一种防止6Mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组的制作方法

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一种防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组
技术领域
1.本实用新型涉及一种液晶显示技术领域，更具体地说，涉及一种防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组。

背景技术：

2.液晶面板制造经过长期发展，现已成为人们生活息息相关的消费产品，深入我们生活的方方面面，然而液晶显示器制造技术也日趋成熟，在此基础上各面板厂家也在积极推进降低液晶面板制造成本，简化制造流程是控制成本最有效的方法之一，6mask工艺则在此背景下催生，而这也带来一系列的问题，过孔刻蚀就是影响6mask工艺产品的一个关键难题。
3.6mask工艺产品的过孔结构可以分为深孔和浅孔，浅孔用于连接ito和sd金属层，深孔连接ito和gate金属层，深孔和浅孔通过一次刻蚀完成，由于深孔需要刻穿pa保护层和gi保护层两层，而浅孔只需要刻穿pa保护层，因此在蚀刻完浅孔后继续蚀刻深过孔时浅孔处的gate金属层还会有一定量的蚀刻并使gate金属层顶部的表面凹凸不平或产生裂缝，在进行脱膜时会有一定的脱膜液体残留渗入裂缝慢慢腐蚀gate金属层，最后ito通过过孔与gate金属层搭接，这些凹凸不平或裂缝会导致搭接效果差，也可能会在后期可靠性实验中出现不良，从而影响产品的质量，降低了液晶显示模组的良品概率，提高了液晶显示模组的生产和制作成本，降低了液晶显示模组的竞争力，无法满足生产企业日益增长的品质要求。

