一种高透低雾光学基膜及其制备方法与流程

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1.本发明涉及聚酯薄膜技术领域，尤其涉及一种高透低雾光学基膜及其制备方法。

背景技术：

2.双向拉伸聚酯薄膜(bopet)是一种综合性能优良的高分子薄膜材料，它以聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)为主要原料，经结晶干燥、挤出熔融、铸片和双轴拉伸定向而得。bopet薄膜具有机械强度高、耐温性好、电绝缘性能优良、耐化学腐蚀、透气性小、透明、无毒、耐折等一系列优点，因此，bopet薄膜已广泛用作电影片基感光材料、磁带带基、电容器介质和绝缘材料、复合包装材料、真空镀铝膜、金拉线及热烫金膜等，并且，随着双向拉伸聚脂薄膜的进一步发展，其应用逐步向高附加值产品如lcd等液晶显示用的光学薄膜、多点触控触摸屏用导电薄膜、汽车和建筑节能玻璃贴膜以及多层陶瓷电容器用离型膜等领域转移；这些领域往往需要较好的光学性能，要求bopet薄膜具有较高的透明度以及较低的雾度，如需要聚酯薄膜的透光率在90.5％以上，雾度小于1％来满足使用需求，但是，常规聚酯薄膜的透光率在87～89.5％，雾度在2～4％，现有聚酯薄膜的光学性能难以满足日益提高的使用需求。

技术实现要素：

3.本发明要解决的技术问题是：为了解决现有技术中聚酯薄膜的光学性能难以满足日益提高的使用需求的问题，本发明提供一种高透低雾光学基膜，该光学基膜采用特种聚酯作为聚酯薄膜基料，可以降低聚酯薄膜加工过程中的结晶度，从而提高聚酯薄膜的光学性能，解决了现有技术中聚酯薄膜的光学性能难以满足日益提高的使用需求的问题。
4.本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：
5.一种高透低雾光学基膜，包括依次层叠设置的a层、b层和c层；其中，所述b层的材质为特种聚酯；按照重量份数计，所述a层包括50-95份的特种聚酯和5-50份的开口母料；所述c层包括90-100份的特种聚酯和0-10份的开口母料；所述特种聚酯的特性粘度为0.70-0.80dl/g，熔点为255-265℃，端羧基含量为3-12％mol/t，二甘醇的质量含量小于0.8％。
6.可选地，所述特种聚酯按照如下方法制备：
7.s01：将对苯二甲酸、乙二醇、醋酸钴的乙二醇溶液混合，注入酯化反应釜中，在惰性气体保护下升温至200-235℃，在1.2-1.8kg/cm3压力下搅拌，得到酯化后的齐聚物；
8.s02：将所述酯化后的齐聚物注入缩聚釜，加入抗氧剂和复配催化剂，提高温度至230-260℃，降低缩聚釜压力至500-1000pa，反应时间0.5-1小时；
9.s03：逐步降低缩聚釜压力至50-150pa，提高缩聚釜温度至280-320℃，反应时间0.5-2小时，反应结束后，通过熔融挤出造粒得到特种聚酯。
10.可选地，所述醋酸钴的乙二醇溶液质量浓度为0.15-0.25％。
11.可选地，所述抗氧剂为磷酸三苯酯。
12.可选地，所述复配催化剂为乙二醇锑、三氧化二锑和钛酸丁酯按质量比1:1:1.8的
混合物。
13.可选地，按照重量份数计，所述对苯二甲酸的加入量为1000份，所述乙二醇的加入量为1050-1220份，所述醋酸钴的乙二醇溶液的加入量为100份，所述抗氧剂的加入量为0.11-0.15份，所述复配催化剂的加入量为0.3-0.5份。
14.可选地，所述开口母料的粒径为0.5-4μm。
15.可选地，所述a层与所述c层的厚度均为所述开口母料粒径的0.5-2倍。
16.本发明的另一目的在于提供一种如上所述的高透低雾光学基膜的制备方法，包括如下步骤：
