一种显示基板、显示装置和制作方法与流程

阅读：评论：0

1.本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示基板、显示装置和制作方法。

背景技术：

2.随着科技的进步，社会生活水平的提高，消费者对于显示产品的要求日益提高，对显示器厂商而言，生产高分辨率、高画质的显示器是确定的发展方向。相关技术中，通常采用量子点技术和有机发光技术共同形成具有较高出光效率的显示装置，然而存在混和白光偏发黄的现象。
3.如何解决混和白光偏发黄的问题以提高显示装置的显示效果成为本领域技术人员亟待解决的技术问题。

技术实现要素：

4.为了解决上述问题至少之一，本发明第一方面提供一种显示基板，包括衬底、层叠形成在所述衬底上的有机发光层、第一无机封装层、颜转换层和第二无机封装层，其中，
5.所述有机发光层，包括阵列排布的多个发光单元；
6.所述颜转换层，响应于所述发光单元出射光的驱动形成各颜光以合成白光；
7.所述第一无机封装层、颜转换层和第二无机封装层形成所述有机发光层的封装层。
8.例如，在本技术一些实施例提供的显示基板中，所述第一无机封装层包括sino和sinx中的至少一种，所述第一无机封装层的厚度大于等于2μm并且小于等于3μm。
9.例如，在本技术一些实施例提供的显示基板中，所述颜转换层包括像素坝、以及设置在所述像素坝限定的至少部分开口中的填充材料，其中
10.在垂直于所述衬底的方向上，所述像素坝的厚度大于等于3μm且小于等于20μm；
11.至少部分所述填充材料包括量子点材料。
12.例如，在本技术一些实施例提供的显示基板中，所述显示基板包括红子像素、绿子像素和蓝子像素，所述显示基板还包括设置在所述第二无机封装层上的且设置在所述红子像素和绿子像素上的光取出层，包括：
13.间隔设置在所述第二无机封装层上的透镜层，所述透镜层在所述衬底上的正投影覆盖相邻红子像素和绿子像素的间隔在所述衬底上的正投影；以及
14.至少部分覆盖所述透镜层的第一介质层，所述第一介质层的折射率大于所述透镜层的折射率，所述第一介质层在所述衬底上的正投影覆盖所述红子像素在所述衬底上的正投影，所述第一介质层在所述衬底上的正投影覆盖所述绿子像素在所述衬底上的正投影。
15.例如，在本技术一些实施例提供的显示基板中，在垂直于所述衬底的方向上，
16.所述透镜层的厚度大于等于1.5μm且小于等于3μm，所述透镜层的折射率大于等于1.3且小于等于1.5；
17.所述第一介质层的厚度大于等于3μm且小于等于6μm，所述第一介质层的折射率大于等于1.7且小于等于1.9。
18.例如，在本技术一些实施例提供的显示基板中，所述第一介质层在所述衬底上的正投影与所述衬底重合。
19.例如，在本技术一些实施例提供的显示基板中，所述第一介质层在所述衬底上的正投影与所述透镜层在所述衬底上的正投影部分重叠，并且所述第一介质层的开口大于所述透镜层的开口。
20.例如，在本技术一些实施例提供的显示基板中，还包括设置在所述第二无机封装层上的阻层，
21.所述阻层设置在所述光取出层靠近所述衬底的一侧，或者设置在所述光取出层远离所述衬底的一侧；
22.所述阻层包括黑矩阵、以及设置在所述黑矩阵限定的部分开口中的阻材料，所述阻材料包括对应于所述红子像素的红阻材料和对应于所述绿子像素的绿阻材料，所述对应于所述蓝子像素的黑矩阵开口大于、对应于所述红子像素和绿子像素的黑矩阵开口。
23.例如，在本技术一些实施例提供的显示基板中，所述所述红子像素和绿子像素对应的黑矩阵开口小于等于所述透镜层的开口。
24.例如，在本技术一些实施例提供的显示基板中，所述颜转换层包括像素坝、以及设置在所述像素坝限定的至少部分开口中的填充材料，所述红子像素和绿子像素对应的黑矩阵开口小于等于所述透镜层的开口，所述透镜层的开口大于等于所述像素坝的开口，与所述蓝子像素对应的所述像素坝的开口中填充有蓝阻。
25.例如，在本技术一些实施例提供的显示基板中，所述显示基板还包括设置在所述第二无机封装层上的阻层，
26.所述阻层包括黑矩阵、设置在所述黑矩阵限定的开口中的阻材料、以及覆盖所述阻材料和黑矩阵的第二介质层，其中，