技术实现要素：

4.本实用新型所要解决的技术问题是如何防止蚀刻过孔时导致金属层顶部的表面凹凸不平或产生裂缝。由于第一金属层的上表面覆盖有第一金属氧化物层，第二金属层的上表面覆盖有第二金属氧化物层，在制作蚀刻浅过孔和蚀刻深过孔时，即使在蚀刻完蚀刻浅过孔后继续蚀刻深过孔时蚀刻浅过孔处的第二金属层虽然还会有一定量的刻蚀，但是由于有第二金属氧化物层的保护，并不会使第二金属层顶部的表面凹凸不平或产生裂缝，同时，在蚀刻深过孔时，由于第一金属层上有第一金属氧化物层保护，并不会使第一金属层顶部的表面凹凸不平或产生裂缝，在进行脱膜时可避免脱膜液体残留渗入裂缝慢慢腐蚀第一金属层和第二金属层，最后第三金属氧化物层通过蚀刻深过孔和浅过孔分别与第一金属层和第二金属层搭接，使得搭接质量好，避免在后期可靠性实验中出现不良，从而提高了产品的质量，也提高了液晶显示模组的良品概率，降低了液晶显示模组的生产和制作成本。
5.本实用新型所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：
6.为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组，其包括阵列基板、第一金属层、第一金属氧化物层、第一保护层、第二金属层、第二金属氧化物层、第二保护层、蚀刻浅过孔、蚀刻深过孔和第三金属氧化物层，所述第一金属层固定于所述阵列基板的上表面；所述第一金属氧化物层覆盖所述第一金属层的上表面；所述第一保护层覆盖所述阵列基板和所述第一金属氧化物层的上表面；所述第二金属
层固定于所述第一保护层的上表面；所述第二金属氧化物层覆盖所述第二金属层的上表面；所述第二保护层覆盖所述第一保护层和所述第二金属氧化物层的上表面；所述蚀刻浅过孔设置于所述第二保护层上且穿透至第二金属氧化物层的上表面；所述蚀刻深过孔设置于所述第二保护层上且穿透至第一金属氧化物层的上表面；所述第三金属氧化物层覆盖所述蚀刻浅过孔和蚀刻深过孔的外表面以及所述第二保护层的上表面。
7.作为本实用新型提供的所述防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组的一种优选实施方式，所述第一金属氧化物层、第二金属氧化物层和第三金属氧化物层均为ito或azo。
8.作为本实用新型提供的所述防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组的一种优选实施方式，所述蚀刻浅过孔和蚀刻深过孔的孔径均为1μm至20μm。
9.作为本实用新型提供的所述防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组的一种优选实施方式，所述第三金属氧化物层的膜厚为0.001μm至0.2μm。
10.作为本实用新型提供的所述防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组的一种优选实施方式，所述阵列基板的上方设置有彩膜基板，所述彩膜基板的上表面固定有盖板，所述阵列基板长于所述彩膜基板并向外伸出，所述阵列基板的上表面的边缘于向外伸出处设置有凸起，所述阵列基板的上表面于所述凸起与所述彩膜基板之间设置有缓冲胶，所述缓冲胶与所述盖板抵接。
11.作为本实用新型提供的所述防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组的一种优选实施方式，所述凸起的上表面与所述彩膜基板的上表面平齐。
12.作为本实用新型提供的所述防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组的一种优选实施方式，所述缓冲胶为硅酮胶。
13.作为本实用新型提供的所述防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组的一种优选实施方式，所述凸起与所述阵列基板之间设置有倒圆角。
14.作为本实用新型提供的所述防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组的一种优选实施方式，所述阵列基板的上表面和所述凸起的侧面为粗糙表面。
15.作为本实用新型提供的所述防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组的一种优选实施方式，所述粗糙表面为磨砂面或菱形滚花。
16.本实用新型具有如下有益效果：
17.由于第一金属层的上表面覆盖有第一金属氧化物层，第二金属层的上表面覆盖有第二金属氧化物层，在制作蚀刻浅过孔和蚀刻深过孔时，即使在蚀刻完蚀刻浅过孔后继续蚀刻深过孔时蚀刻浅过孔处的第二金属层虽然还会有一定量的刻蚀，但是由于有第二金属氧化物层的保护，并不会使第二金属层顶部的表面凹凸不平或产生裂缝，同时，在蚀刻深过孔时，由于第一金属层上有第一金属氧化物层保护，并不会使第一金属层顶部的表面凹凸不平或产生裂缝，在进行脱膜时可避免脱膜液体残留渗入裂缝慢慢腐蚀第一金属层和第二金属层，最后第三金属氧化物层通过蚀刻深过孔和浅过孔分别与第一金属层和第二金属层搭接，使得搭接质量好，避免在后期可靠性实验中出现不良，从而提高了产品的质量，也提高了液晶显示模组的良品概率，降低了液晶显示模组的生产和制作成本。
附图说明
18.为了更清楚地说明本技术中的方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作一个简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
19.图1为本实用新型提供的一种防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组的结构示意图。
20.图2为实施例2的结构示意图。
21.图3为实施例3的结构示意图。
具体实施方式
22.为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本实用新型保护的范围。
23.本实用新型提供了一种防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组，其包括阵列基板1、第一金属层2、第一金属氧化物层3、第一保护层4、第二金属层5、第二金属氧化物层6、第二保护层7、蚀刻浅过孔8、蚀刻深过孔9和第三金属氧化物层10，所述第一金属层2固定于所述阵列基板1的上表面；所述第一金属氧化物层3覆盖所述第一金属层2的上表面；所述第一保护层4覆盖所述阵列基板1和所述第一金属氧化物层3的上表面；所述第二金属层5固定于所述第一保护层4的上表面；所述第二金属氧化物层6覆盖所述第二金属层5的上表面；所述第二保护层7覆盖所述第一保护层4和所述第二金属氧化物层6的上表面；所述蚀刻浅过孔8设置于所述第二保护层7上且穿透至第二金属氧化物层6的上表面；所述蚀刻深过孔9设置于所述第二保护层7上且穿透至第一金属氧化物层3的上表面；所述第三金属氧化物层10覆盖所述蚀刻浅过孔8和蚀刻深过孔9的外表面以及所述第二保护层7的上表面。
