一种高开孔率液晶显示元件的有机绝缘膜用正型光刻胶组合物的制作方法

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1.本发明是关于高开孔率液晶显示元件的有机绝缘膜用正型光刻胶组合物，具体涉及的是在高透射、高开孔率液晶显示元件的有机绝缘膜形成时，可以用碱显影液显影形成，缩短工艺、与金属的粘合力、uv透射率、残膜率及图案稳定性优异的正型光刻胶组合物。

背景技术：

2.通常，液晶显示装置(liquidcrystaldisplay:以下简称lcd)用于诸如电视和图形显示器的显示装置。特别是，每个像素都具备薄膜晶体管(thinfilmtransistor:以下简称tft)等开关元件，有源矩阵型lcd具有高速响应特性，而且适合高像素数，因此对实现与crt(cathoderaytube)相匹敌的显示画面的高画质化、大型化、彩化等做出了巨大贡献。
3.为了在tft-lcd中获得高画质显示画面，首先要提高开孔率。在此，开孔率是指像素电极面积的实际光透射比率。
4.在tft-lcd中，随着对其大小及分辨率的要求增大，容量增加，相反电池的效率却跟不上，因此，作为解决电池效率下降的方法，出现了提高液晶透射度的方法。提高液晶透射度的方法有大幅提高液晶面板的开孔率的方法、开发高透明偏光板和使用高透明彩滤光片的方法。在该方法中，作为提高液晶面板的开孔率的方法，使用在tft上布置由透明金属制成的ito(indiumtinoxide)电极作为像素电极的整个像素区域的结构ito像素，并增加像素电极(pixelelectrode)面积的技术。该方式是将现有tft-lcd的开孔率从50～60％提高到约80～85％的划时代技术，因此可以大幅减少电池效率的下降。
5.以下，为了帮助理解高开孔率tft-lcd，将参照附图进行详细说明。图1是以往具有高开孔率的tft-lcd的单位单元的平面图。如图1中所示，栅极线2横向布置，并且存储电极线4布置在预定间隔彼此间隔开的位置，并且数据线8布置成垂直穿过栅极线2和存储电极线4。
6.另外，在与栅极线2和数据线8的交叉点相邻的栅极线2上，以图案的形式形成半导体层6，从数据线8引出的漏极电极9a和上述数据线8形成时一起形成的源极电极9b被布置在半导体层6上彼此相对，并且彼此重叠。
7.另外，在由栅极线2和数据线8限定的像素区域中，布置有由ito制成的像素电极12，此时像素电极12布置在整个像素区域中，不仅与源极电极9b接触，而且与数据线8和栅极线2的一部分重叠。
8.图2是沿着图1的
ⅱ‑ⅱ′
线切割的剖面图。如图2所示，在下基板20上形成栅极2a和与此隔开一定间隔的位置上形成存储电极线4a，并且在下基板20的前面形成栅极绝缘膜5。另外，在位于栅极2a上部的栅极绝缘膜5上，通过公知的工艺以图案的形式形成半导体层6，在该半导体层6上，在数据线8 形成时一起形成的漏极电极9a和源极电极9b隔开形成。
9.在形成上述结构的下基板20的前表面上涂覆具有低介电常数的有机绝缘膜10，并
且在该有机绝缘膜10中设置有用于暴露源电极的接触孔，并且在该有机绝缘膜10上，在与像素区域相对应的部分通过接触孔与源极电极9b接触的同时，与栅极2a和数据线8的一部分重叠地形成像素电极12。
10.在这里，有机绝缘膜10，像素电极12和数据线8之间起到绝缘作用，同时具有与下层之间平坦化的功能。这种绝缘薄膜层以前使用苯并环丁烯(bcb， benzo cyclo butyne)来提高开孔率，但苯并环丁烯价格高且制造接触孔的方法存在必须使用光刻胶的反应离子刻蚀(rie，reactiveion etching)工艺的问题。

技术实现要素：

11.根据以上现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种高开孔率液晶显示元件的有机绝缘膜用正型光刻胶组合物，在形成具有高透射特性的高开孔率液晶显示元件的有机绝缘膜时，提供与金属的粘合力、uv透射率、残膜率、平坦性及图案稳定性优异的正型光刻胶组合物，并且，本发明的组合物原料成本较低，且无需经过光刻胶的反应离子刻蚀。。
