一种真空镀膜机的制作方法

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1.本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种真空镀膜机。

背景技术：

2.在真空镀膜技术领域，镀膜设备的效率产能、搬送稳定性、生产良品率、基板适用范围，以及产品镀膜的规格品质都是衡量一种真空磁控溅射镀膜设备是否具备竞争力的标准。
3.现有技术中的真空镀膜机包括真空镀膜室和进出料室，待镀膜的基板和已镀膜的基板都通过进出料室转运，由于已镀膜的基板会有一些掉膜渣的现象，往往出料环节容易污染到进料的待镀膜的基板，影响产品良率。而且，现有技术中的搬送机构的动作流程复杂，动作节拍慢，导致生产效率低。

技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜机，能够提高产品良率和生产效率。
5.为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：
6.一种真空镀膜机，包括：
7.真空镀膜室，包括进料口和出料口；
8.进料室和出料室，所述进料室通过第一分隔门封闭所述进料口；所述出料室通过第二分隔门封闭所述出料口；
9.搬送机构，包括第一搬送机构和第二搬送机构，所述第一搬送机构设置于所述进料室，对应所述第一分隔门设置，用于将所述进料室的待镀膜的基板搬送至所述真空镀膜室；所述第二搬送机构设置于所述出料室，对应所述第二分隔门设置，用于将所述真空镀膜室的已镀膜的所述基板搬送至所述出料室。
10.作为真空镀膜机的一个可选方案，所述真空镀膜室内设置有公转盘，所述公转盘的周向设置有多个用于悬挂所述基板的挂架机构，所述挂架机构包括挂板和承载结构，多个所述挂板均布于所述公转盘的周向，所述承载结构设置于所述挂板，用于承载所述基板。
11.作为真空镀膜机的一个可选方案，所述真空镀膜室还包括旋转组件，所述旋转组件设置于状态切换位，所述旋转组件能旋转位于所述状态切换位的所述挂板，以使该所述挂板上的所述基板在搬运状态和镀膜状态之间转换。
12.作为真空镀膜机的一个可选方案，所述旋转组件包括进料旋转组件和出料旋转组件，所述状态切换位包括进料状态切换位和出料状态切换位，所述进料状态切换位靠近所述进料口设置，所述出料状态切换位靠近所述出料口设置，所述进料旋转组件用于将所述第一搬送机构搬送至所述真空镀膜室的待镀膜的所述基板由所述搬运状态旋转至所述镀膜状态，所述出料旋转组件用于将所述真空镀膜室的已镀膜的所述基板由所述镀膜状态旋转至所述搬运状态。
13.作为真空镀膜机的一个可选方案，所述进料室设置有第一基板挂架，所述第一基
板挂架包括多个自所述第一基板挂架的中心轴向外呈辐射状延伸的第一承载板，所述第一承载板用于承载所述基板；
14.所述出料室设置有第二基板挂架，所述第二基板挂架包括多个自所述第二基板挂架的中心轴向外呈辐射状延伸的第二承载板，所述第二承载板用于承载所述基板。
15.作为真空镀膜机的一个可选方案，所述第一搬送机构包括第一上移动机构和第一下移动机构，所述第一上移动机构和所述第一下移动机构共同作用能将位于所述第一承载板上的待镀膜的所述基板平移至所述挂板；
16.所述第二搬送机构包括第二上移动机构和第二下移动机构，所述第二上移动机构和所述第二下移动机构共同作用能将位于所述真空镀膜室内旋转至所述搬运状态的已镀膜的所述基板平移至所述第二承载板。
17.作为真空镀膜机的一个可选方案，所述进料室内还设置有基板加热装置，所述基板加热装置包括板式加热器，所述板式加热器设置于所述第一承载板上，用于加热所述进料室内的待镀膜的所述基板。
18.作为真空镀膜机的一个可选方案，所述第一分隔门包括第一门轴、第一门体和第一驱动件，所述第一门轴设于所述第一门体的一端，所述第一门轴转动设置于所述进料室，所述第一驱动件用于驱动所述第一门轴转动；
19.所述第二分隔门包括第二门轴、第二门体和第二驱动件，所述第二门轴设于所述第二门体的一端，所述第二门轴转动设置于所述出料室，所述第二驱动件用于驱动所述第二门轴转动。
20.作为真空镀膜机的一个可选方案，所述进料室和所述出料室设置为一体结构，通过分隔板分隔成左右对称的所述进料室和所述出料室。
