1.本实用新型涉及显示屏制造技术领域,尤其涉及一种喷气
模块及气相沉积系统。
背景技术:
2.化学气相沉积(chemical vapor deposition,简称cvd)是反应物质在气态条件下发生化学反应,生成固态物质沉积在加热的固态基体表面,进而制得固体材料的工艺技术。化学气相沉积技术广泛应用于玻璃基板的镀膜工艺中。具体地,真空沉积腔室内设置有玻璃基板和加热源,加热源用于将玻璃基板加热至一定温度。气相沉积过程中,sih4和n2o气体通过通气管道以及通气管道端部的喷气模块喷射至真空沉积腔室内,两种气体在真空条件下进行反应,在加热的玻璃基板表面形成最终物质,并以薄膜的形态沉积至玻璃基板上。
3.如图1所示,为现有技术中喷气模块1
′
的截面视图,其间隔设置有多个喷气
通道11
′
,每个喷气通道11
′
均包括相连的第一通道111
′
和第二通道 112
′
,sih4和n2o气体依次通过第一通道111
′
和第二通道112
′
喷射出,第一通道111
′
的横截面尺寸大于第二通道112
′
的横截面尺寸,第一通道111
′
用于将气体引入,气体经过横截面尺寸较小的第二通道112
′
时,压力和速度均会增加,以使气体能够流动至玻璃基板所在位置。
4.现有技术存在以下缺陷:如图1所示,第一通道111
′
和第二通道112
′
的纵截面均呈矩形,二者的连接处形成直角台阶结构12
′
,而所通入的气体中含有异物杂质,杂质随气体进入第一通道111
′
后,极易堆积至直角台阶结构12
′
位置处形成堆积块2
′
,造成该喷气通道11
′
的气流量减小甚至完全堵塞,进而导致玻璃基板上沉积薄膜的厚度不均匀,存在斑纹等缺陷。
技术实现要素:
5.本实用新型的目的在于:提供一种喷气模块及气相沉积系统,避免气体喷射过程中喷气通道内出现异物堵塞现象,保证气流量的均匀性,提高玻璃基板的沉积质量。
6.为达上述目的,本实用新型采用以下技术方案:
7.一方面,提供一种喷气模块,
所述喷气模块上设置有喷气通道,所述喷气通道连通供气源,所述喷气通道包括沿进气方向依次连通的导气通道和加压通道,所述导气通道的内壁相对进气方向倾斜设置,以使所述导气通道的横截面积沿进气方向逐渐减小,所述加压通道的横截面积小于所述导气通道出气口的横截面积,所述导气通道的进气口覆设有
滤网组件。
8.作为喷气模块的一种优选方案,所述滤网组件包括一个滤网片;或,所述滤网组件包括沿进气方向依次叠设的多个滤网片,所述滤网片的过滤孔的孔径沿进气方向依次减小。
9.作为喷气模块的一种优选方案,所述喷气模块设置有进气腔室,所述喷气通道贯通所述进气腔室的腔壁,所述滤网组件可拆卸设置于所述进气腔室的内壁,并覆盖所述喷气通道的进气口。
10.作为喷气模块的一种优选方案,所述滤网组件通过可拆胶条和/或螺纹紧固件连接于所述进气腔室的内壁。
11.作为喷气模块的一种优选方案,所述导气通道的内壁和所述加压通道的内壁之间通过第一圆弧结构过渡连接。
12.作为喷气模块的一种优选方案,所述加压通道远离所述导气通道的一端连通有扩散通道,所述扩散通道的横截面积沿远离所述加压通道的方向逐渐增大。
13.作为喷气模块的一种优选方案,所述加压通道的内壁和所述扩散通道的内壁之间通过第二圆弧结构过渡连接。
14.作为喷气模块的一种优选方案,所述扩散通道的出气口边缘沿周向设置有第三圆弧结构。
15.作为喷气模块的一种优选方案,所述喷气模块上间隔设置有多个所述喷气通道,所述滤网组件覆盖多个所述喷气通道的进气口。
16.另一方面,提供一种气相沉积系统,包括供气源、真空沉积腔室以及设置于所述真空沉积腔室内的载具、加热源和如上所述的喷气模块,所述载具用于承载待沉积工件,所述加热源用于加热所述待沉积工件至设定温度,所述供气源能够通过所述喷气模块向所述真空沉积腔室内通入气体。
17.本实用新型的有益效果为:通过在导气通道的进气口处设置滤网组件,能够在气体进入喷气通道之前对气体进行过滤,减小异物杂质进入喷气通道的概率,另外,导气通道的内壁相对进气方向倾斜设置,其横截面积沿进气方向逐渐减小,即导气通道的内壁形成一导向斜坡,气体沿该导向斜坡进入通道内,流动性更强。而且,即使部分杂质随气体进入了导气通道,也不会堆积于导气通道和加压通道的连接位置处,避免了气体喷射过程中喷气通道内出现异物堵塞现象,保证气流量的均匀性,提高玻璃基板的沉积质量。
附图说明
18.下面根据附图和实施例对本实用新型作进一步详细说明。
19.图1为现有的喷气模块的截面视图。
20.图2为本实用新型提供的喷气模块与供气源的连接示意图。
21.图3为本实用新型实施例一提供的喷气模块的局部截面视图。
22.图4为本实用新型提供的滤网组件的第一安装示意图。
23.图5为本实用新型提供的滤网组件的第二安装示意图。
24.图6为本实用新型提供的气相沉积系统的结构示意图。
25.图7为本实用新型实施例二提供的喷气模块的局部截面视图。
26.图1中:
[0027]1′
、喷气模块;11
′
、喷气通道;111
′
、第一通道;112
′
、第二通道;12
′
、直角台阶结构;2
′
、堆积块。
[0028]
图2至图7中:
[0029]
