一种晶圆边缘抛光装置及其抛光方法与流程

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1.本发明涉及机械抛光领域，具体涉及一种晶圆边缘抛光装置及其抛光方法。

背景技术：

2.晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，晶圆的主要加工方式为片加工和批加工，即同时加工一片或多片晶圆。随着半导体特征尺寸越来越小，加工及测量设备越来越先进，使得晶圆加工出现了新的数据特点。同时，特征尺寸的减小，使得晶圆加工时，空气中的颗粒数对晶圆加工后质量及可靠性的影响增大，而随着洁净的提高，颗粒数也出现了新的数据特点。晶圆片成型之前需要经过切片、研磨、抛光等多到工序。由于晶圆尺寸越来越小，对研磨和抛光技术要求也越来越高，传统的研磨方式以不能满足工艺需求，而其中晶圆抛光机在晶圆抛光过程中有着不可替代的作用。
3.传统的晶圆抛光机在对晶圆边缘进行抛光时所产生的灰尘碎屑易飞溅，易对晶圆表面造成污染和损伤，同时人工进行取料上料效率较慢也存在一定的安全隐患。

技术实现要素：

4.发明目的：提供一种晶圆边缘抛光装置，并进一步提供一种基于上述晶圆边缘抛光装置的抛光方法，以解决现有技术存在的上述问题。
5.技术方案：一种晶圆边缘抛光装置，包括用于对整体各部件进行承载与定位的基座，并进一步包括传输组件、抛光组件和出料组件三个部分。
6.其中，传输组件包括上料机构和取料机构两个部分；所述上料机构一端与所述基座相连，用于对工件进行传送上料作业；所述取料机构架设于所述上料机构的一侧，用于对经由所述上料机构上料的晶圆进行取料作业。
7.抛光组件包括支柱和抛光机构两个部分；所述支柱一端与所述基座相连，用于对所述抛光组件的整体作业位置进行限定；所述抛光机构与所述支柱相连，用于对经由所述取料机构取料作业后的晶圆进行抛光处理。
8.出料组件包括承接机构和出料机构两个部分；所述承接机构一端与所述基座相连，用于对经由所述抛光组件抛光完成后的晶圆进行承接；所述出料机构与所述承接机构相连，用于对所述承接机构接收的晶圆进行自主传送出料作业。
9.所述传输组件、抛光组件和所述出料组件均为多个，可同时多向进行传输上料与出料作业，能够有效提高晶圆边缘抛光的整体作业效率。所述取料机构设有风机，可对抛光过程中的飞屑灰尘进行吹送引向，避免飞屑灰尘对晶圆表面造成二次污染与损伤。
10.在进一步的实施例中，所述上料机构包括定位柱、传送板和接料平台三个部分。所述定位柱置于所述基座的一侧，并与所述基座存在预定的距离，用于为所述上料机构的整体作业提供预定的支撑力；所述传送板与所述定位柱相连，且作业面表面覆盖有传送履带，用于对所要进行抛光的晶圆进行传送；所述接料平台置于所述传送板传送方向末端处，用于对经由所述传送板传送的晶圆进行接收。
11.在进一步的实施例中，所述取料机构包括罩壳、第一伸缩杆和第一吸盘三个部分。所述罩壳置于所述基座作业面表面，中空且具有预定的收容性，用于对所述取料机构的各个部件进行承载和限位；所述第一伸缩杆置于所述罩壳中空腔室上壁面处，可沿与所述罩壳上壁面垂直方向进行往复伸缩运动；所述第一吸盘与所述伸缩杆作业方向下端相连，且所述第一吸盘与所述接料平台作业位置相对，用于对所述接料平台所接收的晶圆进行吸附取料作业；所述罩壳中空腔室内壁面表面设有风机，且所述风机与所述第一伸缩杆错位设置，用于对抛光组件进行抛光处理过程中晶圆所产生的飞屑灰尘进行吹风引向。