21.作为真空镀膜机的一个可选方案，所述真空镀膜室内设置有多组离子源，所述离子源为电感耦合等离子体。
22.本实用新型的有益效果：
23.本实用新型提供的真空镀膜机，通过设置独立的进料室和出料室，通过进料室内的第一搬送机构从进料室为真空镀膜室搬运待镀膜的基板，通过出料室内的第二搬送机构从真空镀膜室内向出料室搬运已镀膜的基板，实现了待镀膜的基板和已镀膜的基板的有效隔离，解决了相互污染的问题，从而提高了生产良品率。第一搬送机构对应分离进料室和真空镀膜室的第一分隔门设置，第二搬送机构对应分离真空镀膜室和出料室的第二分隔门设置，待镀膜的基板的搬送轨迹为进料室和真空镀膜室之间的最短距离，已镀膜的基板的搬送轨迹为真空镀膜室和出料室之间的最短距离，搬送动作流程简易，以最少的动作实现基板的搬送流转，解决了现有技术中搬送动作节拍慢的技术问题，提高了搬送效率。
附图说明
24.图1是本实用新型实施例提供的真空镀膜机的结构示意图；
25.图2是本实用新型实施例提供的进料室和真空镀膜室的连接结构示意图；
26.图3是本实用新型实施例提供的真空镀膜室和出料室的连接结构示意图；
27.图4是本实用新型实施例提供的真空镀膜室的俯视图。
28.图中：
29.100、基板；
30.1、真空镀膜室；101、进料口；102、出料口；103、公转盘；104、挂板；105、承载结构；106、进料旋转组件；107、出料旋转组件；108、离子源；109、离子源控制装置；110、溅射源；111、溅射源控制装置；112、除水汽装置；113、冷冻机；114、真空泵；115、第一伺服电机；116、第一减速机；117、磁性密封件；
31.2、进料室；201、第一分隔门；2011、第一门轴；2012、第一门体；202、第一基板挂架；2021、第一承载板；203、第一上移动机构；204、第一下移动机构；205、进料门；206、第二伺服电机；207、第二减速机；208、第一驱动带轮；209、第一密封转轴组件；
32.3、出料室；301、第二分隔门；3011、第二门轴；3012、第二门体；302、第二基板挂架；3021、第二承载板；303、第二上移动机构304、第二下移动机构；305、出料门；306、第三伺服电机；307、第三减速机；308、第二驱动带轮；309、第二密封转轴组件；
33.4、第一排气装置；5、第二排气装置；6、板式加热器；7、分隔板。
具体实施方式
34.下面详细描述本实用新型的实施例，实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。
35.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。其中，术语“第一位置”和“第二位置”为两个不同的位置。
36.除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
37.除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一特征和第二特征直接接触，也可以包括第一特征和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
38.下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。
39.如图1-图4所示，本实施例提供了一种真空镀膜机，包括真空镀膜室1、进料室2、出料室3和搬送机构，真空镀膜室1包括进料口101和出料口102；进料室2通过第一分隔门201封闭进料口101；出料室3通过第二分隔门301封闭出料口102；搬送机构包括第一搬送机构
和第二搬送机构，第一搬送机构设置于进料室2，对应第一分隔门201设置，用于将进料室2的待镀膜的基板100搬送至真空镀膜室1；第二搬送机构设置于出料室3，对应第二分隔门301设置，用于将真空镀膜室1的已镀膜的基板100搬送至出料室3。
