第28卷第4期增刊
2007年4月
仪器仪表学报
Chinese Journal of Scientific Instr ument
Vol 128No 14Apr 12007
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刘景峰1,2，李艳秋1，刘 克1,2
(1 中国科学院电工研究所 北京 100083;2 中国科学院研究生院 北京 100049)
摘 要：极紫外光刻技术作为下一代光刻技术的最佳候选技术，为了得到衍射极限的分辨率，光学系统的RMS 波像差应小于其工作波长的1/14，约为1nm ，这对检测技术提出了前所未有的要求。本文以应用于极紫外光刻光学系统波像差检测中的移相式点衍射干涉仪为基础，对干涉仪中几个关键技术进行了 讨论，并给出了相应的解决方法。关键词：极紫外光刻；波像差；移相式点衍射干涉仪
Technical pr oblems in pha se 2shif ting point diff ract ion inter fer ometer
Liu Ji ngfeng 1,2,Li Y anqi u 1,Li u K e 1,2
(1 Institute of E lectr ica l Engineeri ng ,Chinese Aca demy of Sciences(Bei er tiao 6,z hong gua n cun ,Beij ing 100083,China;
2 Gra duate school of the Chinese Aca demy of Sciences ,Bei jng 100049,China )
Abstract :Ext reme ult raviolet li t hograp hy (EU VL )t ec hni que is one of t he most promi si ng ca ndidat e next 2G eneration li t hograp hy technologies ,i n order to achie ve diffraction 2li mi ted performa nce ,t he allowabl e wave 2
f ro nt error of t he optical system m ust be le ss t ha n one fourteent h of it s work wavelengt h ,viz.1nm RMS ,whic h lies an unprecedent ed c hall enge on optical t est ing.The paper ul tilized t he phase 2shift in
g poi nt diffrac 2t ion interf eromete r ,whic
h was de s
i gned and const ruct ed for t he p urpose of developing wavef ront mea sure 2ment technology wit h t he e xposure wavelengt h of t he projection opt ic s of EU V li t hograp hy syst ems.The pa 2per di sc ussed t he ke y t echniques and present ed t he solving met hods i n detail.
K ey w or ds :EUV lit hography ;wavef ront error ;p hase 2shifti ng point diffract ion i nt erferomet er
3基金项目863I 装备专项和6计划(3B 6)资助项目
1 引 言
极紫外光刻(EUVL)[1]技术是建立在传统光学光刻基础上的下一代光刻技术，它最大限度地继承了目前光学光刻的发展成果。EUVL 的工作波长为13～14nm 的EUV 波段，在光源技术、光学系统、EUV 多层膜技术、反射式掩膜技术、超高精度控制技术、抗蚀剂技术、光学元件加工/检测技术等方面都与传统的光学光刻有重大的区别。EUVL 为了达到衍射极限性能的分辨率，光学系统的RMS 波像差应小于其工作波长的1/14，约为1nm 。在这种情况下，用一般的检测方法难以满足要求。
现代干涉技术是基于光电探测、图像处理、计算机技术而发展起来的。光学干涉测量技术作为一种高精度、高灵敏度、非接触性的光学测试技术，已经广泛应用在了表面形状及三维测量、应变及位移测 量、速度及加速度测量等领域，并且由于其较高的灵敏度，通常被用在精度要求达到亚微米、纳米的应用领域中。
基于干涉测量原理，发展了很多种干涉仪，常见的双光束干涉仪主要有[2]：泰曼2格林(T wyman G reen)干涉仪、斐索(Fizeau)干涉仪、萨瓦(Savart )干涉仪、波面错位干涉仪等。
本文详细介绍了采用移相技术研制的移相点衍射干涉仪，该干涉仪广泛应用于下一代光刻技术22极紫外光刻技术中的光学系统波像差检测，简述其几个关键
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