17.s1：按照配方量，将b层物料送至芯层挤出机腔体中熔融挤出；将a层物料送至背冷面面层挤出机腔体中熔融挤出；将c层物料送至铸片面面层挤出机腔体中熔融挤出，得到abc三层共挤结构复合膜；
18.s2：将所述abc三层共挤结构复合膜经冷却铸片；
19.s3：将所述铸片在65-90℃预热后进行双向拉伸，纵向拉伸2.6-3.6倍，横向拉伸3-4倍，得到单向片；
20.s4：将所述单向片经225-250℃热定型、冷却后，得到高透低雾光学基膜。
21.本发明的有益效果是：
22.本发明提供的高透低雾光学基膜，通过采用特性粘度为0.70-0.80dl/g，熔点为255-265℃，端羧基含量为3-12mol/t，二甘醇质量含量小于0.8％的特种聚酯作为聚酯薄膜的基料，降低聚酯薄膜加工过程中的结晶度，从而能够提高聚酯薄膜的光学性能，使得该光学基膜具有高透低雾的特性，能够满足聚酯薄膜日益提高的光学性能需求。
具体实施方式
23.现在对本发明作进一步详细的说明。下面描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制，基于本发明的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
24.为解决现有技术中聚酯薄膜的光学性能难以满足日益提高的使用需求的问题，本发明提供一种高透低雾光学基膜，该高透低雾光学基膜包括依次层叠设置的a层、b层和c层；其中，b层为光学基膜的芯层，b层的材质为特种聚酯；按照重量份数计，a层包括50-95份的特种聚酯和5-50份的开口母料；c层包括90-100份的特种聚酯和0-10份的开口母料；该特种聚酯的特性粘度为0.70-0.80dl/g，并进一步优选为0.71-0.78dl/g；熔点为255-265℃，进一步优选熔点为258-263℃；端羧基含量为3-12mol/t，进一步优选端羧基含量为5-8mol/t；二甘醇的质量含量小于0.8％，进一步优选二甘醇的质量含量为0.4％-0.7％。
25.现有的聚酯，由于制备过程中副反应的存在，不可避免的生成大量的小分子副产物二甘醇；二甘醇的存在，破坏聚酯大分子链的规整性，使聚酯强度降低，也会使熔点、粘度有所降低；本发明提供的特种聚酯，通过减小二甘醇的含量，有助于提高特种聚酯的光学性能。
26.其中a层与c层中的开口母料可以相同，也可以不同，具体可根据产品需求而定。
27.本发明提供的高透低雾光学基膜，通过采用特性粘度为0.70-0.80dl/g，熔点为255-265℃，端羧基含量为3-12mol/t，二甘醇的质量含量小于0.8％的特种聚酯作为聚酯薄
膜的基料，降低聚酯薄膜加工过程中的结晶度，从而能够提高薄膜的透光率，降低薄膜雾度，提高聚酯薄膜的光学性能，使得该光学基膜具有高透低雾的特性，能够满足聚酯薄膜日益提高的光学性能需求。
28.具体的，本发明优选特种聚酯按照如下方法制备：
29.s01：将对苯二甲酸、乙二醇、醋酸钴的乙二醇溶液混合，注入酯化反应釜中，在惰性气体保护下升温至200-235℃，在1.2-1.8kg/cm3压力下搅拌，得到酯化后的齐聚物；
30.s02：将酯化后的齐聚物注入缩聚釜，加入抗氧剂和复配催化剂，提高温度至230-260℃，降低缩聚釜压力至500-1000pa，反应时间0.5-1小时；
31.s03：逐步降低缩聚釜压力至50-150pa，提高缩聚釜温度至280-320℃，反应时间0.5-2小时，反应结束后，通过熔融挤出造粒得到特种聚酯。
32.本发明提供的特种聚酯通过酯化反应、缩聚反应制得，并在缩聚过程中通过逐步降低的方式来降低缩聚压力，使得制备的特种聚酯分子量更集中，低聚物含量更少，有助于提高聚酯薄膜的光学性能；同时，匀速平稳降低缩聚釜压力，可以避免物料被带出，同时避免反应副产物凝结导致真空系统堵塞，有助于保证反应的顺利进行。