40.真空镀膜机还包括第一排气装置4和第二排气装置5，第一排气装置4设置于真空镀膜室1，用于真空镀膜室1的排气，实现真空镀膜室1的真空环境。第二排气装置5与进料室2和出料室3均连通，用于进料室2和出料室3的排气，实现进料室2和出料室3的真空环境。进料室2和真空镀膜室1之间设置第一分隔门201，真空镀膜室1与出料室3之间设置第二分隔门301，真空镀膜机的控制单元控制第一分隔门201和第二分隔门301的开关，使得真空镀膜室1可实现不破坏真空进行连续式镀膜。
41.通过设置独立的进料室2和出料室3，通过进料室2内的第一搬送机构从进料室2为真空镀膜室1搬运待镀膜的基板100，通过出料室3内的第二搬送机构从真空镀膜室1内向出料室3搬运已镀膜的基板100，实现了待镀膜的基板100和已镀膜的基板100的有效隔离，解决了现有技术中真空镀膜室1设置一个进出料口和一个进出料室造成已镀膜的基板100和待镀膜的基板100相互污染的问题，从而提高了生产良品率。第一搬送机构对应分离进料室2和真空镀膜室1的第一分隔门201设置，第二搬送机构对应分离真空镀膜室1和出料室3的第二分隔门301设置，待镀膜的基板100的搬送轨迹为进料室2和真空镀膜室1之间的最短距离，已镀膜的基板100的搬送轨迹为真空镀膜室1和出料室3之间的最短距离，搬送动作流程简易，以最少的动作实现基板100的搬送流转，解决了现有技术中搬送动作节拍慢的技术问题，提高了搬送效率。
42.本实施例提供的真空镀膜机为真空磁控溅射镀膜机，真空镀膜室1内设置有多组离子源108，离子源108为电感耦合等离子体。离子源108采用电感耦合等离子体，不仅可以使真空镀膜室1内的工艺温度下降，提高了搬送稳定性，而且能够稳定镀膜工艺，可适用于塑胶等多种材质的基板100，扩大了基板100的适用范围。
43.在真空镀膜室1的周向设置有九个法兰口，其中两个法兰口上配置离子源108，四个法兰口上配置溅射源110，一个法兰口上配置除水汽装置112，两个法兰口上配置真空泵114，离子源108用于离子清洗和等离子体增强镀膜等。离子源108通过离子源控制装置109控制，溅射源110通过溅射源控制装置111控制，除水汽装置112与冷冻机113连接，真空镀膜室1内的水蒸气经除水汽装置112进入冷冻机113冷冻。
44.关于除水汽装置112的工作原理和具体结构，以及真空镀膜室1的工作原理已是现有技术，在此不再赘述。
45.作为真空镀膜机的一个可选方案，第一分隔门201包括第一门轴2011、第一门体2012和第一驱动件，第一门轴2011设于第一门体2012的一端，第一门轴2011转动设置于进料室2，第一驱动件用于驱动第一门轴2011转动；第二分隔门301包括第二门轴3011、第二门体3012和第二驱动件，第二门轴3011设于第二门体3012的一端，第二门轴3011转动设置于出料室3，第二驱动件用于驱动第二门轴3011转动。
46.第一驱动件和第二驱动件均为驱动电机，且均与真空镀膜室1的控制单元电连接，通过真空镀膜室1的控制单元控制第一驱动件驱动第一门轴2011转动，以控制第一门体2012的打开或关闭。通过真空镀膜室1的控制单元控制第二驱动件驱动第二门轴3011转动，以控制第二门体3012的打开或关闭。
47.作为真空镀膜机的一个可选方案，进料室2和出料室3设置为一体结构，通过分隔板7分隔成左右对称的进料室2和出料室3。将进料室2和出料室3设置为一体结构，但在功能上仍为两个独立的腔室，不仅避免了已镀膜的基板100掉渣污染待镀膜的基板100，而且节省了真空镀膜机的占地面积。
48.作为真空镀膜机的一个可选方案，真空镀膜室1内设置有公转盘103，公转盘103的周向设置有多个用于悬挂基板100的挂架机构，挂架机构包括挂板104和承载结构105，多个挂板104均布于公转盘103的周向，承载结构105设置于挂板104，用于承载基板100。
49.公转盘103通过第一伺服电机115驱动旋转，第一伺服电机115连接有第一减速机116，第一减速机116与公转盘103的中心轴连接，第一伺服电机115通过第一减速机116驱动公转盘103旋转。第一伺服电机115和第一减速机116均设置于真空镀膜室1的外面，在第一减速机116和公转盘103的中心轴之间连接有磁性密封件117，以保证真空镀膜室1的密封性。
50.承载结构105可以为挂钩，也可以为挂槽。当承载结构105设置为挂钩时，基板100上设置有挂槽；当承载结构105设置为挂槽时，基板100上设置有挂钩，通过挂钩与挂槽配合将基板100钩挂于挂板104上。当然，在其他实施例中，承载结构105也可以为卡槽或卡勾等卡接结构，当承载结构105为卡槽时，基板100上设置有卡勾；当承载结构105为卡勾时，基板100上设置有卡槽。