12.在进一步的实施例中，所述抛光机构包括固定柱、旋转电机和抛光柱三个部分。所述固定柱一端与所述基座相连，用于对所述抛光机构进行整体的定位与各部件的承载；所述旋转电机与所述固定柱的另一端相连，用于为所述抛光机构提供预定的驱动力；所述抛光柱通过滚轴轴承与所述旋转电机相连，可在所述旋转电机驱动下进行全方位转动，用于对晶圆进行抛光作业。
13.在进一步的实施例中，所述抛光组件为多个，并对称式分布；多个所述抛光柱之间通过抛光履带相互连通，在后期作业过程中，所述旋转电机驱动所述抛光柱转动，进而带动所述抛光履带转动调节，完成对抛光履带的作业面调整；所述抛光柱为“工”字型，所述抛光履带置于所述抛光柱作业面表面的凹陷处，并将所述抛光柱半包裹，使得所述抛光履带可跟随所述抛光柱的转动而转动。
14.在进一步的实施例中，所述承接机构包括承接柱、承接板和推板三个部分。所述承接柱一端与所述基座相连，用于对所述承接机构的整体作业位置进行定位，与各部件的承载；所述承接板与所述承接柱的另一端相连，且成“凹”字型，用于对经由所述抛光组件处理后的工件进行承接，以便后续的出料作业；所述推板置于所述承接板一侧，与所述基座通过转动柱相连，并与所述承接板存在预定的距离，可跟随所述转动柱的转动而转动，用于对所述承接板所承接的晶圆进行推送出料。
15.在进一步的实施例中，所述出料机构包括支撑柱、出料板和回收台三个部分。所述支撑柱一端与所述基座相连，用于所述出料机构的整体定位与各部件之间的相互连通；所述出料板与所述支撑柱的另一端相连，用于对经由所述承接机构承接后的晶圆进行自主出料传送，且所述出料板作业面表面覆盖有出料履带；所述回收台与所述出料板相连，具有预定的收容性，用于对抛光处理完成后的晶圆进行回收处理，以便后续的晶圆加工作业。
16.在进一步的实施例中，与所述取料机构相对应位置处设有辅料机构，所述辅料机构包括滑动组、第二伸缩杆和第二吸盘；所述滑动组置于所述基座作业面表面，可沿所述基座作业面表面进行滑动调节；所述第二伸缩杆与所述滑动组相连，可跟随所述滑动组的滑动而移动，以完成相应的作业位置调节；所述第二吸盘与所述第二伸缩杆相连，可跟随所述第二伸缩杆的伸缩调节进行相应的作业位置调节，用于与所述第一吸盘相互配合，对晶圆进行吸附。
17.在进一步的实施例中，所述第一伸缩杆与所述罩壳滑动连接，可沿所述罩壳作业面表面进行滑动调节；所述第一吸盘、第二吸盘均通过滚珠轴承与所述第一伸缩杆、第二伸缩杆对应相连，使得所述第一吸盘可绕与所述第一伸缩杆的连接点进行转动，所述第二吸盘可绕与所述第二伸缩杆的连接点进行转动。在后期作业过程中，可通过所述第一吸盘与第二吸盘的同步转动带动晶圆转动，并配合所述抛光组件，完成对晶圆边缘进行抛光的作
业需求。
18.一种晶圆边缘抛光装置的抛光方法，包括以下步骤：
19.s1、将所要进行抛光的晶圆放置于传送板作业面表面进行传送，传送至接料平台处停止传送；
20.s2、第一伸缩杆沿罩壳作业面表面向靠近接料平台的方向滑动，移动至与接料平台相对应位置处停止滑动；伸缩杆向靠近晶圆的方向伸展，而后第一吸盘将晶圆吸附住，完成取料作业；
21.s3、第一伸缩杆再次沿罩壳作业面表面滑动，滑动至与第二伸缩杆相对应位置处停止滑动；第二伸缩杆向靠近第一伸缩杆的方向进行伸展，而后第二吸盘配合第一吸盘将晶圆吸附住；
22.s4、而后第一伸缩杆与第二伸缩杆均向抛光组件滑动，当滑动至与抛光组件相对应位置处停止滑动，而后第一吸盘与第二吸盘转动带动晶圆转动，完成对晶圆边缘的抛光作业；
23.s5、完成抛光作业后，第一伸缩杆与第二伸缩杆向靠近出料组件的方向滑动，而后第一吸盘松开，第二吸盘将晶圆继续向靠近出料板的方向滑动，并通过推板将晶圆推送至出料板作业面表面，并最终通过出料板传送至回收台进行回收；