33.制备过程中，通过以乙二醇混合溶液的方式引入醋酸钴，即将醋酸钴粉末加入乙二醇中搅拌制成混合液，在注入反应釜前醋酸钴已经分散均匀，通过使醋酸钴提前分散均匀，从而可以更高效的进行酯化反应。
34.本发明优选醋酸钴的乙二醇溶液质量浓度为0.15-0.25％；抗氧剂为磷酸三苯酯；复配催化剂为乙二醇锑、三氧化二锑和钛酸丁酯按质量比1:1:1.8的混合物。
35.本发明中复配催化剂为锑系和钛系复配，可以有效提高聚酯切片的结晶度。
36.本发明优选按照重量份数计，对苯二甲酸的加入量为1000份，乙二醇的加入量为1050-1220份，醋酸钴的乙二醇溶液的加入量为100份，抗氧剂的加入量为0.11-0.15份，复配催化剂的加入量为0.3-0.5份。
37.本发明提供的特种聚酯的制备过程，通过控制乙二醇和对苯二甲酸的比例、酯化温度、压力和停留时间等来减小二甘醇的含量，以提高特种聚酯的光学性能；具体的，通过对特种聚酯制备工艺和各原料组分的控制，使得制备的特种聚酯的特性粘度为0.70-0.80dl/g，熔点为255-265℃，端羧基含量为3-12mol/t，二甘醇含量小于0.8％，用于光学基膜时，能够降低加工过程中的结晶度，从而提高光学基膜的光学性能。
38.为保证光学基膜的光学性能，本发明优选开口母料的粒径为0.5-4μm；该开口母料可以是市场上的大宗原材料，无机填料含量2500-8000ppm；优选a层与c层的厚度均为开口母料粒径的0.5-2倍。
39.本发明通过分别控制两个表层的厚度以及两个表层中开口母料的含量，在保证光学基膜开口性能的同时，更大程度的提高光学基膜的光学性能；本发明提供的高透低雾光学基膜，可以不限制开口母料的粒径，即使使用大粒径的开口母料，也可以得到高透低雾的光学基膜，从而可以有效避免母料在合成过程中分散不均、聚集等问题，同时解决开口性能不良的问题。
40.本发明的另一目的在于提供一种如上所述的高透低雾光学基膜的制备方法，该制备方法包括如下步骤：
41.s1：按照配方量，将b层物料送至芯层挤出机腔体中熔融挤出；将a层物料送至背冷
面面层挤出机腔体中熔融挤出；将c层物料送至铸片面面层挤出机腔体中熔融挤出，得到abc三层共挤结构复合膜；
42.s2：将abc三层共挤结构复合膜经冷却铸片；
43.s3：将铸片在65-90℃预热后进行双向拉伸，纵向拉伸2.6-3.6倍，横向拉伸3-4倍，得到单向片；
44.s4：将单向片经225-250℃热定型、冷却后，得到高透低雾光学基膜。
45.本发明提供的高透低雾光学基膜的制备方法，制备工艺简单，容易操作，成本低，加工性好，适用性强；通过采用特性粘度为0.70-0.80dl/g，熔点为255-265℃，端羧基含量为3-12mol/t，二甘醇的质量含量小于0.8％的特种聚酯作为聚酯薄膜的基料，降低聚酯薄膜加工过程中的结晶度，从而能够提高薄膜的透光率，降低薄膜雾度，提高聚酯薄膜的光学性能，使得该光学基膜具有高透低雾的特性，能够满足聚酯薄膜日益提高的光学性能需求。
46.目前提高聚酯包膜光学性能的主要方法有两种：一种方法是选用特种小粒径母料作为开口剂，这种方法可以一定程度提高产品光学性能，但仍存在一些问题：(1)所选用特种母料，由于粒径较小，母料在合成过程中分散不均、聚集等问题很难避免，且原材料成本较高；(2)母料粒径较小，添加量随之增加，这种方法制得的薄膜雾度在1～2％，很难达到1％以下；另一种方法是通过在线涂布方式，在薄膜一面或两面涂覆一层含开口剂的树脂；但是在线涂布的方法存在以下几个问题：(1)涂布预涂层与基膜之间存在涂布不均或是附着力不良问题，后续加工过程中可能出现预涂层脱落；(2)预涂过程所使用的树脂大多成本较高，而且对环境有一定危害；(3)涂层中的树脂受温湿度影响较大，容易在包装运输过程中出现粘连等问题；(4)在线涂布技术壁垒高，加工难度大，产品得率较低。