24.由于第一金属层2的上表面覆盖有第一金属氧化物层3，第二金属层5的上表面覆盖有第二金属氧化物层6，在制作蚀刻浅过孔8和蚀刻深过孔9时，即使在蚀刻完蚀刻浅过孔8后继续蚀刻深过孔9时蚀刻浅过孔8处的第二金属层5虽然还会有一定量的刻蚀，但是由于有第二金属氧化物层6的保护，并不会使第二金属层5顶部的表面凹凸不平或产生裂缝，同时，在蚀刻深过孔9时，由于第一金属层2上有第一金属氧化物层3保护，并不会使第一金属层2顶部的表面凹凸不平或产生裂缝，在进行脱膜时可避免脱膜液体残留渗入裂缝慢慢腐蚀第一金属层2和第二金属层5，最后第三金属氧化物10层通过蚀刻深过孔9和浅过孔8分别与第一金属层2和第二金属层5搭接，使得搭接质量好，避免在后期可靠性实验中出现不良，从而提高了产品的质量，也提高了液晶显示模组的良品概率，降低了液晶显示模组的生产和制作成本。
25.为了使本技术领域的人员更好地理解本技术方案，下面将结合附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。下面结合附图和实施例对本实用新型进行详细的说明，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨
在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。
26.实施例1
27.请参阅图1，为本实用新型提供的一种防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组，其包括阵列基板1、第一金属层2、第一金属氧化物层3、第一保护层4、第二金属层5、第二金属氧化物层6、第二保护层7、蚀刻浅过孔8、蚀刻深过孔9和第三金属氧化物层10，所述第一金属层2固定于所述阵列基板1的上表面；所述第一金属氧化物层3覆盖所述第一金属层2的上表面；所述第一保护层4覆盖所述阵列基板1和所述第一金属氧化物层3的上表面；所述第二金属层5固定于所述第一保护层4的上表面；所述第二金属氧化物层6覆盖所述第二金属层5的上表面；所述第二保护层7覆盖所述第一保护层4和所述第二金属氧化物层6的上表面；所述蚀刻浅过孔8设置于所述第二保护层7上且穿透至第二金属氧化物层6的上表面；所述蚀刻深过孔9设置于所述第二保护层7上且穿透至第一金属氧化物层3的上表面；所述第三金属氧化物层10覆盖所述蚀刻浅过孔8和蚀刻深过孔9的外表面以及所述第二保护层7的上表面。由于第一金属层2的上表面覆盖有第一金属氧化物层3，第二金属层5的上表面覆盖有第二金属氧化物层6，在制作蚀刻浅过孔8和蚀刻深过孔9时，即使在蚀刻完蚀刻浅过孔8后继续蚀刻深过孔9时蚀刻浅过孔8处的第二金属层5虽然还会有一定量的刻蚀，但是由于有第二金属氧化物层6的保护，并不会使第二金属层5顶部的表面凹凸不平或产生裂缝，同时，在蚀刻深过孔9时，由于第一金属层2上有第一金属氧化物层3保护，并不会使第一金属层2顶部的表面凹凸不平或产生裂缝，在进行脱膜时可避免脱膜液体残留渗入裂缝慢慢腐蚀第一金属层2和第二金属层5，最后第三金属氧化物10层通过蚀刻深过孔9和浅过孔8分别与第一金属层2和第二金属层5搭接，使得搭接质量好，避免在后期可靠性实验中出现不良，从而提高了产品的质量，也提高了液晶显示模组的良品概率，降低了液晶显示模组的生产和制作成本。
28.进一步地，所述第一金属氧化物层3、第二金属氧化物层6和第三金属氧化物层10均为ito或azo。
29.进一步地，所述蚀刻浅过孔8和蚀刻深过孔9的孔径均为1μm至20μm。
30.进一步地，所述第三金属氧化物层10的膜厚为0.001μm至0.2μm。
31.实施例2
32.请参阅图2，作为实施例1的进一步优化方案，本实施例中，所述阵列基板1的上方设置有彩膜基板11，所述彩膜基板11的上表面固定有盖板12，所述阵列基板1长于所述彩膜基板11并向外伸出，所述阵列基板1的上表面的边缘于向外伸出处设置有凸起13，所述阵列基板1的上表面于所述凸起13与所述彩膜基板11之间设置有缓冲胶14，所述缓冲胶14与所述盖板12抵接。由于阵列基板1的边缘设置有凸起13，以限制了缓冲胶14的流动，从而使得缓冲胶14的形态容易控制，不会出现溢胶或者点胶不饱满的现象。从而避免液晶显示模组无法与机壳组装。进而避免点胶不饱满导致的缓冲效果不佳和阵列基板1容易破裂的问题，防止液晶显示模组显示异常。
33.进一步地，所述凸起13的上表面与所述彩膜基板11的上表面平齐，以进一步限制缓冲胶14的流动，从而使得缓冲胶14的形态容易控制，不会出现溢胶或者点胶不饱满的现象。
34.进一步地，所述缓冲胶14为硅酮胶。
35.实施例3
36.请参阅图3，作为实施例2的进一步优化方案，本实施例中，所述凸起13与所述阵列基板1之间设置有倒圆角15，以使得缓冲胶14更容易填满且不易出现气泡。
37.进一步地，所述阵列基板1的上表面和所述凸起13的侧面为粗糙表面，以提高缓冲胶14的固定效果。
38.进一步地，所述粗糙表面为磨砂面或菱形滚花。
39.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
40.此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
41.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接或彼此可通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
42.显然，以上所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例，附图中给出了本技术的较佳实施例，但并不限制本技术的专利范围。本技术可以以许多不同的形式来实现，相反地，提供这些实施例的目的是使对本技术的公开内容的理解更加透彻全面。尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来而言，其依然可以对前述各具体实施方式所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等效替换。凡是利用本技术说明书及附图内容所做的等效结构，直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理在本技术专利保护范围之内。

