合肥工业大学硕士学位论文多孔氧化铝模板制备与纳米阵列体系组装 摘要
亮晶晶眼贴>滴胶卡制作，一、／多孔氧化铝膜具有独特纳米级柱状孔阵列结构，用其为模扳，不仅可以合成并魄装多种纳米结构材料，同时在组装设计纳米结构材料过程中，人的主观意愿得到最大程度的实现。因此，用多孔氧化铝膜为榜板进行纳米结构材料的组装设计已成为当今纳米材料研究领域的一个热点。） 本文用ＳＥＭ、ＴＥＭ和ＡＦＭ等研究了多孔氧化铝膜的结构形貌和生长机理，并且较为系统地研究了铝片的表面预处理、铝片的纯度、阳极氧化的制备工艺及二次腐蚀方法对所成多孔氧化铝膜的影响。结果表明，多孔氧化铝膜呈双层结构：外表层的多孔层和与之相接的阻挡层。阻挡层是致密和无孔的，多孔层则含有高密度的纳米级孔洞阵列，这些孔洞相互平行、孔径大小一致、分布均匀。多孔铝膜的膜参数（孔径、孔密度、孔的纵横比和膜厚）和孔排布的规律性受到诸多因素的影响和制约。大尺寸触摸屏
一ｆ此外，本文还用二次腐蚀方法制备了孔排布高度有序的多孔氧化铝膜，极大地提高了一次腐蚀方法制备的多孔氧化铝膜孔排布的规律性。以之为模板，用直流沉积的方法成功地进行了Ｎｉ、Ｃｏ磁性金属单质的组装，并用ＴＥＭ、Ｘ—ＲＡＹ衍射和ＶＳＭ分别对组装体系进行结构和磁性分析，结果发现，组装的Ｎｉ、Ｃｏ氧化铝体系阵列是由高纵横比的单晶金属纳米线和非晶多孔氧化铝膜组成，有一定的结晶择优取向，并有明显的磁各向异性，适用于作垂直磁记录介质刁７
电缆转接箱>火力发电厂土建结构设计技术规定关键词：纳米材料
阳极氧化多孔氧化铝模板二次腐蚀垂直磁记录
ａｎｄＡｓｓｅｍｂｌｙｏｆＰｒｅｐａｒａｔｉｏｎｏｆＰｏｒｏｕｓＡｌｕｍｉｎａＴｅｍｐｌａｔｅ
Ｎａｎｏ—ｃｈａｎｎｅｌＡｒｒａｙＳｙｓｔｅｍ
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Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：ｎａｎｏ—ｍａｔｅｒｉａｌｓｐｏｒｏｕｓＡｌｕｍｉｎａｔｅｍｐｌａｔｅｔｗｏ—ｓｔｅｐａｎｏｄｉｃｏｘｉｄａｔｉｏｎａｎｏｄｉｃｏｘｉｄａｔｉｏｎ
ｐｅｒｐｅｎｄｉｃｕｌａｒｍａｇｎｅｔｉｃｒｅｃｏｒｄｉｎｇ
致谢
本论文是在导师黄新民教授和李合琴副教授悉心指导下完成的，黄老师和李老师渊博的知识、严谨的工作作风、科学的思维方法、忘我的工作精神和乐观的生活态度使我受益匪浅，作者衷心感谢黄教授对我生活上的关心、学业上的指导和做人方面的教诲！！ 在实验的全过程中，得到了本实验室刘岸平老师，实验中心的郑玉春、张明秀、陈娟文等老师给予的无私帮助；作者还得感谢师弟钱利华给予的支持和所做的工作；另外，一些本科毕业生也做了部分的实验工作，在此一并表示感谢！
作者还要感谢合肥工业大学化工学院唐述培老师、中国科学技术大学结构中心周贵恩老师所做的物相分析，北京科技大学新金属材料国家重点实验室各位老师提供的磁性检测，以及中科院固体所朱晓光老师做的ＡＦＭ表面分析。
向在我整个硕士研究生学习阶段，所有的对我学习和生活关心与爱护的老师与同学表示深深敬意和衷心的感谢！