24.s6、以此类推，依次重复s1至s5工作，直到系统停止工作。
25.有益效果：本发明涉及一种晶圆边缘抛光装置及其抛光方法，包括用于对整体各部件进行承载与定位的基座，并进一步包括传输组件、抛光组件和出料组件三个部分。传输组件包括一端与基座相连，用于对工件进行传送的上料机构；架设于上料机构一侧的取料机构。抛光组件包括一端与基座相连，用于对抛光组件整体定位的支柱；与支柱相连，用于进行抛光作业的抛光机构。出料组件包括一端与基座相连，用于对工件进行承接的承接机构；与承接机构相连的出料机构。传输组件、抛光组件和出料组件均为多个，可同时进行多向上料与出料，有效提升抛光作业的整体效率。取料机构设有风机，可对抛光过程中的抛光飞尘进行吹送引向，避免飞尘对晶圆表面造成损伤与污染。同时，通过出料组件能够快速有序的进行出料作业，在避免了人工出料作业所存在的安全隐患同时也显著提高了出料作业的效率。
附图说明
26.图1为本发明整体的示意图。
27.图2为本发明所述上料机构的示意图。
28.图3为本发明所述取料机构的示意图。
29.图4为本发明所述抛光组件的示意图。
30.图5为本发明所述承接机构与所述辅料机构的示意图。
31.图中各附图标记为：基座1、定位柱201、传送板202、接料平台203、接料柱204、接料推板205、挡板206、罩壳301、第一伸缩杆302、第一吸盘303、风机304、出料板401、回收台402、固定柱501、旋转电机502、抛光柱503、抛光履带504、承接柱601、承接板602、推板603、转动柱604、滑动组701、第二伸缩杆702、第二吸盘703。
具体实施方式
32.在下文的描述中，给出了大量具体的细节以便提供对本发明更为彻底的理解。然而，对于本领域技术人员而言显而易见的是，本发明可以无需一个或多个这些细节而得以实施。在其他的例子中，为了避免与本发明发生混淆，对于本领域公知的一些技术特征未进行描述。
33.申请人认为，传统的晶圆抛光机在对晶圆边缘进行抛光时所产生的灰尘碎屑易飞溅，易对晶圆表面造成污染和损伤，同时人工进行取料上料效率较慢也存在一定的安全隐患。
34.为此，申请人设计一种晶圆边缘抛光装置及其抛光方法，可同时进行多向上料与出料，能够有效提升抛光作业的整体效率。同时取料机构设有风机，可对抛光过程中的抛光飞尘进行吹送引向，避免飞尘对晶圆表面造成损伤与污染。且通过出料组件能够快速有序的进行出料作业，在避免了人工出料作业所存在的安全隐患同时也显著提高了出料作业的效率。
35.本发明涉及的晶圆边缘抛光装置包括用于对整体各部件进行承载与定位的基座1，并进一步包括包括传输组件、抛光组件和出料组件三个部分。其中，传输组件包括上料机构和取料机构两个部分；所述上料机构一端与所述基座1相连，用于对工件进行传送上料作业；所述取料机构架设于所述上料机构的一侧，用于对经由所述上料机构上料的晶圆进行取料作业。抛光组件包括支柱和抛光机构两个部分；所述支柱一端与所述基座1相连，用于对所述抛光组件的整体作业位置进行限定；所述抛光机构与所述支柱相连，用于对经由所述取料机构取料作业后的晶圆进行抛光处理。出料组件包括承接机构和出料机构两个部分；所述承接机构一端与所述基座1相连，用于对经由所述抛光组件抛光完成后的晶圆进行承接；所述出料机构与所述承接机构相连，用于对所述承接机构接收的晶圆进行自主传送出料作业。所述传输组件、抛光组件和所述出料组件均为多个，可同时多向进行传输上料与出料作业，能够有效提高晶圆边缘抛光的整体作业效率。所述取料机构设有风机304，可对抛光过程中的飞屑灰尘进行吹送引向，避免飞屑灰尘对晶圆表面造成二次污染与损伤。