47.而本发明提供的高透低雾光学基膜，不限制开口母料的粒径，通过使用大粒径的开口母料，能够有效避免母料在合成过程中分散不均、聚集等问题，得到高透低雾的光学基膜，同时解决开口性不良的问题；并且，制备工艺简单，容易操作，成本低，加工性能好，且不会出现预涂层脱落等问题。
48.为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面对本发明的具体实施例做详细的说明。
49.第一组实施例：特种聚酯的制备
50.实施例1-1
51.本实施例提供一种特种聚酯，该特种聚酯按照如下方法制备：
52.s01：按照重量份数计，将1000份对苯二甲酸、1050份的乙二醇、100份的醋酸钴的乙二醇溶液混合，其中醋酸钴的乙二醇溶液的质量浓度为0.20％；将混合液注入酯化反应釜中，在氮气保护下升温至220℃，在1.5kg/cm3压力下搅拌4小时，得到酯化后的齐聚物；
53.s02：将酯化后的齐聚物注入缩聚釜，加入0.13份的抗氧剂磷酸三苯酯和0.4份的复配催化剂，其中复配催化剂为乙二醇锑、三氧化二锑和钛酸丁酯按质量比1:1:1.8的混合物；提高温度至250℃，降低缩聚釜压力至800pa，反应0.5小时；
54.s03：逐步降低缩聚釜压力至100pa，提高缩聚釜温度至300℃，反应时间1小时，反应结束后，通过熔融挤出造粒得到特种聚酯，记为特种聚酯ⅰ。
55.实施例1-2以及实施例1-3与实施例1-1的区别见表1所示。
56.表1
[0057][0058]
对上述特种聚酯进行性能测试，其中特性粘度、端羧基含量、二甘醇含量均按照gb/t 14190-2017进行测试，测试结果详见表2所示：
[0059]
表2
[0060][0061][0062]
第二组实施例：高透低雾光学基膜的制备
[0063]
实施例2-1
[0064]
本实施例提供一种高透低雾光学基膜的制备方法，该制备方法包括如下步骤：
[0065]
s1：按照配方量，将b层物料送至芯层挤出机腔体中熔融挤出；将a层物料送至背冷面面层挤出机腔体中熔融挤出；将c层物料送至铸片面面层挤出机腔体中熔融挤出，芯层挤出机、背冷面面层挤出机和铸片面面层挤出机通过三层共挤模头熔融挤出，即得到abc三层共挤结构复合膜；其中b层物料为特种聚酯ⅰ，按照重量份数计，a层包括70份的特种聚酯ⅰ和10份的开口母料；c层包括95份的特种聚酯ⅰ和5份的开口母料；其中a层中的开口母料为仪征化纤fg616，开口母料的粒径为1.2μm；c层中的开口母料为佛山佛塑科技171-2-1，开口母料的粒径为1.0μm；a层厚度是0.6μm(a层中开口母料粒径的0.5倍)，c层厚度是0.6μm(c层中开口母料粒径的0.6倍)；b层厚度为34.8μm；
[0066]
s2：将abc三层共挤结构复合膜经冷却铸片；
[0067]
s3：将铸片在80℃预热后进行双向拉伸，纵向拉伸3.2倍，横向拉伸3.5倍，得到单向片；
[0068]
s4：将单向片经240℃热定型、冷却后，得到高透低雾光学基膜。
[0069]
实施例2-2
[0070]
本实施例提供一种高透低雾光学基膜的制备方法，该制备方法包括如下步骤：
[0071]