血竭提取物
徐金霞
２００２／５／２０于合肥
合肥丁业大。１＃彤ｌｊ学位论文
附录一插图清单
图２．１一次腐蚀方法制备多孔氧化铝膜的：［艺流程示意图…………１６图２．２二次腐蚀方法制备多孔氧化铝膜的：ｒ艺流程示意图…………１７图２．３Ｋｅｌｌｅｒ提出的具有星形横断面的多孔氧化铝膜的结构模型…１８图２．４Ｏ７ｓｕｌｌｉｖａｒｌ和Ｗｏｏｄ提出多孔氧化铝膜的结构模型…………１８匿２．５多孔氧化铝模板的ＴＥＭ照片…………………………………１９圉２．６吴俊辉等人提出的多孔氧化铝膜的新模型……………………Ｉ９图：７多孔氧化铝膜的Ｘ．Ｒａｙ衍射分析谱……………………………２０图！Ｓ一次腐蚀的多孔氧化铝膜的ＳＥＭ照片………………………２１蜀２９二次腐蚀的多孔氧化铝膜ＳＥＭ照片…………………………２１至１１０二次腐蚀的多孔氧化铝膜丁ＥＭ照片…………………………２１蚕！．１ｌ多孔氧化铝膜截面ＴＥＭ照片…………………………………２】蛋二．１２Ｆ．Ｍｕｌｌｅｒ提出的体膨胀模型图…………………………………２３蓦！ｌ３毫压二５Ｖ、温度１Ｏ℃、时卜ｊＪ３ｍ的电化学抛光
表面ＡＦＭ照片…………………………………………………２４圣！．】电化学抛光表面｜＿｝勺ＳＥＭ照片…………………………………二９坚３．！理想的：邑化学抛光表面示意图……………………
…………．．３０巨３ｊ表面匠化学抛光“胞”与阳极氧化外加电眶的整数俏ｆ１：４）关系平丽示意图…………………………………………………３ｌ匿３．４电化学抛光的表面ＡＦＭ照片………………………………．．３２驽ｊ５范曳对所成多孔氧化铝膜的影ｎ向ＳＥＭ照片…………………３４星３．６电ｊ置、温度、浓度对膜厚的影ｎ晚………………………………３７茎３．？电五、温度、浓度刘表面孔径的影响…………………………３８至：．８理想的多孔氧化铝膜表向和面心立力‘的（１１１）面格，ｃ量分布示意图……………………………………………………………４０蜀４１三电饭体系直流嗯沉积的实验装置……………………………４５图４．！经ｊｗｒ％ｈＰ０．丌孔的多ｊ。氧化铝摸的背而Ｓ【ｉＭ照片…………４６习４３甩多孔氧化铝模板制备的Ｎｉ、ＣＯ纳米线……………………４９习４．４组装体系的衍射图谱……………………………………………５０星４．５组装ｒ木系半行（∥）和垂直（ｊ＿）ｊ：氧化钒腹
膜而的磁滞回线…………………………………………………ｊ４曙４６多孔氧化铝膜时的电沉积Ｎｉ的磁滞啊线……………………５５
台肥工业＾学硕士｝位论卫附录二表格清单
表ｌ１纳米粒子尺寸与表面原子数的关系………………………表１．２聚苯胺的导电性与其纳米管的
直径关系…………………表ｊ．１电化学抛光的参数选择……………………………………．．表３．：正交试验因素水平表…………………－……·………………表３．３表头设计……………………………………………………－·表３．４制备工艺对膜厚、表面孔径和有序度的影响结果………·－表４．：直流电沉积Ｎｉ、Ｃｏ的溶液配方和：ｆ．岂条件……………·一·－·－４…－８…２８…３５…３６…３６…４３