技术特征：

1.一种防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组，其特征在于，其包括：阵列基板；第一金属层，其固定于所述阵列基板的上表面；第一金属氧化物层，其覆盖所述第一金属层的上表面；第一保护层，其覆盖所述阵列基板和所述第一金属氧化物层的上表面；第二金属层，其固定于所述第一保护层的上表面；第二金属氧化物层，其覆盖所述第二金属层的上表面；第二保护层，其覆盖所述第一保护层和所述第二金属氧化物层的上表面；蚀刻浅过孔，其设置于所述第二保护层上且穿透至第二金属氧化物层的上表面；蚀刻深过孔，其设置于所述第二保护层上且穿透至第一金属氧化物层的上表面；第三金属氧化物层，其覆盖所述蚀刻浅过孔和蚀刻深过孔的外表面以及所述第二保护层的上表面。2.根据权利要求1所述的防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组，其特征在于，所述第一金属氧化物层、第二金属氧化物层和第三金属氧化物层均为ito或azo。3.根据权利要求1所述的防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组，其特征在于，所述蚀刻浅过孔和蚀刻深过孔的孔径均为1μm至20μm。4.根据权利要求1所述的防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组，其特征在于，所述第三金属氧化物层的膜厚为0.001μm至0.2μm。5.根据权利要求1所述的防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组，其特征在于，所述阵列基板的上方设置有彩膜基板，所述彩膜基板的上表面固定有盖板，所述阵列基板长于所述彩膜基板并向外伸出，所述阵列基板的上表面的边缘于向外伸出处设置有凸起，所述阵列基板的上表面于所述凸起与所述彩膜基板之间设置有缓冲胶，所述缓冲胶与所述盖板抵接。6.根据权利要求5所述的防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组，其特征在于，所述凸起的上表面与所述彩膜基板的上表面平齐。7.根据权利要求5所述的防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组，其特征在于，所述缓冲胶为硅酮胶。8.根据权利要求5所述的防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组，其特征在于，所述凸起与所述阵列基板之间设置有倒圆角。9.根据权利要求5所述的防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组，其特征在于，所述阵列基板的上表面和所述凸起的侧面为粗糙表面。10.根据权利要求9所述的防止6mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组，其特征在于，所述粗糙表面为磨砂面或菱形滚花。

技术总结

本实用新型公开了一种防止6Mask工艺过孔凹凸不平的液晶显示模组，第一金属层的上表面覆盖有第一金属氧化物层，第二金属层的上表面覆盖有第二金属氧化物层，制作蚀刻浅过孔和蚀刻深过孔时，即使在蚀刻完蚀刻浅过孔后继续蚀刻深过孔时蚀刻浅过孔处的第二金属层虽然还会有一定量的刻蚀，但是由于有第二金属氧化物层的保护，并不会使第二金属层顶部的表面凹凸不平或产生裂缝，同时，在蚀刻深过孔时，由于第一金属层上有第一金属氧化物层保护，并不会使第一金属层顶部的表面凹凸不平或产生裂缝，在进行脱膜时可避免脱膜液体残留渗入裂缝慢慢腐蚀第一金属层和第二金属层，最后第三金属氧化物层通过蚀刻深过孔和浅过孔分别与第一金属层和第二金属层搭接。属层和第二金属层搭接。属层和第二金属层搭接。