12.为实现以上目的，所采用的技术方案是：
13.一种高开孔率液晶显示元件的有机绝缘膜用正型光刻胶组合物，按照重量份计，包括以下组分：粘合剂树脂7～35份，感光剂4～10份，包含环氧基或胺基的硅系化合物0.01～3份，所述粘合剂树脂为粘合剂树脂a、粘合剂树脂b中的任一种或者二者的混合物；
14.其中，所述粘合剂树脂a的通式结构为通式1：
[0015][0016]
在上述通式1中，x是氢原子或甲基，y1是碳原子数为2～16的烷基或羟基烷基，y2为化学式(ⅰ)至(ⅶ)结构的化合物中的任一种；
[0017]
[0018][0019]
式(ⅰ)至(ⅶ)中，r1是氢或甲基，r2是碳原子数为1至10的烯烃，r3是碳原子数为1至10的碳氢化合物，r4是氢或甲基；
[0020]
由上述通式1表示的粘合剂树脂a是具有包含羧酸的单体和包含双键的单体双重结合的共聚物，如果将包含这种共聚物的本发明的组合物涂布后形成图案，则显影后不会出现残渣等缺陷，平坦化率非常优秀。上述通式1的y1是具有2个至16个碳原子的烷基或羟烷基，有助于提高粘合力，y2与常规丙烯酸共聚粘合剂树脂树脂不同，其包括芳香基，包括大体积的脂环族结构，不仅提高了残留膜率，而且玻璃态转变温度高，耐热性也优异。
[0021]
进一步，所述通式1的粘合剂树脂a的平均分子量为2000～50000，分散度为1. 0～5.0，酸值为10～130koh mg/g。优选的，平均分子量为5000～30000，分散度为1.6～2.7，酸值为50～110koh mg/g。
[0022]
所述粘合剂树脂b的通式结构为通式2：
[0023][0024]
在通式2中，其中重复单元a和b各自独立地选自于甲基丙烯酸苄基酯 (bzma)、苯乙烯(styrene；sty)、α-甲基苯乙烯、丙烯酸异冰片酯和甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸双环戊基酯、甲基丙烯酸双环戊基酯、丙烯酸双环烯基酯、甲基丙烯酸双环烯基酯、双环戊烯基甲基丙烯酸酯(dcpma)、双环戊基乙氧基丙烯酸酯、双环戊基乙氢基(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸羟乙酯(hema)、双环戊烯基乙氧基丙烯酸酯、甲基丙烯酸月桂酯(lma)、以及双环戊烯基乙氧基(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯(gma)、甲基丙烯酸羟乙酯、 n，n-二甲基-(甲基)丙烯酰胺、以及丙烯酰胺中的任一种，重复单元c是丙烯酸(aa)或甲基丙烯酸(maa)；其中，具有通式2结构的粘合剂树脂b 为含有与a、b和c的排列次序无关的任意共聚物。
[0025]
进一步，所述通式2的粘合剂树脂b的平均分子量为2000～100000，分散度为1.0～5.0，酸值为15～200koh mg/g，优选的，平均分子量为5000～30000，分散度为1.6～2.7，酸值为30～120koh mg/g。
[0026]
当使用由通式2表示的粘合剂树脂b时，与使用由通式1表示的粘合剂树脂a树脂时，也表现出几乎相同的效果。在上述通式2表示的粘合剂树脂树脂中，可以在不妨碍本发明目的的范围内引入其他类型的聚合单元。
[0027]
如果将上述通式1表示的粘合剂树脂a和通式2表示的粘合剂树脂b混合使用，则组合物中的光敏剂和粘合剂树脂的相容性增加，不仅提高了图案的耐破裂性，而且白化现象(whitening)也会消失。
[0028]
进一步，作为本发明的光刻胶组合物中包含的感光剂，可以使用通常使用的感光剂，但是最好使用从以下通式3至11结构的化合物中选择一个或多个，以提高透明性并最小化投入量。
[0029]
[0030][0031]
在上述通式3至11中，r'是氢原子、2，1-二氮杂酮-4-磺胺酯或2，1-二氮杂酮-5-磺胺酯中的任一种，结构如下：