27.所述阻材料包括对应于所述红子像素的红阻材料、对应于所述绿子像素的绿阻材料、以及对应于所述蓝子像素的蓝阻材料，并且所述红阻材料和绿阻材料包括多个凹状结构，所述蓝阻材料包括多个凸状结构，所述红子像素和绿子像素对应的黑矩阵开口小于所述蓝子像素对应的黑矩阵开口；
28.所述第二介质层的折射率大于所述阻材料的折射率，所述阻材料和第二介质层复用为光取出层。
29.本发明第二方面提供一种显示装置，包括如第一方面所述的显示基板。
30.本发明第三方面提供一种制作第一方面所述的显示基板的制作方法，包括：
31.形成在衬底上的有机发光层，包括阵列排布的多个发光单元；
32.形成在所述有机发光层上的第一无机封装层；
33.形成在所述第一无机封装层上的颜转换层，响应于所述发光单元出射光的驱动形成各颜光以合成白光；
34.形成在所述颜转换层上的第二无机封装层，所述第一无机封装层、颜转换层和第二无机封装层形成所述有机发光层的封装层。
35.本发明的有益效果如下：
36.本发明针对目前现有的问题，制定一种显示基板、显示装置和制作方法，通过将颜转换层设置在封装层内并作为封装层的一部分，有效拉近颜转换层和有机发光层的距离，从而有效解决由于有机发光二极管大角度的光引发周边颜转换层发光导致的漏光问题，通过限定的颜转换层有效改善白光的偏问题；特别的，通过包括低折透镜层和高折介质层的光取出层，使得从颜转换层出射的红光和绿光在高折介质层到低折透镜层的接触面发生全反射以减小红光和绿光的大视角光，从而加快红光和绿光的大视角衰减，进一步改善白光的偏问题，能够弥补相关技术中存在的偏问题，有效提高显示装置的显示效果，进而提高用户体验，具有广泛的应用前景。
附图说明
37.为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
38.图1a-1b示出量子点-红光和有机发光二极管蓝光、量子点-绿光和有机发光二极管蓝光的视角-亮度衰减示意图；
39.图2示出本发明的一个实施例所述显示基板的结构示意图；
40.图3示出本发明的一个实施例所述制作方法的流程图；
41.图4示出本发明的另一个实施例所述显示基板的结构示意图；
42.图5a-5b示出本发明一个实施例的量子点-红光和有机发光二极管蓝光、量子点-绿光和有机发光二极管蓝光的视角-亮度衰减示意图；
43.图6示出本发明的另一个实施例所述显示基板的结构示意图；
44.图7a-7b示出本发明的另一个实施例所述显示基板的结构示意图；
45.图8示出本发明的另一个实施例所述显示基板的结构示意图。
具体实施方式
46.为了更清楚地说明本发明，下面结合优选实施例和附图对本发明做进一步的说明。附图中相似的部件以相同的附图标记进行表示。本领域技术人员应当理解，下面所具体描述的内容是说明性的而非限制性的，不应以此限制本发明的保护范围。
47.需要说明的是，本文中所述的“在
……
上”、“在
……
上形成”和“设置在
……
上”可以表示一层直接形成或设置在另一层上，也可以表示一层间接形成或设置在另一层上，即两层之间还存在其它的层。在本文中，除非另有说明，所采用的术语“位于同一层”指的是两个层、部件、构件、元件或部分可以通过同一构图工艺形成，并且，这两个层、部件、构件、元件或部分一般由相同的材料形成。在本文中，除非另有说明，表述“构图工艺”一般包括光刻胶的涂布、曝光、显影、刻蚀、光刻胶的剥离等步骤。表述“一次构图工艺”意指使用一块掩模板形成图案化的层、部件、构件等的工艺。
48.针对相关技术中存在的白光偏问题，发明人经过经大量研究和试验提出，因颜转换层使用的量子点技术的量子点-蓝光的寿命问题，颜转换层包括量子点-红光和量