36.所述上料机构包括定位柱201、传送板202和接料平台203三个部分。所述定位柱201置于所述基座1的一侧，并与所述基座1存在预定的距离，用于为所述上料机构的整体作业提供预定的支撑力；所述传送板202与所述定位柱201相连，且作业面表面覆盖有传送履带，用于对所要进行抛光的晶圆进行传送；所述接料平台203置于所述传送板202传送方向末端处，用于对经由所述传送板202传送的晶圆进行接收。
37.所述取料机构包括罩壳301、第一伸缩杆302和第一吸盘303三个部分。所述罩壳301置于所述基座1作业面表面，中空且具有预定的收容性，用于对所述取料机构的各个部件进行承载和限位；所述第一伸缩杆302置于所述罩壳301中空腔室上壁面处，可沿与所述罩壳301上壁面垂直方向进行往复伸缩运动；所述第一吸盘303与所述伸缩杆作业方向下端相连，且所述第一吸盘303与所述接料平台203作业位置相对，用于对所述接料平台203所接收的晶圆进行吸附取料作业；所述罩壳301中空腔室内壁面表面设有风机304，且所述风机304与所述第一伸缩杆302错位设置，用于对抛光组件进行抛光处理过程中晶圆所产生的飞屑灰尘进行吹风引向。所述风机304通过万向轴承与所述罩壳301内壁相连，使得所述风机304可在实际作业过程中根据需求进行灵活的作业角度调节，可确保所述风机304的吹风引
向效果。所述罩壳301作业方向所有两侧均设有开放式通孔，且所述罩壳301笼罩过所述基座1整体作业面表面；所述传送板202通过所述罩壳301侧壁所设通孔延伸至所述罩壳301中空腔室内预定距离处，所述接料平台203一端与所述基座1相连，并与所述传送板202传送作业方向末端相贴；距离所述传动板传送方向末端预定距离处一侧边设有接料推板205，所述接料板通过接料柱204覆盖过所述传送板202作业面表面预定距离；所述接料板与所述接料柱204通过轴承连接，使得所述接料板可绕与所述接料柱204的连接点进行转动，用于对经由所述传送板202传送的晶圆进行推送，使得晶圆进入接料平台203。所述接料平台203作业面表面设有挡板206，防止在所述推料板的推动下晶圆滑出所述接料平台203。在后期作业过程中可通过实际需求在所述罩壳301的作业面表面设置观察窗，并与对晶圆的处理情况进行实时观察。
38.所述抛光机构包括固定柱501、旋转电机502和抛光柱503三个部分。所述固定柱501一端与所述基座1相连，用于对所述抛光机构进行整体的定位与各部件的承载；所述旋转电机502与所述固定柱501的另一端相连，用于为所述抛光机构提供预定的驱动力；所述抛光柱503通过滚轴轴承与所述旋转电机502相连，可在所述旋转电机502驱动下进行全方位转动，用于对晶圆进行抛光作业。
39.所述抛光组件为多个，并对称式分布；多个所述抛光柱503之间通过抛光履带504相互连通，在后期作业过程中，所述旋转电机502驱动所述抛光柱503转动，进而带动所述抛光履带504转动调节，完成对抛光履带504的作业面调整；所述抛光履带504两端均与所述抛光柱503卡接，且所述抛光履带504整体作业长度大于多个所述抛光柱503之间的直线距离，使得所述抛光履带504可绕所述抛光柱503作业面表面进行缠绕。所述抛光柱503为“工”字型，所述抛光履带504置于所述抛光柱503作业面表面的凹陷处，并将所述抛光柱503半包裹，使得所述抛光履带504可跟随所述抛光柱503的转动而转动。在后期作业过程中，可使多个所述抛光柱503同向转动完成对所述抛光履带504作业面的调整，能够确保所述抛光履带504对晶圆边缘抛光的质量。