[0032][0033]
所述r1～r5各自独立地为氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的烷氧基或碳数为4至10的环烷基中的任一种；r6、r8、r
10
及r
12
各自独立地为氢原子或碳数为1至6的烷基中的任一种；r7、r9、r
11
及r
13
各自独立地为氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的烷氧基、碳数为4至10的环烷基或者从下述分子结构通式a至c中选择的官能团中的任一种：
[0034][0035]
在上述分子结构通式a至c中，n是0至3的整数，r'是氢原子、2，1-二氮杂酮
ꢀ‑
4-磺胺酯或2，1-二氮杂酮-5-磺胺酯中的任一种；r
14
是碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的烷氧基或碳数为4至10的环烷基中的任一种。
[0036]
通过根据本发明适当地调节粘合剂树脂树脂和感光剂的组合，可以制造用于有机绝缘膜的光刻胶组合物，该组合物能够保持与金属的优异的粘附性、u v透射率、残膜率、平坦性和图案稳定性。
[0037]
进一步，本发明的正型光刻胶组合物中含有的具有环氧基或胺基的硅系化合物添加剂可以提高ito电极与组合物之间的粘合力，并改善固化后的耐热特性。所述包含环氧基或胺基的硅系化合物为3-(2-氨基乙基氨基)丙基三甲氧基硅烷、(3-缩水甘油醚基丙基)三甲氧基硅烷、(3-缩水甘油醚基丙基)三乙氧基硅烷、(3-缩水甘油醚基丙基)甲基二甲氧基硅烷、(3-缩水甘油醚基丙基)甲基二氧基硅烷、(3-缩水甘油醚基丙基)二甲基甲氧基硅烷、(3-缩水甘油醚基丙基)二甲基乙氧基硅烷、3，4-环氧丁基三甲氧基硅烷、3，4-环氧丁基三乙氧基硅烷、 2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三乙氧基硅烷、以及氨基丙基三甲氧基硅烷中的至少一种。
[0038]
进一步，根据需要，本发明的组合物可以添加诸如光增感剂、热聚合抑制剂、消泡剂、均化剂等添加剂。
[0039]
进一步，本发明的组合物可以施加溶剂，在基板上旋转涂覆后利用掩膜照射紫外线，用碱显影液显影的方法形成有机绝缘膜，添加溶剂，使粘度在2至 20cps范围内。更优选的是，将粘度调整为2至10cps，在涂覆后没有薄膜的针孔(pin hole)，更有利于调节薄膜的
厚度。考虑到粘合剂树脂、光敏剂和其他化合物的相容性，这种溶剂不仅用于添加和混合并溶解粘合剂树脂树脂、光敏剂和其他添加剂，而且用于获得优异的涂覆性和透明薄膜。
[0040]
进一步，所述溶剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二甲基乙基醚、甲氧基丙酸甲酯、乙氧基丙酸乙酯(eep)、乳酸乙酯、丙二醇甲醚乙酸酯(pgmea)、丙二醇甲醚、丙二醇丙醚、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、二乙二醇甲醚醋酸酯、二乙二醇乙醚醋酸酯、丙酮、甲基异丁基酮、环己酮、二甲基甲酰胺(dmf)、n，n-二甲基乙酰胺(dmac)、n-甲基吡咯烷酮 (nmp)、γ-丁内酯、乙醚、乙二醇二甲醚、二甘醇二甲醚、四氢呋喃(thf)、甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二丙二醇甲醚、甲苯、二甲苯、己烷、庚烷以及辛烷中的至少一种。
[0041]
与现有技术相比，本发明的有益效果在于：
[0042]
根据本发明的用于高开孔率液晶显示装置的有机绝缘膜的正型光刻胶组合物在形成绝缘膜时具有优异的耐热性，并且与金属和无机物的粘合性、uv透射率、残膜率、平坦性和图案稳定性非常优异。利用本发明的正型光刻胶组合物，可以改变粘合剂树脂的结构及组成比，调节高开孔率液晶显示元件的有机绝缘膜用光刻胶所需的特性，并且，本发明的组合物原料成本较低，且无需经过光刻胶的反应离子刻蚀。