子点-绿光，显示装置的蓝光为有机发光技术发出的蓝光，如图1a所示，为量子点-红光和有机发光二极管的蓝光的视角-亮度衰减示意图，其中，x轴表示视角，从-90度视角到90度视角，y轴为发光亮度百分比，以0视角(即正视角)的亮度为单位1，其他视角的亮度以正视角亮度为基准进行表征，虚线曲线为量子点-红光的衰减曲线，实线曲线为有机发光二极管的蓝光的衰减曲线，如图可知，有机发光二极管的蓝光在大视角的衰减速度远快于量子点-红光的衰减速度；同理，如图1b所示，为量子点-绿光和有机发光二极管的蓝光的视角-亮度衰减示意图，虚线曲线为量子点-绿光的衰减曲线，实线曲线为有机发光二极管的蓝光的衰减曲线，如图可知，有机发光二极管的蓝光在大视角的衰减速度远快于量子点-绿光的衰减速度。同时由于显示装置的白光是由红、绿、蓝三种颜的光混合而成，当三种颜的光亮度和调随视角变化不一致时，合成的白光发生偏。同时，由于颜转换层的量子点-红光和量子点-绿光均通过有机发光层发出的蓝光激发，当量子点-红光和量子点-绿光中仅一个发光时，有机发光层发出的大角度蓝光同时会激发相邻量子点材料发光，从而导致混现象。
49.根据上述问题和导致该问题的原因，如图2所示，本发明的一个实施例提供了一种显示基板，包括衬底10、层叠形成在所述衬底10上的有机发光层40、第一无机封装层51、颜转换层52和第二无机封装层53，其中，
50.所述有机发光层40，包括阵列排布的多个发光单元；
51.所述颜转换层52，响应于所述发光单元出射光的驱动形成各颜光以合成白光；
52.所述第一无机封装层51、颜转换层52和第二无机封装层53形成所述有机发光层的封装层。
53.在本实施例中，颜转换层为量子点层，通过将颜转换层设置在封装层内并作为封装层的一部分，有效拉近量子点层和有机发光层的距离，从而有效解决由于有机发光二极管大角度的光引发周边颜转换层发光导致的漏光问题，通过限定的颜转换层有效改善白光的偏问题。
54.在一个具体的示例中，如图2和图3所示，以制作本实施例的显示基板为例进行说明。
55.第一步，形成在衬底上的有机发光层，包括阵列排布的多个发光单元。
56.在本实施例中，在衬底10上依次层叠形成薄膜晶体管层20、平坦化层30和有机发光层40，有机发光层40包括形成在平坦化层30上的阳极41、像素界定层42，设置在像素界定层42形成的开口中的有机功能层43、覆盖有机功能层43的阴极44。有机功能层包括有机材料层，本实施例的有机材料层发射蓝光，并通过发射的蓝光激发颜转换层的量子点发光。其中，有机材料层可以为一个发光材料层，为了进一步提高有机材料层的发光效率，有机材料层也可以为叠加的多个发光材料层，例如采用三层层叠设置的蓝光发光材料层，或者采用三层层叠设置的蓝光-绿光-蓝光的发光材料层，或者采用四层层叠设置的蓝光-蓝光-蓝光-绿光的发光材料层，均能进一步提高发光效率。
57.第二步，形成在所述有机发光层上的第一无机封装层。
58.在本实施例中，采用单层加厚的第一无机封装层对有机发光层进行封装，以避免有机发光层受到水氧侵蚀。具体的，所述第一无机封装层包括sino和sinx中的至少一种，所
述第一无机封装层的厚度大于等于2μm并且小于等于3μm。相比与相关技术中封装层的无机层的厚度为1μm，本实施例的第一无机封装层通过加厚进一步增加封装可靠性。
59.第三步，形成在所述第一无机封装层上的颜转换层，响应于所述发光单元出射光的驱动形成各颜光以合成白光。
60.在本实施例中，颜转换层为量子点发光层，受到有机发光层发出的蓝光激发形成红光和绿光，并与有机发光层发出的蓝光共同形成白光。
61.在一个可选的实施例中，如图2所示，所述颜转换层52包括像素坝521、以及设置在所述像素坝限定的至少部分开口中的填充材料522、523和524，其中，在垂直于所述衬底10的方向上，所述像素坝521的厚度大于等于3μm且小于等于20μm；至少部分所述填充材料包括量子点材料。
62.在本实施例中，颜转换层包括设置在像素坝限定的至少部分开口中的填充材料，例如对应于红子像素、绿子像素和蓝子项的填充材料，其中对应于红子像素的填充材料中掺杂有红量子点，对应于绿子像素的填充材料中掺杂有绿量子点，对应于蓝子像素的填充材料中掺杂有散射材料；或者仅包括对应于红子像素和绿子像素的填充材料，对应掺杂对应颜的量子点。
63.本实施例通过设置厚度大于等于3μm且小于等于20μm的像素坝，例如10μm的像素坝，有效降低量子点-红光和量子点-绿光的转换效率，从而改善白光偏的问题。
64.第四步，形成在所述颜转换层上的第二无机封装层，所述第一无机封装层、颜转换层和第二无机封装层形成所述有机发光层的封装层。