51.第一伺服电机115与真空镀膜机的控制单元电连接，通过第一伺服电机115驱动公转盘103旋转，以将搬送至进料口101的待镀膜的基板100依次悬挂至多个挂板104上，然后再将镀膜完成的已镀膜的基板100依次旋转至出料口102经第二搬送机构搬送至出料室3。
52.作为真空镀膜机的一个可选方案，进料室2设置有第一基板挂架202，第一基板挂架202包括多个自第一基板挂架202的中心轴向外呈辐射状延伸的第一承载板2021，第一承载板2021用于承载基板100；出料室3设置有第二基板挂架302，第二基板挂架302包括多个自第二基板挂架302的中心轴向外呈辐射状延伸的第二承载板3021，第二承载板3021用于承载基板100。
53.第一基板挂架202通过第二伺服电机206、第二减速机207、第一驱动带轮208和第一密封转轴组件209构成的驱动装置旋转，将第一基板挂架202的多个第一承载板2021依次旋转至进料口101，然后通过第一搬送机构将第一承载板2021上的待镀膜的基板100依次搬送至真空镀膜室1。第二基板挂架302通过第三伺服电机306、第三减速机307、第二驱动带轮308和第二密封转轴组件309构成的驱动装置旋转，将第二基板挂架302的多个第二承载板3021依次旋转至出料口102，依次接收通过第二搬送机构搬送的已镀膜的基板100。
54.示例性地，第一承载板2021和第二承载板3021上均设置有挂钩，基板100上设置有挂槽，基板100的挂槽与挂钩配合，悬挂于第一承载板2021或第二承载板3021上。
55.进料室2的待镀膜的基板100和出料室3的已镀膜的基板100都是呈侧向直立的方式悬挂，侧向直立是指基板100在搬送过程中以其厚度方向通过搬送通道，以使搬送通道的宽度最小，从而减小了搬送通道的占用空间。在第一搬送机构将待镀膜的基板100搬送至真空镀膜室1，以及第二搬送机构将已镀膜的基板100搬送至出料室3时，无需翻转等复杂动作，只需将侧向直立的基板100平移至真空镀膜室1或出料室3，侧向直立的方式搬送大大减小了搬送通道的占用空间，搬送通道的宽度只需大于所搬送的基板100的最大厚度即可。
56.作为真空镀膜机的一个可选方案，第一搬送机构包括第一上移动机构203和第一下移动机构204，第一上移动机构203和第一下移动机构204共同作用能将位于第一承载板2021上的待镀膜的基板100平移至真空镀膜室1。第二搬送机构包括第二上移动机构303和第二下移动机构304，第二上移动机构303和第二下移动机构304共同作用能将位于真空镀膜室1内旋转至搬运状态的已镀膜的基板100平移至第二承载板3021。
57.示例性地，第一上移动机构203包括第一上直线导轨和第一上夹手，第一上夹手滑设于第一上直线导轨；第一下移动机构204包括第一下直线导轨和第一下夹手，第一下夹手滑设于第一下直线导轨，第一上直线导轨和第二下直线导轨均固定于进料室2，在将进料室2内的待镀膜的基板100搬送至真空镀膜室1时，第一下夹手通过第一升降机构驱动上升至与位于进料口101的第一承载板2021上的基板100的下侧抵接，然后继续上升，使得基板100上的挂槽与第一承载板2021上的挂钩脱离，同时第一上夹手与基板100的上侧抵接，控制第一上夹手和第一下夹手同步移动，并伸入真空镀膜室1内用于接收基板100的挂板104的一侧。然后控制第一升降机构驱动第一下夹手下降，基板100的挂槽与挂板104上的挂钩配合悬挂，同时基板100的上侧与第一上夹手脱离抵接，当基板100上的挂槽与挂板104上的挂钩配合到位后，第一下夹手与基板100的下侧脱离抵接，此时该基板100搬送完成。控制第一基板挂架202转动，将承载下一基板100的第一承载板2021旋转至进料口101，然后控制第一上夹手和第一下夹手移动至进料室2继续搬送下一基板100，直至进料室2内的待镀膜的基板100都搬送至真空镀膜室1，控制第一上夹手和第一下夹手缩回进料室2，并控制第一分隔门201关闭。