40.所述承接机构包括承接柱601、承接板602和推板603三个部分。所述承接柱601一端与所述基座1相连，用于对所述承接机构的整体作业位置进行定位，与各部件的承载；所述承接板602与所述承接柱601的另一端相连，且成“凹”字型，用于对经由所述抛光组件处理后的工件进行承接，以便后续的出料作业；所述推板603置于所述承接板602一侧，与所述基座1通过转动柱604相连，并与所述承接板602存在预定的距离，可跟随所述转动柱604的转动而转动，用于对所述承接板602所承接的晶圆进行推送出料。所述承接板602的凹陷处的整体作业宽度小于晶圆的整体作业宽度，且所述推板603覆盖过所述承接板602作业表面预定距离。
41.所述出料机构包括支撑柱、出料板401和回收台402三个部分。所述支撑柱一端与所述基座1相连，用于所述出料机构的整体定位与各部件之间的相互连通；所述出料板401与所述支撑柱的另一端相连，用于对经由所述承接机构承接后的晶圆进行自主出料传送，且所述出料板401作业面表面覆盖有出料履带；所述回收台402与所述出料板401相连，具有预定的收容性，用于对抛光处理完成后的晶圆进行回收处理，以便后续的晶圆加工作业。在后续操作过程中，可根据实际需求对所述回收台402作业表面安装回收履带与回收板，以便于对晶圆进行逐一回收作业，避免回收过程中晶圆之间碰撞造成损坏。
42.与所述取料机构相对应位置处设有辅料机构，所述辅料机构包括滑动组701、第二伸缩杆702和第二吸盘703；所述基座1作业面表面设有滑道，所述滑动组701置于所述基座1作业面表面，可沿所述基座1作业面表面进行滑动调节；所述第二伸缩杆702与所述滑动组701相连，可跟随所述滑动组701的滑动而移动，以完成相应的作业位置调节；所述第二吸盘703与所述第二伸缩杆702相连，可跟随所述第二伸缩杆702的伸缩调节进行相应的作业位置调节，用于与所述第一吸盘303相互配合，对晶圆进行吸附。所述第二吸盘703的整体作业宽度小于所述承接板602的凹陷处的整体作业宽度。
43.所述第一伸缩杆302与所述罩壳301滑动连接，所述罩壳301中空腔室内壁的上壁面表面也设有滑道，所述第一伸缩杆302也通过滑动组701与所述罩壳301滑动连接，可沿所述罩壳301中空腔室内壁上壁面作业面表面进行滑动调节；所述第一吸盘303、第二吸盘703均通过滚珠轴承与所述第一伸缩杆302、第二伸缩杆702对应相连，使得所述第一吸盘303可绕与所述第一伸缩杆302的连接点进行转动，所述第二吸盘703可绕与所述第二伸缩杆702的连接点进行转动。在后期作业过程中，可通过所述第一吸盘303与第二吸盘703的同步转动带动晶圆转动，并配合所述抛光组件，完成对晶圆边缘进行抛光的作业需求。
44.在上述晶圆边缘抛光装置的基础之上，本发明提出一种晶圆边缘抛光装置的抛光方法，具体步骤如下：
45.首先，人工将所要进行抛光的晶圆放置于所述传送板202作业面表面进行传送，当传送所述传送板202作业方向末端处，所述接料柱204启动带动所述接料推板205转动，将晶圆推送至所述接料平台203处，而后停止传送。
46.接着，所述第一伸缩杆302沿所述罩壳301内壁上壁面的作业面表面向靠近所述接料平台203的方向滑动，移动至与所述接料平台203相对应位置处停止滑动；所述伸缩杆向靠近晶圆的方向伸展，而后所述第一吸盘303将晶圆吸附住，完成取料作业。