65.在本实施例中，在颜转换层远离衬底的一侧形成第二无机封装层，从而形成了由第一无机封装层
‑‑
颜转换层
‑‑
第二无机封装层组成用于保护有机发光层的封装层，即本实施例的有机发光层在加厚的第一无机封装层的保护的基础上，同时复用颜转换层，一方面通过颜转换层形成红光和绿光，一方面将颜转换层作为封装层中的有机层以实现对有机发光层的保护，从而利用设置在封装层中的颜转换层拉近量子点与有机发光层的距离，从而有效解决由于有机发光二极管大角度的光引发周边颜转换层发光导致的漏光问题，通过限定的颜转换层有效改善白光的偏问题。
66.至此完成本实施例的显示基板的制作。
67.为进一步改善白光偏问题，在一个可选的实施例中，如图4所示，所述显示基板包括红子像素100、绿子像素200和蓝子像素300，所述显示基板还包括设置在所述第二无机封装层53上的且设置在所述红子像素100和绿子像素200上的光取出层60，包括：
68.间隔设置在所述第二无机封装层53上的透镜层611，所述透镜层611在所述衬底10上的正投影覆盖相邻红子像素100和绿子像素200的间隔在所述衬底10上的正投影；以及
69.至少部分覆盖所述透镜层的第一介质层62，所述第一介质层62的折射率大于所述透镜层611的折射率，所述第一介质层62在所述衬底10上的正投影覆盖所述红子像素100在所述衬底10上的正投影，所述第一介质层62在所述衬底10上的正投影覆盖所述绿子像素200在所述衬底10上的正投影。
70.在一个具体的示例中，在垂直于所述衬底的方向上，本实施例的所述透镜层611的
厚度大于等于1.5μm且小于等于3μm，所述透镜层611的折射率大于等于1.3且小于等于1.5；所述第一介质层62的厚度大于等于3μm且小于等于6μm，所述第一介质层62的折射率大于等于1.7且小于等于1.9。
71.在本实施例中，通过在封装层上设置光取出层，通过光取出层中具有低折射率的透镜层611和高折射率的第一介质层62，612为与透镜层同层设置的透光层，改变量子点-红光和量子点-绿光的大视角出光为小视角出光，从而加快量子点-红光和量子点-绿光的大视角衰减，有效改善偏。具体的，如图4所示，通过红子像素100出射的量子点-红光的光路1001可知，量子点-红光的大视角出光先进入高折射率的第一介质层62再到低折射率的透镜层611，在第一介质层62和透镜层611的接触面上，量子点-红光的大视角出光从高折射率到低折射率发生全反射并改变出光方向从第一介质层62出射；同理，通过绿子像素200出射的量子点-绿光的光路2001可知，量子点-绿光的大视角出光先进入高折射率的第一介质层62再到低折射率的透镜层611，在第一介质层62和透镜层611的接触面上，量子点-绿光的大视角出光从高折射率到低折射率发生全反射并改变出光方向从第一介质层62出射；从而将量子点-红光和量子点-绿光的大视角出光转变为小视角或正视角出光，即减少了大视角出光，从而实现加快量子点-红光和量子点-绿光的大视角衰减，有效改善偏。
72.如图5a所示，为本实施例的量子点-红光和有机发光二极管的蓝光的视角-亮度衰减示意图，其中，x轴表示视角，从-90度视角到90度视角，y轴为发光亮度百分比，以0视角(即正视角)的亮度为单位1，其他视角的亮度以正视角亮度为基准进行表征，虚线曲线为量子点-红光的衰减曲线，实线曲线为有机发光二极管的蓝光的衰减曲线，与图1a相比，量子点-红光的衰减速度在大视角的衰减速度大幅加快，并且衰减速度快于量子点-红光的衰减速度；同时，如图5b所示，为本实施例的量子点-绿光和有机发光二极管的蓝光的视角-亮度衰减示意图，其中，虚线曲线为量子点-绿光的衰减曲线，实线曲线为有机发光二极管的蓝光的衰减曲线，与图1b相比，量子点-绿光的衰减速度在大视角的衰减速度大幅加快，并且衰减速度快于量子点-绿光的衰减速度；本实施例通过在颜转换层远离衬底的一侧设置具有高折射率的第一介质层和具有低折射率的透镜层有效增加量子点-红光和量子点-绿光的衰减速度，并增加显示装置的正视角的出光效率，从而降低功耗。
73.在一个具体的示例中，如图4所示，所述第一介质层在所述衬底上的正投影与所述衬底重合。