s1：按照配方量，将b层物料送至芯层挤出机腔体中熔融挤出；将a层物料送至背冷面面层挤出机腔体中熔融挤出；将c层物料送至铸片面面层挤出机腔体中熔融挤出，芯层挤出机、背冷面面层挤出机和铸片面面层挤出机通过三层共挤模头熔融挤出，即得到abc三层共挤结构复合膜；其中b层物料为特种聚酯ⅰ，按照重量份数计，a层包括50份的特种聚酯ⅰ和5份的开口母料；c层包括90份的特种聚酯ⅰ和0份的开口母料；a层中开口母料为仪征化纤fg611，开口母料的粒径为2.5μm；a层厚度是2.5μm(开口母料粒径的1倍)，c层厚度是2.5μm；b层厚度为70μm；
[0072]
s2：将abc三层共挤结构复合膜经冷却铸片；
[0073]
s3：将铸片在65℃预热后进行双向拉伸，纵向拉伸2.6倍，横向拉伸3倍，得到单向片；
[0074]
s4：将单向片经225℃热定型、冷却后，得到高透低雾光学基膜。
[0075]
实施例2-3
[0076]
本实施例提供一种高透低雾光学基膜的制备方法，该制备方法包括如下步骤：
[0077]
s1：按照配方量，将b层物料送至芯层挤出机腔体中熔融挤出；将a层物料送至背冷面面层挤出机腔体中熔融挤出；将c层物料送至铸片面面层挤出机腔体中熔融挤出，芯层挤出机、背冷面面层挤出机和铸片面面层挤出机通过三层共挤模头熔融挤出，即得到abc三层共挤结构复合膜；其中b层物料为特种聚酯ⅰ，按照重量份数计，a层包括95份的特种聚酯ⅰ和15份的开口母料；c层包括99份的特种聚酯ⅰ和10份的开口母料；a层中开口母料为仪征化纤fg610，开口母料的粒径为3.5μm；c层中开口母料为仪征化纤fg611，开口母料的粒径为2.5μm；a层厚度是4μm，c层厚度是2.0μm；b层厚度为45.5μm；
[0078]
s2：将abc三层共挤结构复合膜经冷却铸片；
[0079]
s3：将铸片在90℃预热后进行双向拉伸，纵向拉伸3.6倍，横向拉伸4倍，得到单向片；
[0080]
s4：将单向片经250℃热定型、冷却后，得到高透低雾光学基膜。
[0081]
实施例2-4
[0082]
本实施例与实施例2-1的区别为，b层物料为特种聚酯ⅱ，按照重量份数计，a层包括50份的特种聚酯ⅱ和5份的开口母料；c层包括90份的特种聚酯ⅱ和1份的开口母料。
[0083]
实施例2-5
[0084]
本实施例与实施例2-1的区别为，b层物料为特种聚酯ⅲ，按照重量份数计，a层包括50份的特种聚酯ⅲ和5份的开口母料；c层包括90份的特种聚酯ⅲ和1份的开口母料。
[0085]
对比例1
[0086]
本对比例与实施例2-1的区别为，b层物料为市售聚对苯二甲酸乙二醇酯(仪征化纤fg600)，按照重量份数计，a层包括50份的市售聚对苯二甲酸乙二醇酯和5份的开口母料；c层包括90份的市售聚对苯二甲酸乙二醇酯和1份的开口母料；该市售聚对苯二甲酸乙二醇
酯的特性粘度为0.682dl/g，熔点为255.0℃，端羧基含量为22.4mol/t，二甘醇的质量含量为1.14％。
[0087]
对比例2
[0088]
本对比例与实施例2-1的区别为，b层物料为自制聚酯ⅰ，按照重量份数计，a层包括50份的自制聚酯ⅰ和5份的开口母料；c层包括90份的自制聚酯ⅰ和1份的开口母料。
[0089]
本对比例中的自制聚酯ⅰ按照如下方法制备：
[0090]
s01：按照重量份数计，将1000份对苯二甲酸、1050份的乙二醇、100份的醋酸钴的乙二醇溶液混合，其中醋酸钴的乙二醇溶液的质量浓度为0.20％；将混合液注入酯化反应釜中，在氮气保护下升温至220℃，在1.5kg/cm3压力下搅拌4小时，得到酯化后的齐聚物；
[0091]
s02：将酯化后的齐聚物注入缩聚釜，加入0.13份的抗氧剂磷酸三苯酯和0.4份的复配催化剂，其中复配催化剂为乙二醇锑、三氧化二锑和钛酸丁酯按质量比1:1:1.8的混合物；降低缩聚釜压力至100pa，提高缩聚釜温度至300℃，反应时间1小时，反应结束后，通过熔融挤出造粒得到自制聚酯，记为自制聚酯ⅰ。