47.随后，所述第一伸缩杆302再次沿所述罩壳301内壁上壁面的作业面表面滑动，当滑动至与所述第二伸缩杆702相对应位置处停止滑动；所述第二伸缩杆702带动所述第二吸盘703向靠近所述第一伸缩杆302的方向进行伸展，而后所述第二吸盘703配合所述第一吸盘303将晶圆吸附住；
48.而后，所述第一伸缩杆302与第二伸缩杆702均向靠近所述抛光组件方向滑动，当滑动至与所述抛光组件相对应位置处停止滑动，而后所述第一吸盘303与所述第二吸盘703转动带动晶圆转动，并使晶圆边缘与所述抛光履带504相接触，使得在所述第一吸盘303与所述第二吸盘703的同步高速转动下可完成对晶圆边缘的抛光作业。
49.完成抛光作业后，所述第一伸缩杆302与所述第二伸缩杆702向靠近所述出料组件的方向滑动，而后所述第一吸盘303松开，所述第二吸盘703带着晶圆继续向靠近所述出料板401的方向滑动，当滑动至与所述承接板602相对应位置处停止滑动，而后所述第二吸盘703向靠近所述承接板602的方向进行收缩作业，将晶圆放置于所述承接板602作业面表面后所述第二吸盘703松开，而后所述转动柱604带动所述推板603转动，将晶圆推送至出料板401作业面表面，所述出料板401传继续将晶圆传送至回收台402进行回收。
50.以此类推，依次重复上述动作，直到系统停止工作。
51.另外，本发明中个部件均可通过相应的电机进行驱动作业，此为本领域人员的惯用手段与公知常识，本发明中并未做过多赘述。
52.如上所述，尽管参照特定的优选实施例已经表示和表述了本发明，但其不得解释为对本发明自身的限制。在不脱离所附权利要求定义的本发明的精神和范围前提下，可对其在形式上和细节上做出各种变化。

技术特征：

1.一种晶圆边缘抛光装置，包括用于对整体各部件进行承载与定位的基座，其特征是还包括：传输组件，包括一端与所述基座相连，用于对工件进行传送的上料机构；架设于所述上料机构一侧的取料机构；抛光组件，包括一端与所述基座相连，用于对所述抛光组件整体定位的支柱；与所述支柱相连，用于进行抛光作业的抛光机构；出料组件，包括一端与所述基座相连，用于对工件进行承接的承接机构；与所述承接机构相连的出料机构；所述传输组件、抛光组件和所述出料组件均为多个，可进行多向同时运作；所述取料机构设有风机，可对抛光过程中的飞屑进行引向。2.根据权利要求1所述的一种晶圆边缘抛光装置，其特征在于，所述上料机构包括：定位柱，置于所述基座的一侧，并与所述基座存在预定的距离，用于提供预定的支撑力；传送板，与所述定位柱相连，且表面覆盖有传送履带，用于对所要进行抛光的晶圆进行传送；接料平台，置于所述传送板传送方向末端处，用于对经由所述传送板传送的晶圆进行接收。3.根据权利要求2所述的一种晶圆边缘抛光装置，其特征在于，所述取料机构包括：罩壳，置于所述基座作业面表面，中空且具有预定的收容性，用于对所述取料机构的各部件进行承载和限位；第一伸缩杆，置于所述罩壳中空腔室上壁面处，可沿与所述罩壳上壁垂直方向进行往复伸缩运动；第一吸盘，与所述伸缩杆作业方向下端相连，用于对晶圆进行吸附；所述第一吸盘与所述接料平台作业位置相对，可对经由所述接料平台作业面表面的晶圆进行吸附；所述罩壳中空腔室内壁面设有风机，用于对抛光过程中所产生的飞尘进行吹风引向。4.根据权利要求1所述的一种晶圆边缘抛光装置，其特征在于，所述抛光机构包括：固定柱，一端与所述基座相连，用于对所述抛光机构进行整体的定位与各部件的承载；旋转电机，与所述固定柱的另一端相连，用于为所述抛光机构提供预定的驱动力；抛光柱，通过滚轴轴承与所述旋转电机相连，可在所述旋转电机驱动下进行全方位转动。5.