74.本实施例通过覆盖透镜层，改变量子点-红光和量子点-绿光的大视角出光的光路，从而增加量子点-红光和量子点-绿光的衰减速度。
75.在另一个具体的示例中，如图6所示，所述第一介质层在所述衬底上的正投影与所述透镜层在所述衬底上的正投影部分重叠，并且所述第一介质层的开口大于所述透镜层的开口。
76.本实施例通过设置图形化的第一介质层，并且第一介质层的开口大于透镜层的开口，确保从量子点-红光和量子点-绿光的大视角出光先进入高折射率的第一介质层以在与低折射率的透镜层的接触面上发生全反射，以改变量子点-红光和量子点-绿光的大视角出光的光路，从而增加量子点-红光和量子点-绿光的衰减速度；同时，通过设置图形化的第一介质层，从第一介质层侧向出射的光会在图形化的边缘表面形成高折射率的第一介质层与外部介质层的折射面，使得从第一介质层侧向出射的光在接触面上发生折射，从而使得侧
向出射的光进一步向中间汇聚，进一步减小量子点-红光和量子点-绿光的侧视角，加快量子点-红光和量子点-绿光的衰减速度。
77.为进一步改善白光偏问题，在一个可选的实施例中，如图7a和图7b所示，显示基板还包括设置在所述第二无机封装层上的阻层70，
78.所述阻层70设置在所述光取出层60靠近所述衬底10的一侧，或者设置在所述光取出层60远离所述衬底10的一侧；
79.所述阻层70包括黑矩阵71、以及设置在所述黑矩阵71限定的部分开口中的阻材料，所述阻材料包括对应于所述红子像素100的红阻材料721和对应于所述绿子像素200的绿阻材料722，所述对应于所述蓝子像素300的黑矩阵开口大于、对应于所述红子像素100和绿子像素200的黑矩阵开口。
80.在本实施例的一个具体示例中，如图7a所示，阻层70设置在所述光取出层60靠近所述衬底10的一侧，即阻层70设置在封装层50上，通过设置阻层70上对应红子像素100和绿子像素200的黑矩阵开口，进一步缩短量子点-红光和量子点-绿光的视角，加快量子点-红光和量子点-绿光的大视角衰减速度。具体的，黑矩阵相对于蓝子像素300的开口大于黑矩阵相对于红子像素100和绿子像素200的开口，即黑矩阵形成的设置红子像素100的阻721的开口、设置绿子像素200的阻722的开口均小于设置蓝子像素300的开口，本实施例中蓝子像素300对应的阻层70的开口中填充的是蓝阻723或透光材料723。
81.例如，在一个示例中，如图7a所示，阻层70包括黑矩阵限定的不同子像素的开口，例如在对应红子像素100的开口中设置红阻721、在对应绿子像素200的开口中设置绿阻722、在对应蓝子像素300的开口中设置蓝阻723；并通过限定蓝子像素300的黑矩阵开口大于红子像素100和绿子像素200的黑矩阵开口，有效缩短量子点-红光和量子点-绿光的视角，加快量子点-红光和量子点-绿光的大视角衰减速度。
82.考虑到进一步提高蓝光的透光率，在一个示例中，结合颜转换层和阻层形成各子像素的阻。具体的，在颜转换层52的像素坝相对于红子像素100限定的开口中设置量子点-红光材料524，在颜转换层52的像素坝相对于绿子像素200限定的开口中设置量子点-绿光材料523，在颜转换层52的像素坝相对于蓝子像素300限定的开口中设置蓝阻522，即将蓝阻522形成在颜转换层，从而有效增加蓝光的透过率并降低显示基板的制作成本，同时在阻层对应于蓝子像素300的开口中设置透光材料。在将蓝阻设置在颜转换层的基础上，在阻层仅形成红子像素100的红阻和绿子像素200的绿阻，并通过限定阻层的不同子像素的黑矩阵开口的大小进一步缩短红光和绿光的出光视角。
83.需要说明的是，由于阻的厚度对透过率的影响，在本实施例中，蓝阻的厚度小于等于像素坝的厚度，本领域技术人员应当理解，显示基板的各膜层在蓝子像素300区域可能存在高度不同的情况，本领域技术人员应当根据实际应用需求进行设定，在此不再赘述。
84.在本实施例的一个具体示例中，如图7b所示，阻层70设置在所述光取出层60远离所述衬底10的一侧，即阻层70设置在光取出层60上，通过设置阻层70上对应红子像素100和绿子像素200的黑矩阵开口，进一步缩短量子点-红光和量子点-绿光的视角，