58.第二上移动机构303包括第二上直线导轨和第二上夹手，第二上夹手滑设于第二上直线导轨；第二下移动机构304包括第二下直线导轨和第二下夹手，第二下夹手滑设于第二下直线导轨，第二上直线导轨和第二下直线导轨均固定于出料室3，在将真空镀膜室1的已镀膜的基板100搬送至出料室3时，第二上夹手和第二下夹手先移动至真空镀膜室1内，分别位于待搬送的已镀膜的基板100的上下两侧，第二下夹手通过第二升降机构驱动上升至与待搬送的挂板104上的已镀膜的基板100的下侧抵接，然后继续上升，使得该已镀膜的基板100上的挂槽与挂板104上的挂钩脱离，同时第二上夹手与已镀膜的基板100的上侧抵接，然后控制第二上夹手和第二下夹手同步移动，并缩回至出料室3内用于接收已镀膜的基板100的第二承载板3021的一侧。然后控制第二升降机构驱动第二下夹手下降，已镀膜的基板100的挂槽与第二承载板3021上的挂钩配合悬挂，同时已镀膜的基板100的上侧与第二上夹手脱离抵接，当已镀膜的基板100上的挂槽与第二承载板3021上的挂钩配合到位后，第二下夹手与已镀膜的基板100的下侧脱离抵接，此时该已镀膜的基板100搬送完成。控制公转盘103转动，将承载下一已镀膜的基板100的挂板104旋转至出料口102，然后控制第二上夹手和第二下夹手移动至真空镀膜室1继续搬送下一已镀膜的基板100，直至真空镀膜室1内的已镀膜的基板100都搬送至出料室3，控制第二分隔门301关闭。
59.当基板100镀膜完成后，可以按先出料后进料的顺序进行基板100的交换，也可以按同时进出料的方式进行基板100的交换。进料室2远离真空镀膜室1的一端设置有进料门205，通过进料门205向进料室2悬挂待镀膜的基板100。出料室3远离真空镀膜室1的一端设置有出料门305，通过出料门305将镀膜完成的已镀膜的基板100转运至下一工序。
60.在真空镀膜室1镀膜过程中，进料室2和出料室3充入空气，从真空环境转变为大气
环境，进料门205和出料门305开启，将外部待镀膜的基板100通过进料门205转运至进料室2内。出料室3内的已镀膜的基板100通过出料门305转运至下一工序。
61.待镀膜的基板100在真空镀膜室1内镀膜时，待镀膜的基板100需呈正向直立的方式悬挂，正向直立的方式是指基板100的最大面积的平面与公转盘103的径向垂直，以使待镀膜的基板100的最大面积的平面面向镀膜结构镀膜。而第一上移动机构203和第一下移动机构204搬送至真空镀膜室1时待镀膜的基板100是侧向直立的方式，侧向直立的搬送方式能够减小搬送通道的占用空间，待镀膜的基板100搬送至真空镀膜室1后需从侧向直立方式转换成正向直立的方式。同样地，第二上移动机构303和第二下移动机构304自真空镀膜室1向出料室3搬送已镀膜的基板100时已镀膜的基板100也需转换成侧向直立的方式。
62.作为真空镀膜机的一个可选方案，真空镀膜室1还包括旋转组件，旋转组件设置于状态切换位，旋转组件能旋转位于状态切换位的挂板104，以使位于该挂架104上的基板100在搬运状态和镀膜状态之间转换。基板100在搬运状态时，侧向直立；在镀膜状态时，正向直立。通过旋转组件实现在进料口101处待镀膜的基板100自侧向直立的方式向正向直立的方式的转换，以及在出料口102处已镀膜的基板100自正向直立的方式向侧向直立的方式的转换。
63.示例性地，将待镀膜的基板100自侧向直立的方式转换为正向直立的方式和将已镀膜的基板100自正向直立的方式转换为侧向直立的方式均通过旋转组件将挂板104旋转90度，挂板104设置为可相对公转盘103旋转的方式，具体的结构不作限定，只需能够实现挂板104相对公转盘103旋转即可。
64.当然，在其他实施例中，挂板104的旋转角度不限于90度，旋转角度可根据真空镀膜室1内的镀膜结构设置的位置具体设定。
65.作为真空镀膜机的一个可选方案，旋转组件包括进料旋转组件106和出料旋转组件107，状态切换位包括进料状态切换位和出料状态切换位，进料状态切换位靠近进料口101设置，出料状态切换位靠近出料口102设置，进料旋转组件106用于将第一上移动机构203和第一下移动机构204搬送至真空镀膜室1的待镀膜的基板100由搬运状态旋转至镀膜状态，出料旋转组件107用于将真空镀膜时的已镀膜的基板100由镀膜状态旋转至搬运状态。