根据权利要求4所述的一种晶圆边缘抛光装置，其特征在于：所述抛光组件为多个，并对称式分布；多个所述抛光柱之间通过抛光履带相互连通；所述抛光柱为“工”字型，所述抛光履带可跟随所述抛光柱的转动而转动。6.根据权利要求1所述的一种晶圆边缘抛光装置，其特征在于，所述承接机构包括：承接柱，一端与所述基座相连，用于所述承接机构的整体定位与各部件承载；承接板，与所述承接柱的另一端相连，且成“凹”字形，用于对经由所述抛光组件处理后的工件进行承接；推板，置于所述承接板一侧，并与所述承接板存在预定的距离，用于对所述承接板所承
接的晶圆进行推送。7.根据权利要求1所述的一种晶圆边缘抛光装置，其特征在于，所述出料机构包括：支撑柱，一端与所述基座相连，用于所述出料机构的整体定位与各部件之间的相互连通；出料板，与所述支撑柱的另一端相连，用于对经由所述承接机构承接后的晶圆进行出料传送；回收台，与所述出料板相连，具有预定的收容性，用于对抛光处理完成后的晶圆进行回收处理。8.根据权利要求3所述的一种晶圆边缘抛光装置，其特征在于：与所述取料机构相对应位置处设有辅料机构，所述辅料机构包括滑动组、第二伸缩杆和第二吸盘；所述滑动组置于所述基座作业面表面，可沿所述基座作业面表进行滑动调节；所述第二伸缩杆与所述滑动组相连，可跟随所述滑动组的滑动而移动；所述第二吸盘与所述第二伸缩杆相连，用于与所述第一吸盘相互配合，对晶圆进行吸附。9.根据权利要求8所述的一种晶圆边缘抛光装置的抛光方法，其特征在于：所述第一伸缩杆与所述罩壳滑动连接，可沿所述罩壳作业面表面进行滑动调节；所述第一吸盘、第二吸盘均通过轴承与所述第一伸缩杆、第二伸缩杆对应相连，使得所述第一吸盘可绕与所述第一伸缩杆的连接点进行转动，所述第二吸盘可绕与所述第二伸缩杆的连接点进行转动。10.根据权利要求1至9中任一项所述的一种晶圆边缘抛光装置的抛光方法，其特征在于包括以下步骤：s1、将所要进行抛光的晶圆放置于传送板作业面表面进行传送，传送至接料平台处停止传送；s2、第一伸缩杆沿罩壳作业面表面向靠近接料平台的方向滑动，移动至与接料平台相对应位置处停止滑动；伸缩杆向靠近晶圆的方向伸展，而后第一吸盘将晶圆吸附住，完成取料作业；s3、第一伸缩杆再次沿罩壳作业面表面滑动，滑动至与第二伸缩杆相对应位置处停止滑动；第二伸缩杆向靠近第一伸缩杆的方向进行伸展，而后第二吸盘配合第一吸盘将晶圆吸附住；s4、而后第一伸缩杆与第二伸缩杆均向抛光组件滑动，当滑动至与抛光组件相对应位置处停止滑动，而后第一吸盘与第二吸盘转动带动晶圆转动，完成对晶圆边缘的抛光作业；s5、完成抛光作业后，第一伸缩杆与第二伸缩杆向靠近出料组件的方向滑动，而后第一吸盘松开，第二吸盘将晶圆继续向靠近出料板的方向滑动，并通过推板将晶圆推送至出料板作业面表面，并最终通过出料板传送至回收台进行回收；s6、以此类推，依次重复s1至s5工作，直到系统停止工作。

技术总结

本发明涉及一种晶圆边缘抛光装置及其抛光方法，包括用于对整体各部件进行承载与定位的基座，并进一步包括传输组件、抛光组件和出料组件三个部分。传输组件包括一端与基座相连，用于对工件进行传送的上料机构；架设于上料机构一侧的取料机构。抛光组件包括一端与基座相连，用于对抛光组件整体定位的支柱；与支柱相连，用于进行抛光作业的抛光机构。出料组件包括一端与基座相连，用于对工件进行承接的承接机构；与承接机构相连的出料机构。传输组件、抛光组件和出料组件均为多个，可同时进行多向上料与出料，有效提升抛光作业的整体效率。取料机构设有风机，可对抛光过程中的抛光飞尘进行吹送引向，避免飞尘对晶圆表面造成损伤与污染。伤与污染。伤与污染。