加快量子点-红光和量子点-绿光的大视角衰减速度。具体的，黑矩阵相对于蓝子像素300的开口大于黑矩阵相对于红子像素100和绿子像素200的开口，即黑矩阵形成的设置红子像素100的阻721的开口、设置绿子像素200的阻722的开口均小于设置蓝子像素300的开口，本实施例中蓝子像素300对应的阻层70的开口中填充的是蓝阻723或透光材料723。
85.参见前述实施例，将蓝阻设置在阻层或者设置在颜转换层的示例也适用于本实施例，本领域人员在此基础上进行的修改均在本技术的保护范围内，在此不再赘述。
86.为进一步缩短红光和绿光的视角，在一个可选的实施例中，所述红子像素和绿子像素对应的黑矩阵开口小于等于所述透镜层的开口。
87.在本实施例中，如图7a和7b所示，当红光和绿光的黑矩阵的开口小于等于透镜层的开口时，红光和绿光的大视角衰减速度越快，即黑矩阵的开口限定了红光和绿光的部分大视角出光，从而缩短了红光和绿光的视角，与有机发光二极管的蓝光的大视角衰减速度相匹配，进一步有效改善白光偏的问题。
88.值得说明的是，当黑矩阵的开口大于所述透镜层的开口时，能够提高量子点-红光和量子点绿光的外量子效率。考虑到本技术的前述实施例中，已经通过设置颜转换层的像素坝高度弱化红光和绿光的出光效率、以及通过颜转换层和光取出层结合缩短红光和绿光的视角已经匹配了量子点-红光、量子点-绿光和有机发光二极管蓝光的视角衰减，因此本领域技术人员应当根据实际应用需求，选择以缩短红光和绿光的视角或以提高颜转换层的外量子效率为设计重点，并对黑矩阵开口进行适当的设计，均在本技术的保护范围内，在此不再赘述。
89.在一个可选的实施例中，所述颜转换层包括像素坝、以及设置在所述像素坝限定的至少部分开口中的填充材料，所述红子像素和绿子像素对应的黑矩阵开口小于等于所述透镜层的开口，所述透镜层的开口大于等于所述像素坝的开口，与所述蓝子像素对应的所述像素坝的开口中填充有蓝阻。
90.在本实施例中，通过将蓝子像素的蓝阻设置在颜转换层、将红子像素的红阻和绿子像素的绿阻设置在阻层，即结合颜转换层和阻层形成各子像素的阻。在此基础上，通过限定红子像素和绿子像素在阻层的黑矩阵开口与对应的透镜层开口，以及与像素坝的开口，进一步限定红光和绿光的出光角度，缩短红光和绿光的视角，加快红光和绿光在大视角的衰减速度，从而有效改善白光的偏问题。
91.在一个可选的实施例中，如图8所示，所述显示基板还包括设置在所述第二无机封装层53上的阻层70，
92.所述阻层70包括黑矩阵71、设置在所述黑矩阵71限定的开口中的阻材料721、722和723、以及覆盖所述阻材料和黑矩阵71的第二介质层73，其中，
93.所述阻材料包括对应于所述红子像素的红阻材料721、对应于所述绿子像素的绿阻材料722、以及对应于所述蓝子像素的蓝阻材料723，并且所述红阻材料721和绿阻材料722包括多个凹状结构，所述蓝阻材料723包括多个凸状结构，所述红子像素和绿子像素对应的黑矩阵开口小于所述蓝子像素对应的黑矩阵开口；
94.所述第二介质层73的折射率大于所述阻材料的折射率，所述阻材料和第二介
质层复用为光取出层。在本实施例中，通过图案化设置的各子像素的阻材料，以及与阻材料匹配设置的第二介质层，所述阻层不仅实现了阻功能、提高了各子像素的出光效率，同时通过限定黑矩阵的开口缩短了红光和绿光的视角，并且通过限定各子像素的阻材料的图形化、以及各阻材料的折射率与第二介质层的折射率的关系复用为光取出层以进一步匹配各子像素出光的视角衰减速度。具体的，蓝子像素300对应的黑矩阵开口大于红子像素100和绿子像素200对应的黑矩阵开口，从而进一步减小红光和绿光的大视角出光、即加快了红光和绿光的大视角衰减；同时，利用折射率较高的第二介质层覆盖折射率较低的阻材料，并将红子像素100的阻材料721和绿子像素200的阻材料722设置为凹透镜、即相对于出射光形成以第二介质层的凸透镜，从而对出射光进行汇聚以减小红光和绿光的大视角出光，并将蓝子像素300的阻材料设置为凸透镜、即相对于出射光形成以第二介质层的凹透镜，从而对出射光进行发散以增加蓝光的大视角出光，从而加快红光和绿光的大视角衰减速度、减缓蓝光的大视角衰减速度，从而有效改善显示基板的白光偏。