附图说明
[0043]
图1为现有具有高开孔率的tft lcd的单位单元的平面图；
[0044]
图2为沿着图1的
ⅱ‑ⅱ′
线切割后的剖面图；
[0045]
其中，2、栅极线；2a、栅极；4、存储电极线；4a、存储电极；5、栅极绝缘膜；6、半导体层；8、数据线；9a、漏极电极；9b、源极电极；10、有机绝缘膜；12、像素电极；20、下基板。
具体实施方式
[0046]
以下结合实例对本发明进行描述，所举实例只用于解释本发明，并非用于限定本发明的范围。
[0047]
实施例1
[0048]
在安装有防紫外膜和搅拌器的反应混合槽中，根据下表1中记载的组成及含量，依次添加包含粘合剂树脂、感光剂、环氧基或胺基的硅系化合物和所定的光增感剂、热聚合抑制剂、消泡剂、均化剂，制造有机绝缘膜用正型光刻胶组合物后，在常温下搅拌。接着，对组合物施加溶剂，将正型光刻胶组合物的粘度调整为4.5cps。
[0049]
在以下表1和表2的实施例中，粘合剂树脂a的通式1中，所有的x和 y1是甲基，以粘合剂树脂1
‑ⅱ
为例，此时y2为标记为化学式(ⅱ)，其他的结构以此类推，并且此时r1～r4都是甲基。实施例中，将前述粘合剂树脂b的通式2的重复单位a、b及c的种类在表1和2中标记为通式2(a/b/c)。
[0050]
实施例2～27
[0051]
除了根据表1和2中记载的组成而改变上述实施例1的组合物的成分及含量外，通过相同的方法制造了高开孔率液晶显示元件的有机绝缘膜用正型光刻胶组合物。
[0052]
表1.实施例1～17组合物的组分及含量
[0053][0054][0055]
表2.实施例18～27组合物的组分及含量
[0056][0057][0058]
在上述表1和2中，通式1的粘合剂的平均分子量为9000，分散度为2.1，酸值为90，通式2的粘合剂的平均分子量为7000，分散度为2.1，酸值为90。另外，在通式8感光剂中，r'是2，1-二氮杂酮-4-磺胺酯，r1至r4均为h，在通式9的感光剂中，r'是2，1-二氮杂酮-4-磺胺
酯，r1至r3均为ch3。
[0059]
对比例1～5
[0060]
对比例1～5代替上述实施例1的粘合剂树脂，使用由通式12表示的粘合剂树脂(平均分子量10000)，除了组合物的成分及含量根据下表3中记载的组成而变化外，还用同样的方法制造了高开孔率液晶显示元件的有机绝缘膜用正型光刻胶组合物。
[0061]
表1～3中所述的所有实施例以及对比例中硅系化合物为3-(2-氨基乙基氨基) 丙基三甲氧基硅烷。
[0062][0063]
在上述通式12中，p为0.3，q为0.2，r为0.5。
[0064]
表3.对比例1～5组合物的组分及含量
[0065][0066][0067]
在上述表3中，通式1的粘合剂的平均分子量为9000，分散度为2.5，酸值为90，通式12的粘合剂的平均分子量为70000，分散度为2.5，酸值为90。另外，在通式8感光剂中，r'是2，1-二氮杂酮-4-磺胺酯，r1至r4均为h，在通式9的感光剂中，r'是2，1-二氮杂酮-4-磺胺酯，r1至r3均为ch3。
[0068]
测试
[0069]
在以上实施例和比较例中，正型光刻胶组合物的评估在硅晶片或玻璃板等基板上进行，对正型光刻胶组合物的热特性、透射率(t％，400纳米)、平坦性 (uniformity)、残膜
率、图案形成等进行了性能评估，其结果显示在下表4和5 中。
[0070]
(1)金属与无机物的粘附性(adhesion)
[0071]
将正型光刻胶组合物利用旋转涂布机以350rpm的速度在基板上涂布20 秒后，在90℃下预烘烤2分钟，在365纳米下曝光15秒后，在220℃下进行60分钟的后烘烤(postbake)，形成正型光刻胶膜，并将其放入自动烘烤(autoclave) 中，在100℃下熟化1小时。在自动刮刀中发酵的样品用交叉切割器(cross hatchcutter)划痕(scratch)使基板露出后，用胶带粘贴后拆卸。如果100个单元中的 80个以上没有从基板上脱离，则判断为"良好"，否则判断为"不良"。
