一种新的红外焦平面阵列调整电路设计

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第50卷 第7期               激光与红外
Vol.50,No.7 2020年7月              LASER & INFRAREDJuly,2020
  文章编号:1001 5078(2020)07 0869 06·电子电路·
一种新的红外焦平面阵列调整电路设计
陈力颖1,2,于文阳1,2,任亚晶1
,2(1 天津工业大学电子与信息工程学院,天津300387;2 天津市光电检测技术与系统重点实验室,天津300387)
摘 要:提出了一种新的红外焦平面阵列调整电路(skimming)设计。新的调整电路包括
MEMS像元模块和非均匀性校正模块。该电路能够减少阈值电压对传统调整电路的影响,以
及对探测器制造工艺引入的非均匀性进行补偿。MEMS像元模块通过控制明像元电路和盲像
元电路中的电压值用于调节电路本身的非均匀性,同时非均匀性校正电路用以弥补探测器制
功率分配器造过程引入的像元电阻非均匀性。该电路应用于阵列为640×480的红外焦平面阵列上,采用
TSMC0 18μm工艺进行设计、仿真。仿真结果表明:MEMS像元模块能够使明像元电路和盲
像元电路具有一致性;明像元电阻的非均匀性小于3%,最大积分电流失调为200nA,非均匀
性校正模块的补偿电流大于2
00nA,符合设计要求,使得调整模块输出电流变大,积分电压变大,达到显示效果变亮的目的。
关键词:红外焦平面阵列;调整电路;MEMS像元;非均匀性
中图分类号:TN432  文献标识码:A  DOI:10.3969/j.issn.1001 5078.2020.07.016
Designofskimmingcircuitforuncooledinfrareddetector
CHENLi ying1,2,YUWen yang1,2,RENYa jing
1,2(1 SchoolofElectronics&InformationEngineer
ing,TianjinUniversityofTechnology,Tianjin300387,China;
2 TianjinKeyLaboratoryofPhotoelectricDetectionTechnologyandSystem,Tianjin300387,China)
Abstract:Anewdesignofinfraredfocalplanearrayskimmingcircuitisproposed Thenewskimmingcircuitincludes
pixelmoduleandnon uniformitycorrectionmodule Thecircuitcanreducetheinfluenceofthresholdvoltageonthe
traditionalskimmingcircuitandcompensatethenon uniformityintroducedbythedetectormanufacturingprocess The
pixelmoduleisusedtoadjustthenon uniformityoft
hecircuititselfbycontrollingthevoltagevaluesintheactivepix
elcircuitandtheblindpixelcircuit
,whilethenon uniformitycorrectioncircuitisusedtocompensateforthenon uni formityofpixelresistanceintroducedbythedetectormanufacturingprocess Thecircuitisappliedtoanuncooledin
frareddetectorwithanarrayof640×480,andisdesignedandsimulatedbyTSMC0 18μ
mprocess Thesimulationresultsshowthatthepixelmodulecanmaketheactivepixelcircuitandtheblindpixelcircuitconsistent Thenon uni
支撑板formityoftheactivepixelresistanceislessthan3%,themaximumintegralcurrentoffsetis200nA,andthecompen
sationcurrentofthenon uniformitycorrectionmoduleisgreaterthan200nA,whichmeetsthedesignrequirements,so
thattheoutputcurrentoftheskimmingmodulebecomeslarger
,theintegralvoltagebecomeslarger,andthedisplayeffectbecomesbrighter
Keywords:infraredfocalplanearray;skimmingcircuit;MEMSpixel;non uniformity聚氨酯生产工艺
作者简介:陈力颖(1976-),男,副教授,研究方向为模拟集成电路设计。E mail:13621167673@163.com
收稿日期:2019 09 17;修订日期:2019 10 111 引 言验光组合
红外成像技术已经应用于许多领域,包括军事、透明的距离
桥梁钢模
交通、医学、工业等[1]。微测辐射热计是红外成像技术的关键部件之一。微测辐射热计是一种对红外辐射敏感的电阻传感器[2]。当有红外辐射时,它会吸收红外辐射,引起电阻变化,电阻的变化会转换为

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