95.值得说明的是，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
96.与上述实施例提供的显示基板相对应，本技术的一个实施例还提供一种制作上述显示基板的制作方法，由于本技术实施例提供的制作试方法与上述几种实施例提供的显示基板相对应，因此在前实施方式也适用于本实施例提供的制作方法，在本实施例中不再详细描述。
97.如图3所示，本技术的一个实施例还提供一种制作上述显示基板的制作方法，包括：
98.形成在衬底上的有机发光层，包括阵列排布的多个发光单元；
99.形成在所述有机发光层上的第一无机封装层；
100.形成在所述第一无机封装层上的颜转换层，响应于所述发光单元出射光的驱动形成各颜光以合成白光；
101.形成在所述颜转换层上的第二无机封装层，所述第一无机封装层、颜转换层和第二无机封装层形成所述有机发光层的封装层。
102.本实施例制作的显示基板，通过将颜转换层设置在封装层内并作为封装层的一部分，有效拉近量子点层和有机发光层的距离，从而有效解决由于有机发光二极管大角度的光引发周边颜转换层发光导致的漏光问题，通过限定的颜转换层有效改善白光的偏问题。
103.基于上述显示基板，本发明的另一个实施例提供了一种显示装置，包括上述显示基板，并且所述显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框或导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
104.本发明针对目前现有的问题，制定一种显示基板、显示装置和制作方法，通过将颜转换层设置在封装层内并作为封装层的一部分，有效拉近颜转换层和有机发光层的距离，从而有效解决由于有机发光二极管大角度的光引发周边颜转换层发光导致的漏光问题，通过限定的颜转换层有效改善白光的偏问题；特别的，通过包括低折透镜层和高折介质层的光取出层，使得从颜转换层出射的红光和绿光在高折介质层到低折透镜层的接
触面发生全反射以减小红光和绿光的大视角光，从而加快红光和绿光的大视角衰减，进一步改善白光的偏问题，能够弥补相关技术中存在的偏问题，有效提高显示装置的显示效果，进而提高用户体验，具有广泛的应用前景。
105.显然，本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定，对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动，这里无法对所有的实施方式予以穷举，凡是属于本发明的技术方案所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之列。

技术特征：

1.一种显示基板，其特征在于，包括衬底、层叠形成在所述衬底上的有机发光层、第一无机封装层、颜转换层和第二无机封装层，其中，所述有机发光层，包括阵列排布的多个发光单元；所述颜转换层，响应于所述发光单元出射光的驱动形成各颜光以合成白光；所述第一无机封装层、颜转换层和第二无机封装层形成所述有机发光层的封装层。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一无机封装层包括sino和sinx中的至少一种，所述第一无机封装层的厚度大于等于2μm并且小于等于3μm。3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述颜转换层包括像素坝、以及设置在所述像素坝限定的至少部分开口中的填充材料，其中在垂直于所述衬底的方向上，所述像素坝的厚度大于等于3μm且小于等于20μm；至少部分所述填充材料包括量子点材料。4.