[0072]
(2)uv透过率
[0073]
利用旋转涂布机以350rpm的速度在基板上涂布正型光刻胶组合物20秒后，在90℃下预烘烤(prebake)2分钟，将正型光刻胶组合物浸入tmah2.38％溶液中50秒，然后用纯水(di water)冲洗60秒，然后用压缩空气吹出，曝光(blitching，bleaching)，然后在220℃下进行60分钟的后烘烤(postbake)，400nm 波长下，测定约3.0至3.5微米(μm)的正型光刻胶膜的紫外线透光率。
[0074]
(3)残膜率
[0075]
将正型光刻胶组合物旋转涂覆在基板上，进行预烘烤(pre-bake)后的厚度和后烘烤(post bake)，测定去除溶剂后形成的膜的厚度比率(％)。
[0076]
(4)形成图形
[0077]
从孔(hole)图案的垂直方向切割形成光刻胶图案的硅晶片，并从图案的截面方向用电子显微镜观察的结果。图案侧壁(side wall)相对于基板以80度以上的角度竖立，膜没有减少的是"良好"，膜的减少被认定为"膜减"。
[0078]
(5)耐化学性
[0079]
将正型光刻胶组合物利用旋转涂布机涂覆在基板上后，通过预烘烤(prebake) 和后烘烤(postbake)等工艺形成的正型光刻胶膜浸渍在剥离器(stripper)、蚀刻 (etchant)溶液中40℃10分钟后，观察正型光刻胶膜的透射率及厚度是否发生变化。透射率及厚度没有变化时，判定为"良好"，透射率及厚度有变化时，判定为"不良"。
[0080]
表4.实施例1～27组合物的性能测试数据
[0081][0082][0083]
表5.对比例1～5组合物的性能测试数据
[0084][0085]
从上述结果中可以看出，本发明的高透射率液晶显示装置的有机绝缘膜用正型光刻胶组合物与以往的正型光刻胶组合物不同，不仅耐热性优异，而且与金属及无机物的粘合力、uv透射率、残膜率、平坦性及图案稳定性也非常优异，并且，本发明的组合物原料成本较低，且无需经过光刻胶的反应离子刻蚀工艺。
[0086]
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

技术特征：

1.一种高开孔率液晶显示元件的有机绝缘膜用正型光刻胶组合物，其特征在于，按照重量份计，包括以下组分：粘合剂树脂7～35份，感光剂4～10份，包含环氧基或胺基的硅系化合物0.01～3份，所述粘合剂树脂为粘合剂树脂a、粘合剂树脂b中的任一种或者二者的混合物；其中，所述粘合剂树脂a的通式结构为通式1：在上述通式1中，x是氢原子或甲基，y1是碳原子数为2～16的烷基或羟基烷基，y2为化学式(ⅰ)至(ⅶ)结构的化合物中的任一种；
式(ⅰ)至(ⅶ)中，r1是氢或甲基，r2是碳原子数为1至10的烯烃，r3是碳原子数为1至10的碳氢化合物，r4是氢或甲基；所述粘合剂树脂b的通式结构为通式2：在通式2中，其中重复单元a和b各自独立地选自于甲基丙烯酸苄基酯(bzma)、苯乙烯(sty)、α-甲基苯乙烯、丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸双环戊基酯、甲基丙烯酸双环戊基酯、丙烯酸双环烯基酯、甲基丙烯酸双环烯基酯、双环戊烯基甲基丙烯酸酯(dcpma)、双环戊基乙氧基丙烯酸酯、双环戊基乙氢基(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸羟乙酯(hema)、双环戊烯基乙氧基丙烯酸酯、甲基丙烯酸月桂酯(lma)、以及双环戊烯基乙氧基(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯(gma)、甲基丙烯酸羟乙酯、n，n-二甲基-(甲基)丙烯酰胺、以及丙烯酰胺中的任一种，重复单元c为丙烯酸(aa)或甲基丙烯酸(maa)；其中，具有通式2结构的粘合剂树脂b为含有与a、b和c的排列次序无关的任意共聚物。