[0092]
该自制聚酯ⅰ的特性粘度为0.64dl/g，熔点为256℃，端羧基含量为19mol/t，二甘醇含量为1.1％。
[0093]
对比例3
[0094]
本对比例与实施例2-1的区别为，b层物料为自制聚酯ⅱ，按照重量份数计，a层包括50份的自制聚酯ⅱ和5份的开口母料；c层包括90份的自制聚酯ⅱ和1份的开口母料。
[0095]
本对比例中的自制聚酯ⅱ按照如下方法制备：
[0096]
s01：按照重量份数计，将1000份对苯二甲酸、1050份的乙二醇、0.2份的醋酸钴混合；将混合液注入酯化反应釜中，在氮气保护下升温至220℃，在1.5kg/cm3压力下搅拌4小时，得到酯化后的齐聚物；
[0097]
s02：将酯化后的齐聚物注入缩聚釜，加入0.13份的抗氧剂磷酸三苯酯和0.4份的复配催化剂，其中复配催化剂为乙二醇锑、三氧化二锑和钛酸丁酯按质量比1:1:1.8的混合物；提高温度至250℃，降低缩聚釜压力至800pa，反应0.5小时；
[0098]
s03：逐步降低缩聚釜压力至100pa，提高缩聚釜温度至300℃，反应时间1小时，反应结束后，通过熔融挤出造粒得到自制聚酯，记为自制聚酯ⅱ。
[0099]
该自制聚酯ⅱ的特性粘度为0.63dl/g，熔点为255℃，端羧基含量为20mol/t，二甘醇含量为1.2％。
[0100]
对比例4
[0101]
本对比例与实施例2-1的区别为，a层厚度是3μm，c层厚度是4μm，b层厚度为29μm。
[0102]
对实施例2-1～实施例2-5以及对比例1-对比例4制备的光学基膜进行性能测试，相关性能的测试方法如下：
[0103]
一、透光率、雾度测试方法
[0104]
使用nippon denshoku ndh5000，按astm d1003规定方法进行测试。
[0105]
二、开口性能评估方法
[0106]
同时满足以下条件时，开口性能ok；否则开口性能ng：
[0107]
1、生产过程中铸片剥离辊无异响；
[0108]
2、纵拉区域无异响，纵拉扭矩正常；
[0109]
3、分切过程中无凸点，无剥离粘连声音；
[0110]
4、分切后膜卷放置1个月后复卷，无粘连现象。
[0111]
测试数据见表3所示。
[0112]
表3
[0113][0114]
从上表数据看出，本发明各实施例提供的光学基膜的透光率均在90.5％以上，雾度均小于1％，具有高透低雾的特点，在保证开口性能的基础上，提高了光学性能，能够满足日益提高的使用需求。
[0115]
对比例1与实施例2-1的区别为，将特种聚酯ⅰ替换为市售的聚对苯二甲酸乙二醇酯，制备的光学基膜光学性能以及开口性能均变差；
[0116]
对比例2与实施例2-1的区别为，自制聚酯ⅰ制备过程中未逐步降低缩聚釜压力，导致制备的聚酯分子量较为分散，低聚物含量较多，特性粘度低，端羧基含量以及二甘醇含量均较高，从而导致光学基膜的光学性能较差；
[0117]
对比例3与实施例2-1的区别为，自制聚酯ⅱ制备过程中醋酸钴未以混合溶液的方式引入，醋酸钴分散不均匀，酯化反应效率低，导致制备的聚酯特性粘度低，端羧基含量以及二甘醇含量均较高，从而导致光学基膜的光学性能较差；
[0118]
对比例4与实施例2-1的区别为，仅调整了a层以及c层的厚度，导致制备的光学基膜光学性能以及开口性能均变差，从而证明本发明提供的光学基膜，通过采用特种聚酯，再结合对两个表层的厚度以及两个表层中开口母料含量的控制，在保证光学基膜开口性能的同时，更大程度的提高了光学基膜的光学性能。
[0119]
以上述依据本发明的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项发明技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项发明的技术
