层或累积厚度t2的基于介电材料的一组层，-第二tin2层，其包含氮化钛，具有10纳米至30纳米的厚度，-第三模块m3，其包括厚度t3的基于介电材料的层或累积厚度t3的基于介电材料的一组层，其中包含氮化钛的tin1和tin2层的厚度的累积和为25至60 nm，其中第三模块m3包括厚度大于10 nm的包含氧化硅或氮氧化硅的层，以及其中钛、铝、硅、这些元素中至少两种的合金、或镍铬合金的中间层il沉积在所述第二层tin2和所述第三模块m3之间，所述中间层il的厚度为0.5 nm至7 nm。3.根据前述权利要求之一的玻璃制品，其中所述中间层il与氧化硅或氮氧化硅的所述层直接接触。4.根据前述权利要求之一的玻璃制品，其包括以下层序列，每层优选与下一层直接接触：tin2/il/sio (n) /任选的tizro，其中sio(n)代表所述层包含氧化硅或氮氧化硅，并且tizro代表氧化钛、氧化锆或钛与锆的氧化物的层，其厚度优选为1至5 nm的并且il优选代表通过沉积钛或包含钛的合金获得的层。5.根据前述权利要求之一的玻璃制品，其中所述模块m1包括包含氮化硅并且优选基于氮化硅的层，并且优选由包含氮化硅并且优选基于氮化硅的层组成。6.根据前述权利要求之一的玻璃制品，其中m2模块包括包含氧化硅或氮氧化硅的层，优选具有大于20 nm的厚度，且其中在a) tin1层和/或tin2层与b)所述包含氧化硅或氮氧化硅的层之间的堆叠内沉积钛、铝、硅、这些元素中至少两种的合金或镍铬合金的至少一个中间层il，所述一个或多个中间层优选与包含氧化硅或氮氧化硅的所述层直接接触，所述中间
层具有1至7 nm的厚度。7.根据前述权利要求的玻璃制品，其中所述堆叠包括以下层序列，每层优选地与下一层直接接触：tin1/il/sio(n)/il/tin2，其中sio(n)代表包含氧化硅或氮氧化硅的层，并且il优选代表通过沉积钛或包含钛的合金获得的层。8.根据权利要求6的玻璃制品，其中所述堆叠包括以下层序列，每层优选与下一层直接接触：tin1/il/sio(n)/sin
x /任选的il/tin2其中sin
x
代表包含氮化硅的层，sio(n) 代表包含氧化硅或氮氧化硅的层，并且il优选代表通过沉积钛或包含钛的合金而获得的层。9.根据权利要求6的玻璃制品，其中所述堆叠包括以下层序列，每层优选与下一层直接接触：tin1/il/sio(n)/sin
x
/sio(n)/il/tin2其中sin
x
代表包含氮化硅的层，sio (n) 代表包括氧化硅或氮氧化硅的层，并且il优选代表通过沉积钛或包含钛的合金而获得的层。10.根据权利要求6的玻璃制品，其中所述堆叠由连续的层从基材表面的构成，每层优选与下一层直接接触：(玻璃)/sin
x
/tin1/il/sio(n)/il/tin2/il/sio(n) /任选的tizro，其中sin
x
代表包含氮化硅的层，并且sio(n)代表包含氧化硅或氮氧化硅的层，il优选代表通过沉积钛或包含钛的合金而获得的层，并且tizro代表氧化钛、氧化锆或钛和锆的氧化物的层，其厚度优选为1至5 nm。11.根据权利要求6的玻璃制品，其中所述堆叠包括以下层序列，每层优选与下一层直接接触：(玻璃)/sin
x
/tin1/il/sio(n)/sin
x /任选的il/tin2/il/sio(n) /任选的tizro，其中sin
x
代表包含氮化硅的层，并且sio(n)代表包含氧化硅或氮氧化硅的层，il优选代表通过沉积钛或包含钛的合金而获得的层，并且tizro代表氧化钛、氧化锆或钛和锆的氧化物的层，其厚度优选为1至5 nm。12.根据权利要求8至11的玻璃制品，其中所述m2模块中包括的一个或多个sio(n)层的累积厚度与sin
x
层厚度之间的比高于2，优选为2.5至5。13.根据前述权利要求之一的玻璃制品，il是通过沉积钛或包含钛的合金获得的层。14.根据前述权利要求之一的玻璃制品，其中所述tin1层的厚度为10 nm至25 nm，并且所述tin2层的厚度为15 nm至25 nm，包括界限。15.根据前述权利要求之一的玻璃制品，其中所述第一模块m1的厚度t1为1 nm至50 nm，包括界限，其中所述第二模块m2的厚度t2为20 nm至100 nm，包括界限，并且其中所述第三模块m3的厚度t3为20 nm至65 nm，包括界限。16.一种装配玻璃，特别是作为车辆的车顶，其包括如前述权利要求中任一项的单一玻璃制品，其中所述玻璃基材优选是着的，并且其中所述层的堆叠优选位于装配玻璃的旨在朝向车厢或建筑物内部暴露的面上。
17.一种装配玻璃，特别是用作车辆的车顶，其从外部包括第一玻璃基材，优选以其本体着，通过中间热塑性片材粘结到前述权利要求中任一项的玻璃制品上，所述中间热塑性片材更特别地由也可以着的pvb (聚乙烯醇缩丁醛)制成，其中所述层的堆叠优选位于装配玻璃的朝向车厢内部暴露的面上。

技术总结

一种具有阳光控制性质的玻璃制品，其包括至少一个具有层的堆叠的玻璃基材，其中所述堆叠从所述基材的表面依次包括由介电材料的一个或多个层制成的第一模块M1、包含氮化钛的第一层TiN1、由介电材料的一个或多个层制成的第二模块M2、包含氮化钛的第二层TiN2、由介电材料的一个或多个层制成的第三模块M3，其中包含氮化钛的TiN1和TiN2层的厚度的累积和为25至60 nm，其中第三模块M3包括厚度大于10 nm的包含氧化硅或氮氧化硅的层，并且其中将钛、铝、硅、这些元素中至少两种的合金或镍铬合金的中间层IL沉积在所述第二层TiN2和所述第三模块M3之间，所述中间层IL的厚度为0.5 nm至7 nm。nm。