2.根据权利要求1所述组合物，其特征在于，所述通式1的粘合剂树脂a的平均分子量为5000～30000，分散度为1.6～2.7，酸值为50～110koh mg/g。3.根据权利要求1所述组合物，其特征在于，所述通式2的粘合剂树脂b的平均分子量为5000～30000，分散度为1.6～2.7，酸值为30～120koh mg/g。4.根据权利要求1所述组合物，其特征在于，所述感光剂为下述通式3～通式11所述结构的化合物的至少一种：
在上述通式3至11中，r'是氢原子、2，1-二氮杂酮-4-磺胺酯或2，1-二氮杂酮-5-磺胺酯中的任一种；所述r1～r5各自独立地为氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的烷氧基或碳数为4至10的环烷基中的任一种；r6、r8、r
10
及r
12
各自独立地为氢原子或碳数为1至6的烷基中的任一种；r7、r9、r
11
及r
13
各自独立地为氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的烷氧基、碳数为4至10的环烷基或者从下述分子结构式a至c中选择的官能团中的任一种：在上述分子结构式a至c中，n是0至3的整数，r'是氢原子、2，1-二氮杂酮-4-磺胺酯或2，1-二氮杂酮-5-磺胺酯中的任一种；r
14
是碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的烷氧基或碳数为4至10的环烷基中的任一种。5.根据权利要求1所述组合物，其特征在于，所述包含环氧基或胺基的硅系化合物为3-(2-氨基乙基氨基)丙基三甲氧基硅烷、(3-缩水甘油醚基丙基)三甲氧基硅烷、(3-缩水甘油醚基丙基)三乙氧基硅烷、(3-缩水甘油醚基丙基)甲基二甲氧基硅烷、(3-缩水甘油醚基丙基)甲基二氧基硅烷、(3-缩水甘油醚基丙基)二甲基甲氧基硅烷、(3-缩水甘油醚基丙基)二甲基乙氧基硅烷、3，4-环氧丁基三甲氧基硅烷、3，4-环氧丁基三乙氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三乙氧基硅烷、以及氨基丙基三甲氧基硅烷中的至少一种。6.根据权利要求1所述组合物，其特征在于，还包括溶剂，调节所述组合物的粘度为2～20cps。7.根据权利要求6所述组合物，其特征在于，所述溶剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二甲基乙基醚、甲氧基丙酸甲酯、乙氧基丙酸乙酯(eep)、乳酸乙酯、丙二醇甲醚乙酸酯(pgmea)、丙二醇甲醚、丙二醇丙醚、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、二乙二醇甲醚醋酸酯、二乙二醇乙醚醋酸酯、丙酮、甲基异丁基酮、环己酮、二甲基甲酰胺
(dmf)、n，n-二甲基乙酰胺(dmac)、n-甲基吡咯烷酮(nmp)、γ-丁内酯、乙醚、乙二醇二甲醚、二甘醇二甲醚、四氢呋喃(thf)、甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二丙二醇甲醚、甲苯、二甲苯、己烷、庚烷以及辛烷中的至少一种。

技术总结

本发明公开了一种高开孔率液晶显示元件的有机绝缘膜用正型光刻胶组合物，按照重量份计，包括以下组分：粘合剂树脂7～35份，感光剂4～10份，包含环氧基或胺基的硅系化合物0.01～3份，所述粘合剂树脂为粘合剂树脂a、粘合剂树脂b中的任一种或者二者的混合物，根据本发明的用于高开孔率液晶显示装置的有机绝缘膜的正型光刻胶组合物在形成绝缘膜时具有优异的耐热性，并且与金属和无机物的粘合性、UV透射率、残膜率、平坦性和图案稳定性优异，并且，本发明的组合物原料成本较低，且无需经过光刻胶的反应离子刻蚀。的反应离子刻蚀。