性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。

技术特征：

1.一种高透低雾光学基膜，其特征在于，包括依次层叠设置的a层、b层和c层；其中，所述b层的材质为特种聚酯；按照重量份数计，所述a层包括50-95份的特种聚酯和5-50份的开口母料；所述c层包括90-100份的特种聚酯和0-10份的开口母料；所述特种聚酯的特性粘度为0.70-0.80dl/g，熔点为255-265℃，端羧基含量为3-12mol/t，二甘醇的质量含量小于0.8％。2.如权利要求1所述的高透低雾光学基膜，其特征在于，所述特种聚酯按照如下方法制备：s01：将对苯二甲酸、乙二醇、醋酸钴的乙二醇溶液混合，注入酯化反应釜中，在惰性气体保护下升温至200-235℃，在1.2-1.8kg/cm3压力下搅拌，得到酯化后的齐聚物；s02：将所述酯化后的齐聚物注入缩聚釜，加入抗氧剂和复配催化剂，提高温度至230-260℃，降低缩聚釜压力至500-1000pa，反应时间0.5-1小时；s03：逐步降低缩聚釜压力至50-150pa，提高缩聚釜温度至280-320℃，反应时间0.5-2小时，反应结束后，通过熔融挤出造粒得到特种聚酯。3.如权利要求2所述的高透低雾光学基膜，其特征在于，所述醋酸钴的乙二醇溶液质量浓度为0.15-0.25％。4.如权利要求3所述的高透低雾光学基膜，其特征在于，所述抗氧剂为磷酸三苯酯。5.如权利要求4所述的高透低雾光学基膜，其特征在于，所述复配催化剂为乙二醇锑、三氧化二锑和钛酸丁酯按质量比1:1:1.8的混合物。6.如权利要求5所述的高透低雾光学基膜，其特征在于，按照重量份数计，所述对苯二甲酸的加入量为1000份，所述乙二醇的加入量为1050-1220份，所述醋酸钴的乙二醇溶液的加入量为100份，所述抗氧剂的加入量为0.11-0.15份，所述复配催化剂的加入量为0.3-0.5份。7.如权利要求1-6任一项所述的高透低雾光学基膜，其特征在于，所述开口母料的粒径为0.5-4μm。8.如权利要求7所述的高透低雾光学基膜，其特征在于，所述a层与所述c层的厚度均为所述开口母料粒径的0.5-2倍。9.一种如权利要求1-8任一项所述的高透低雾光学基膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：s1：按照配方量，将b层物料送至芯层挤出机腔体中熔融挤出；将a层物料送至背冷面面层挤出机腔体中熔融挤出；将c层物料送至铸片面面层挤出机腔体中熔融挤出，得到abc三层共挤结构复合膜；s2：将所述abc三层共挤结构复合膜经冷却铸片；s3：将所述铸片在65-90℃预热后进行双向拉伸，纵向拉伸2.6-3.6倍，横向拉伸3-4倍，得到单向片；s4：将所述单向片经225-250℃热定型、冷却后，得到高透低雾光学基膜。

技术总结

本发明提供一种高透低雾光学基膜及其制备方法，涉及聚酯薄膜技术领域，所述高透低雾光学基膜包括依次层叠设置的A层、B层和C层；其中，B层的材质为特种聚酯；按照重量份数计，所述A层包括50-95份的特种聚酯和5-50份的开口母料；所述C层包括90-99份的特种聚酯和0-10份的开口母料；所述特种聚酯的特性粘度为0.70-0.80dL/g，熔点为255-265℃，端羧基含量为3-12mol/t。本发明提供的高透低雾光学基膜，通过采用特种聚酯作为聚酯薄膜的基料，降低聚酯薄膜加工过程中的结晶度，从而能够提高聚酯薄膜的光学性能，使得该光学基膜具有高透低雾的特性，能够满足聚酯薄膜日益提高的光学性能需求。求。