首先，要了解蒸镀技术，这得从OLED的结构讲起。如下图所示，典型结构是在ITO玻璃上制作一层几十纳米厚的发光材料，ITO透明电极和金属电极分别作为器件的阳极和阴极电极加电压，在一定电压驱动下，电子和空穴分别从阴极和阳极注入到电子和空穴传输层，电子和空穴分别经过电子和空穴传输层迁移到发光层，并在发光层中相遇复合，形成激子并使发光分子激发，后者经过辐射弛豫而发出可见光。辐射光可从ITO一侧观察到，金属电极膜同时也起了反射层的作用。哇哈论坛
OLED结构原理图
当然了，具体到整块面板，结构也就复杂很多，包括次像素间需要隔离柱、绝缘层之类。AMOLED则还有TFT backplane这种控制每个像素开关的东西。
OLED像素结构示意图
简单来说，蒸镀就是真空中通过电流加热，电子束轰击加热和激光加热等方法，使被蒸材料蒸发成原子或分子，它们随即以较大的自由程作直线运动，碰撞基片表面而凝结，形成薄膜。
声波驱蚊 蒸镀技术制造OLED面板的核心设备是蒸镀机，而这个设备在面板制造企业的上游，主要供应商是佳能旗下一间名为Canon Tokki的企业。随着全球 OLED市场的风起云涌，Tokki公司不断投入开发产能，但是仍然难以满足客户的需要。据说，Tokki一年的蒸镀机产能也就区区几台而已，如LG Display这样的大客户也不得不因为蒸镀机数量有限而无奈的失去苹果订单。
PMOLED的典型工艺流程
rj45防水接头
(备注：PMOLED也属于OLED，但结构比AMOLED简单，没有TFT。)
闪蒸塔
OLED屏幕每个像素“灯泡”除了是蒸上去的，还可以选择“印”出来。用喷墨打印机来举个例子，喷墨打印机是把墨水喷到纸上，从而呈现出文稿或图片。而印刷显示是使用印刷方式制作显示器的有机材料膜层，是一种工艺方法。实现了印刷显示后，可以印刷不同面板，如果“喷”的是OLED材料，那就是OLED面板;“喷”的是量子点材料，那就是量子点显示面板。印刷OLED，简单说，就是通过喷墨印刷设备上的多个印刷喷头，将不同颜的聚合物发光材料溶液精确的沉积在ITO玻璃基板的隔离柱槽中，溶剂挥发后会形成100纳米左右厚度的薄层，构成可发光的像素。
为什么说印刷显示技术是下一代显示革命?真空蒸镀工艺，受限于设备与技术，很难制作大尺寸精细金属掩模板，导致该工艺无法应用在大尺寸面板的制造上。蒸镀过程中， 有机材料气体无差别沉积在玻璃基板上，导致材料利用率低。也许由于不需要真空蒸镀腔体、不需要精密金属掩模板、不需要彩滤光片等等，松下在2013年的CES展会上，展示了一种采用自主研发“印刷”工艺的、而且据他们自己说是当时全球最大4K OLED电视(56寸)。
印刷OLED有哪些优势足以挑战相对成熟的蒸镀技术呢?首先就是成本低廉，在OLED面板
的原材料使用上，印刷OLED就比蒸镀技术节省90%;印刷OLED技术可以有效提升成品的寿命;喷墨打印的制程要比蒸镀制程更容易适应大基板的切割的需要，这更利于高代线处理大尺寸基板的趋势。led显示屏制作
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印刷OLED实现技术示意图
据业界人士的介绍称，印刷OLED最大的瓶颈在于每一个微小印刷点之间的差异性控制(减小像素间的差异)，以及对于极小亚像素单位印刷的设备研发(提升设备精度)。前者是整个印刷显示行业的关键瓶颈，后者则主要是对于中小尺寸显示产品而言的问题。或者说，对于印刷OLED，油墨稳定性不是最终的大问题，设备精度和稳定性才是真正的考验。这个问题恰恰必须在建立示范性生产线后才能真正从工程上解决。
国内华星光电联合国内多家印刷显示骨干单位，共同建立全国第一个“印刷显示技术和材料技术创新联盟”，搭建印刷及柔性显示公共技术服务平台，并以广东聚华印刷显示技术有限公司作为平台运营实体。
OLED屏幕颜三种实现方案
上面提到的这种高端大气上档次的“蒸镀”法，主要应用于RGB三排列的典型OLED屏幕。三星的诸多OLED电视产品都是基于这种方法蒸镀出来的，效果很不错，三原都非常纯粹，但成本非常高昂。这类蒸镀所用的技术叫FMM，精细金属掩模板，就是蒸镀的时候为了区分像素，盖个掩膜，所以对齐的问题，以及掩膜材料本身都会成为技术难点。
实际上，人类为了控制成本，OLED电视不止上述一种，有一类蓝光+变换层：这种方案只需要蒸镀蓝光OLED元件，经过变换层将光转为RGB三，这类技术受到彩转换器开发难度的限制，并未被大规模采用。
还有一类OLED电视是白光+三种彩滤光片，原理上和LCD液晶面板有些类似，以白为背光，再加彩滤光片—这种方式在成本上显然就低了很多，LG就曾以这种方案生产OLED电视，白光OLED +彩滤光片也一度被认为是OLED进一步实现低成本的方案。只不过加上滤光片，透光率光纯度都更成问题，所以亮度、对比度、彩、节能表现理论上都不及RGB OLED。
AMOLED技术的开发主要涉及到TFT背板和OLED器件两个方面。在技术路线的选择上，目前国际上尚未统一，有多种技术方案在开发中。
发光器件即OLED的性能决定了AMOLED显示屏的彩表现力、功耗等品质，因此OLED器件技术的开发对产品竞争力的提高具有非常重要的意义。 OLED器件制备技术主要有两个关键点，一个是开发高迁移率的传输材料和高效率、长寿命发光材料，另一个是开发新型器件结构，提高器件性能。因此，开发新型有机材料、设计新型器件结构和改进真空蒸镀技术将是研究的重点。
目前，TFT背板中的沟道层半导体材料主要有非晶硅(a-Si)、微晶硅(μ-Si)、低温多晶硅(LTPS)、单晶硅、有机物和氧化物等。由于 OLED是电流驱动型器件，需要稳定的电流来控制发光特性。为了达到足够的亮度，AMOLED需要TFT的沟道材料具有较高的迁移率，以提供较高的电流密度，因此目前普遍应用于TFT-LCD中的非晶硅TFT由于迁移率较低很难满足要求。另外，与TFT-LCD所不同的是，AMOLED需要TFT长时间处于开启状态，非晶硅TFT的阈值电压漂移问题也使其很难应用在AMOLED中。从技术发展现状来看，较有希望的是LTPS TFT和氧化物TFT等技术，但也存在很多难点。