根据权利要求1-3中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板包括红子像素、绿子像素和蓝子像素，所述显示基板还包括设置在所述第二无机封装层上的且设置在所述红子像素和绿子像素上的光取出层，包括：间隔设置在所述第二无机封装层上的透镜层，所述透镜层在所述衬底上的正投影覆盖相邻红子像素和绿子像素的间隔在所述衬底上的正投影；以及至少部分覆盖所述透镜层的第一介质层，所述第一介质层的折射率大于所述透镜层的折射率，所述第一介质层在所述衬底上的正投影覆盖所述红子像素在所述衬底上的正投影，所述第一介质层在所述衬底上的正投影覆盖所述绿子像素在所述衬底上的正投影。5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，在垂直于所述衬底的方向上，所述透镜层的厚度大于等于1.5μm且小于等于3μm，所述透镜层的折射率大于等于1.3且小于等于1.5；所述第一介质层的厚度大于等于3μm且小于等于6μm，所述第一介质层的折射率大于等于1.7且小于等于1.9。6.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述第一介质层在所述衬底上的正投影与所述衬底重合；或者所述第一介质层在所述衬底上的正投影与所述透镜层在所述衬底上的正投影部分重叠，并且所述第一介质层的开口大于所述透镜层的开口。7.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，还包括设置在所述第二无机封装层上的阻层，所述阻层设置在所述光取出层靠近所述衬底的一侧，或者设置在所述光取出层远离所述衬底的一侧；所述阻层包括黑矩阵、以及设置在所述黑矩阵限定的部分开口中的阻材料，所述阻材料包括对应于所述红子像素的红阻材料和对应于所述绿子像素的绿阻材料，所述对应于所述蓝子像素的黑矩阵开口大于、对应于所述红子像素和绿子像素的黑矩阵开口。8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述红子像素和绿子像素对应的黑矩阵开口小于等于所述透镜层的开口；
和/或所述颜转换层包括像素坝、以及设置在所述像素坝限定的至少部分开口中的填充材料，所述红子像素和绿子像素对应的黑矩阵开口小于等于所述透镜层的开口，所述透镜层的开口大于等于所述像素坝的开口，与所述蓝子像素对应的所述像素坝的开口中填充有蓝阻。9.根据权利要求1-3中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括设置在所述第二无机封装层上的阻层，所述阻层包括黑矩阵、设置在所述黑矩阵限定的开口中的阻材料、以及覆盖所述阻材料和黑矩阵的第二介质层，其中，所述阻材料包括对应于所述红子像素的红阻材料、对应于所述绿子像素的绿阻材料、以及对应于所述蓝子像素的蓝阻材料，并且所述红阻材料和绿阻材料包括多个凹状结构，所述蓝阻材料包括多个凸状结构，所述红子像素和绿子像素对应的黑矩阵开口小于所述蓝子像素对应的黑矩阵开口；所述第二介质层的折射率大于所述阻材料的折射率，所述阻材料和第二介质层复用为光取出层。10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一项所述的显示基板。11.一种制作如权利要求1-9中任一项所述的显示基板的制作方法，其特征在于，包括：形成在衬底上的有机发光层，包括阵列排布的多个发光单元；形成在所述有机发光层上的第一无机封装层；形成在所述第一无机封装层上的颜转换层，响应于所述发光单元出射光的驱动形成各颜光以合成白光；形成在所述颜转换层上的第二无机封装层，所述第一无机封装层、颜转换层和第二无机封装层形成所述有机发光层的封装层。

技术总结

本发明公开了一种显示基板、显示装置和制作方法，其中一实施例的显示基板包括衬底、层叠形成在所述衬底上的有机发光层、第一无机封装层、颜转换层和第二无机封装层，其中，所述有机发光层，包括阵列排布的多个发光单元；所述颜转换层，响应于所述发光单元出射光的驱动形成各颜光以合成白光；所述第一无机封装层、颜转换层和第二无机封装层形成所述有机发光层的封装层。本发明实施例提供的显示基板通过将颜转换层设置在封装层中、并且作为封装层的一部分，能够改善相关技术中显示基板存在的混问题，能够改善显示效果，提高用户体验，具有广泛的应用前景。具有广泛的应用前景。具有广泛的应用前景。