一种新型TIC面板结构的制作方法

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一种新型tic面板结构
技术领域
1.本实用新型涉及tic面板技术领域，特别指一种新型tic面板结构。

背景技术：

2.目前触摸屏使用touchincell(tic)结构面板。中国专利申请号202111405171.9公开了一种减少面板内层触控线路不良的设计方法，包括如下步骤：s1：在无va开孔的cm、bc搭接处，将bc挖除部分；s2：将不必要的bc挖除部分后，减少cm与bc接触面积，有va洞处保留；s3：va洞为cm与bc正常搭接使用，以实现面板touch功能。采用现有的方式以及该设计方法所设计出来的tic面板va的开洞均不规则，如图1所示；
3.从图1中可知，va(共用电极和tic控制线的桥接洞)的开洞不规则,即不是在每个bc(共用电极)净空区域3，都开设va洞4。目前，ticng(区块性触摸屏异常)在业界为常态性不良。
4.对于va开洞不规则区域，在加强检出前提下，需要defectsize在3um以上才可保证检出，且va开洞不规则区域容易检出假缺陷。因为tic面板的va开洞不规则，导致在阵列的制程站点中无法有效用光学检测设备监控到缺陷，无法真实反馈产线tic水准，产线监控指标失真，制程无法及时作出应对，需等到a/p检后才知道tic数据，严重影响异常对策时间。

技术实现要素：

5.本实用新型要解决的技术问题，在于提供一种新型tic面板结构，可有效提高光学检测设备的缺陷检出率。
6.本实用新型是这样实现的：本实用新型提供了一种新型tic面板结构，包括有tic面板本体，所述tic面板本体上具有复数个bc模块，相邻所述bc模块之间具有一个bc净空区域，每一所述bc净空区域均开设有一个va洞。
7.进一步的，相邻所述bc模块之间通过bc链接区连接，所述bc链接区到va洞的竖向距离大于20um。
8.进一步的，每一所述va洞均设置在对应bc净空区域的同一位置，使得所有va洞在同一直线上，且相邻两个va洞的距离相同。
9.进一步的，所述bc净空区域为四个相邻的上下左右bc模块的交界区域。
10.本实用新型的优点在于：在每一个bc净空区域，均开设va洞，使得va制程由不规则变更为规则，具有重复性。光学检测设备在检测具有重复性设计区域时，可拦检到1.5um-2um的缺陷异常。同时，由于bc链接区与va洞的间距拉大，能够提高在光学检测设备的检出率，使得光学检测设备可以稳定维持在2umdefectsize的检出，及时预警产线状况。
附图说明
11.下面参照附图结合实施例对本实用新型作进一步的说明。
12.图1是现有技术中的tic结构示意图；
13.图2是本实用新型tic结构示意图。
14.附图中，各标号所代表的部件如下：
15.1、tic面板本体；2、bc模块；3、bc净空区域；4、va洞；5、bc链接区。
具体实施方式
16.请参阅图2，本实用新型提供了一种新型tic面板结构，包括有tic面板本体1，tic面板本体1上具有复数个bc模块2，相邻bc模块2之间具有一个bc净空区域3，每一bc净空区域3均开设有一个va洞4。
17.具体的，相邻bc模块2之间通过bc链接区连接，bc链接区到va洞4的竖向距离大于20um。现有的bc链接区到va洞4的竖向距离为3um-5um，bc模块与va洞的重叠区域大。将bc链接区到va洞4的竖向距离d拉大到20um以上后，能够减少bc模块与va洞的重叠区域，有利于提高在光学检测设备的检出率。
18.具体的，每一va洞4均设置在对应bc净空区域的同一位置。上述设置，使得所有va洞在同一直线上，且相邻两个va洞的距离相同，提高了设计区域的重复性，光学检测设备在检测具有重复性的设计区域时，可拦检到1.5um-2um的缺陷异常。
19.具体的，bc净空区域3为四个相邻的上下左右bc模块2的交界区域。
20.本实用新型在每个bc净空区域都设置了va开洞，更改讯号走线控制驱动tic运作，bc模块重新排版，bc链接区与va开洞间距拉大到大于20um，减少bc模块与va洞的重叠区域，使图形重叠区域且使图形具有重复性，使光学检测设备检测逻辑。
21.光学检测设备在检测具有重复性设计区域时，可拦检到1.5um-2um的缺陷异常，对于不规则区域，检出率则大大降低，缺陷需接近4-5um以上才可保证稳定的检出率；因此，在每个bc净空区域都设置了va开洞后，有利于提高检出率。
22.对于图案越简单的区域，光学检测设备检出率越有保障，故拉开bc链接区与va的距离有利于提高在光学检测设备的检出率。
23.本新型tic面板结构，va洞制程由不规则变更为规则，且由于bc链接区与va洞间距的拉大，光学检测设备可以稳定维持在2umdefectsize的检出，及时预警产线状况。
24.本实用新型的结构适用于面板厂(包含ltps、igzo、a-si、oled、amoled)、pcb厂等。凡是使用薄膜堆积结构之制程，均可运用此tic结构技术。
25.虽然以上描述了本实用新型的具体实施方式，但是熟悉本技术领域的技术人员应当理解，我们所描述的具体的实施例只是说明性的，而不是用于对本实用新型的范围的限定，熟悉本领域的技术人员在依照本实用新型的精神所作的等效的修饰以及变化，都应当涵盖在本实用新型的权利要求所保护的范围内。

技术特征：

1.一种新型tic面板结构，包括有tic面板本体(1)，所述tic面板本体(1)上具有复数个bc模块(2)，其特征在于：相邻所述bc模块(2)之间具有一个bc净空区域(3)，每一所述bc净空区域(3)均开设有一个va洞(4)。2.如权利要求1所述的一种新型tic面板结构，其特征在于：相邻两所述bc模块(2)之间通过bc链接区(5)连接，所述bc链接区(5)到va洞(4)的竖向距离大于20um。3.如权利要求1或2所述的一种新型tic面板结构，其特征在于：每一所述va洞(4)均设置在对应bc净空区域的同一位置，使得所有va洞(4)在同一直线上，且相邻两个va洞(4)的距离相同。4.如权利要求1或2所述的一种新型tic面板结构，其特征在于：所述bc净空区域(3)为四个相邻的上下左右bc模块(2)的交界区域。

技术总结

本实用新型提供了一种新型TIC面板结构，包括有TIC面板本体，所述TIC面板本体上具有复数个BC模块，相邻所述BC模块之间具有一个BC净空区域，每一所述BC净空区域均开设有一个VA洞。相邻所述BC模块之间通过BC链接区连接，所述BC链接区到VA洞的竖向距离大于20um。在每一个BC净空区域，均开设VA洞，使得VA制程由不规则变更为规则，具有重复性。光学检测设备在检测具有重复性设计区域时，可拦检到1.5um-2um的缺陷异常。同时，由于BC链接区与VA洞的间距拉大，能够提高在光学检测设备的检出率，使得光学检测设备可以稳定维持在2um DefectSize的检出，及时预警产线状况。及时预警产线状况。及时预警产线状况。