66.进料状态切换位对应进料口101设置或设置于进料口101的一侧。当进料状态切换位对应进料口101设置时，进料旋转组件106可升降地设置于真空镀膜室1的腔体上，位于挂板104的上方。当需要将待镀膜的基板100自侧向直立的方式转换至正向直立的方式时，进料旋转组件106下降至与其下方的挂板104连接，驱动挂板104旋转。或，进料旋转组件106位于挂板104的下方，进料旋转组件106上升至与其上方的挂板104连接，驱动挂板104旋转，以将待镀膜的基板100自侧向直立的方式转换至正向直立的方式。当进料状态切换位设置于进料口101的一侧时，搬送至进料口101的待镀膜的基板100悬挂于挂板104上之后，旋转工转盘103将该挂板104旋转至进料旋转组件106的下方，通过进料旋转组件106旋转挂板104。
67.出料状态切换位对应出料口102设置或设置于出料口102的一侧，当出料状态切换位对应出料口102设置时，出料旋转组件107可升降地设置于真空镀膜室1的腔体上，位于挂板104的上方。当需要将已镀膜的基板100自正向直立的方式转换至侧向直立的方式时，出料旋转组件107下降至与其下方的挂板104连接，驱动挂板104旋转。或，出料旋转组件107位
于挂板104的下方，出料旋转组件107上升至与其上方的挂板104连接，驱动挂板104旋转；以将已镀膜的基板100自正向直立的方式转换至侧向直立的方式。当出料状态切换位设置于出料口102的一侧时，先将已镀膜的基板100在出料状态切换位由正向直立的方式旋转至侧向直立的方式，然后再旋转公转盘103，将悬挂有该已镀膜的基板100的挂板104旋转至出料口102，再通过第二上移动机构303和第二下移动机构304搬送至出料室3。
68.当然，在其他实施例中，旋转组件也可以设置一个，将该旋转组件设置于进料口101和出料口102之间。在第一上移动机构203和第一下移动机构204将待镀膜的基板100搬送至真空镀膜室1将待镀膜的基板100悬挂至进料口101的挂板104上之后，旋转公转盘103，将该挂板104旋转至状态切换位，通过旋转组件将该待镀膜的基板100由侧向直立的方式转换成正向直立的方式。在将已镀膜的基板100搬送至出料室3时，先将承载该已镀膜的基板100的挂板104旋转至状态切换位，通过旋转组件将该已镀膜的基板100由正向直立的方式转换成侧向直立的方式，然后控制公转盘103旋转，将转换成侧向直立的方式的已镀膜的基板100旋转至出料口102，通过第二上移动机构303和第二下移动机构304将该已镀膜的基板100搬送至出料室3。
69.待镀膜的基板100需要加热后再进行镀膜，如果待镀膜的基板100表面受热不均匀，会影响镀膜品质。
70.作为真空镀膜机的一个可选方案，进料室2内还设置有基板加热装置，基板加热装置包括板式加热器6，板式加热器6设置于第一承载板2021上，用于加热进料室2内的待镀膜的基板100。将板式加热器6设置于第一承载板2021上，每个待镀膜的基板100都配有独立的板式加热器6，板式加热器6的热量能够全面有效地辐射到与其对应的第一承载板2021上悬挂的待镀膜的基板100，使得待镀膜的基板100受热均匀，提高了产品镀膜品质。
71.以上内容仅为本实用新型的较佳实施例，对于本领域的普通技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。

技术特征：

1.一种真空镀膜机，其特征在于，包括：真空镀膜室(1)，包括进料口(101)和出料口(102)；进料室(2)和出料室(3)，所述进料室(2)通过第一分隔门(201)封闭所述进料口(101)；所述出料室(3)通过第二分隔门(301)封闭所述出料口(102)；搬送机构，包括第一搬送机构和第二搬送机构，所述第一搬送机构设置于所述进料室(2)，对应所述第一分隔门(201)设置，用于将所述进料室(2)的待镀膜的基板(100)搬送至所述真空镀膜室(1)；所述第二搬送机构设置于所述出料室(3)，对应所述第二分隔门(301)设置，用于将所述真空镀膜室(1)的已镀膜的所述基板(100)搬送至所述出料室(3)。2.根据权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于，所述真空镀膜室(1)内设置有公转盘(103)，所述公转盘(103)的周向设置有多个用于悬挂所述基板(100)的挂架机构，所述挂架机构包括挂板(104)和承载结构(105)，多个所述挂板(104)均布于所述公转盘(103)的周向，所述承载结构(105)设置于所述挂板(104)，用于承载所述基板(100)。3.根据权利要求2所述的真空镀膜机，其特征在于，所述真空镀膜室(1)还包括旋转组件，所述旋转组件设置于状态切换位，所述旋转组件能旋转位于所述状态切换位的所述挂板(104)，以使该所述挂板(104)上的所述基板(100)在搬运状态和镀膜状态之间转换。4.根据权利要求3所述的真空镀膜机，其特征在于，所述旋转组件包括进料旋转组件(106)和出料旋转组件(107)，所述状态切换位包括进料状态切换位和出料状态切换位，所述进料状态切换位靠近所述进料口(101)设置，所述出料状态切换位靠近所述出料口(102)设置，所述进料旋转组件(106)用于将所述第一搬送机构搬送至所述真空镀膜室(1)的待镀膜的所述基板(100)由所述搬运状态旋转至所述镀膜状态，所述出料旋转组件(107)用于将所述真空镀膜室(1)的已镀膜的所述基板(100)由所述镀膜状态旋转至所述搬运状态。5.根据权利要求4所述的真空镀膜机，其特征在于，所述进料室(2)设置有第一基板挂架(202)，所述第一基板挂架(202)包括多个自所述第一基板挂架(202)的中心轴向外呈辐射状延伸的第一承载板(2021)，所述第一承载板(2021)用于承载所述基板(100)；所述出料室(3)设置有第二基板挂架(302)，所述第二基板挂架(302)包括多个自所述第二基板挂架(302)的中心轴向外呈辐射状延伸的第二承载板(3021)，所述第二承载板(3021)用于承载所述基板(100)。6.根据权利要求5所述的真空镀膜机，其特征在于，所述第一搬送机构包括第一上移动机构(203)和第一下移动机构(204)，所述第一上移动机构(203)和所述第一下移动机构(204)共同作用能将位于所述第一承载板(2021)上的待镀膜的所述基板(100)平移至所述挂板(104)；所述第二搬送机构包括第二上移动机构(303)和第二下移动机构(304)，所述第二上移动机构(303)和所述第二下移动机构(304)共同作用能将位于所述真空镀膜室(1)内旋转至所述搬运状态的已镀膜的所述基板(100)平移至所述第二承载板(3021)。7.根据权利要求5所述的真空镀膜机，其特征在于，所述进料室(2)内还设置有基板加热装置，所述基板加热装置包括板式加热器(6)，所述板式加热器(6)设置于所述第一承载板(2021)上，用于加热所述进料室(2)内的待镀膜的所述基板(100)。8.根据权利要求1-7任一项所述的真空镀膜机，其特征在于，所述第一分隔门(201)包括第一门轴(2011)、第一门体(2012)和第一驱动件，所述第一门轴(2011)设于所述第一门
体(2012)的一端，所述第一门轴(2011)转动设置于所述进料室(2)，所述第一驱动件用于驱动所述第一门轴(2011)转动；所述第二分隔门(301)包括第二门轴(3011)、第二门体(3012)和第二驱动件，所述第二门轴(3011)设于所述第二门体(3012)的一端，所述第二门轴(3011)转动设置于所述出料室(3)，所述第二驱动件用于驱动所述第二门轴(3011)转动。9.根据权利要求1-7任一项所述的真空镀膜机，其特征在于，所述进料室(2)和所述出料室(3)设置为一体结构，通过分隔板(7)分隔成左右对称的所述进料室(2)和所述出料室(3)。10.根据权利要求1-7任一项所述的真空镀膜机，其特征在于，所述真空镀膜室(1)内设置有多组离子源(108)，所述离子源(108)为电感耦合等离子体。

技术总结

本实用新型公开了一种真空镀膜机，涉及真空镀膜技术领域。该真空镀膜机包括真空镀膜室、进料室、出料室和搬送机构，真空镀膜室包括进料口和出料口；进料室通过第一分隔门封闭进料口；出料室通过第二分隔门封闭出料口；搬送机构包括第一搬送机构和第二搬送机构，第一搬送机构设置于进料室，对应第一分隔门设置，用于将进料室的待镀膜的基板搬送至真空镀膜室；第二搬送机构设置于出料室，对应第二分隔门设置，用于将真空镀膜室的已镀膜的基板搬送至出料室。该真空镀膜机提高了生产良品率和搬送效率。率。率。