1、喷气模块;11、喷气通道;111、导气通道;112、加压通道;113、扩散通道;12、滤网组件;121、滤网片;13、进气腔室;14、可拆胶条;15、螺纹紧固件;161、第一圆弧结构;162、第二圆弧结构;163、第三圆弧结构;
[0030]
2、供气源;21、供气管路;
[0031]
3、真空沉积腔室;4、载具;5、加热源;
[0032]
100、待沉积工件。
具体实施方式
[0033]
参考下面结合附图详细描述的实施例,本实用新型的优点和特征以及实现它们的方法将变得显而易见。然而,本实用新型不限于以下公开的实施例,而是可以以各种不同的形式来实现,提供本实施例仅仅是为了完成本实用新型的公开并且使本领域技术人员充分地了解本实用新型的范围,并且本实用新型仅由权利要求的范围限定。相同的附图标记在整个说明书中表示相同的构成要素。
[0034]
以下,参照附图来详细描述本实用新型。
[0035]
实施例一
[0036]
如图2和图3所示,本实施例提供一种喷气模块,可应用于玻璃基板气相沉积工序中,喷气模块1与供气源2连接,用于为气相沉积系统内喷射所需气体,如sih4和n2o气体。
[0037]
如图2所示,喷气模块1上设置有进气腔室13,供气源2的出气端连接有供气管路21,并通过该供气管路21与上述进气腔室13连通。进气腔室13的腔壁贯通设置有喷气通道11,具体到本实施例中的图2,喷气通道11贯通设置于进气腔室13的底壁,供气管路21设置于进气腔室13的顶壁。喷气通道11通过进气腔室13、供气管路21连通供气源2的内腔,以使供气源2能够将气体不断地通入进气腔室13,并通过喷气通道11喷射出。供气源2优选为气泵。
[0038]
如图3所示,竖直向下的箭头代表喷气通道11的进气方向。本实施例中,喷气通道11包括沿进气方向依次连通的导气通道111和加压通道112。导气通道111的内壁相对进气方向倾斜设置,以使导气通道111的横截面积沿进气方向逐渐减小,即,导气通道111的纵向截面呈喇叭口状,且大口为进气口端,小口为出气口端。导气通道111的进气口处覆设有滤网组件12,如图2所示,滤网组件12具体设置于进气腔室13的内壁上。
[0039]
加压通道112的横截面积小于导气通道111出气口的横截面积。气体依次通过导气通道111和加压通道112喷出,当气体经过横截面尺寸较小的加压通道112时,压力和速度均会增加,以使喷出的气体具有一定的初速度,能够流动至指定位置。
[0040]
可以理解的是,上述的横截面表示截面垂直于进气方向,纵向截面表示截面平行于进气方向。
[0041]
通过在导气通道111的进气口处设置滤网组件12,能够在气体进入喷气通道11之前对气体进行过滤,减小异物杂质进入喷气通道11的概率。另外,导气通道111的内壁相对进气方向倾斜设置,其横截面积沿进气方向逐渐减小,即导气通道111的内壁形成一导向斜坡,气体沿该导向斜坡进入通道内,流动性更强。而且,即使部分杂质随气体进入了导气通道111,也不会堆积于导气通道111和加压通道112的连接位置处,避免了气体喷射过程中喷气通道11内出现异物堵塞现象,保证气流量的均匀性,提高玻璃基板的沉积质量。
[0042]
在一个可选的实施例中,滤网组件12包括一个滤网片121,该滤网片121 覆盖于导气通道111的进气口处。滤网片121上设置有过滤孔,该过滤孔用于使气体顺利通入,并阻拦异物杂质。
[0043]
在一个新的实施例中,滤网组件12还可以包括多个滤网片121,多个滤网片121沿进气方向依次叠设,提高对异物杂质的过滤效果,保证气体更为纯净。进一步地,多个滤网片121的过滤孔的孔径沿进气方向依次减小,可分别过滤粒径大小不同的异物杂质。
[0044]
示例性地,如图4和图5所示,滤网片121依次叠设有两层,上层滤网片 121的过滤孔孔径大于下层滤网片121的过滤孔孔径,以首先过滤掉粒径较大的杂质,再过滤掉粒径相对较小的杂质。而且,滤网片121叠设两层,在保证过滤效果的同时,不会对气体流动造成较大阻碍。
[0045]
可选地,滤网组件12可拆卸地覆设于进气腔室13的内壁上,并覆盖喷气通道11的进气口,以使滤网组件12可定期更换,确保气相沉积系统的可靠性。
[0046]
具体地,如图4所示,滤网组件12可以通过可拆胶条14粘接于进气腔室 13的内壁,以覆设喷气通道11的进气口。若滤网组件12包括多个滤网片121,则相邻滤网片121之间可以通过可拆胶条14粘接。
[0047]
在另一个实施例中,如图5所示,滤网组件12也可以通过螺纹紧固件15 连接于进气腔室13的内壁。将螺纹紧固件15贯通一个或多个滤网片121,并与进气腔室13的腔壁螺纹连接即可。螺纹紧固件15优选为螺钉,取材方便,且易于拆卸滤网组件12。
[0048]
或者,还可以共用可拆胶条14和螺纹紧固件15安装固定滤网组件12,确保滤网组件12的牢固性。
[0049]
如图3所示,加压通道112远离导气通道111的一端连通有扩散通道113,扩散通道113的横截面积沿远离加压通道112的方向逐渐增大。即,扩散通道 113的纵向截面呈喇叭口状。在气相沉积系统中,待沉积工件100正对扩散通道 113设置,由加压通道112输出的气体在扩散通道113内能够扩散开,并朝向待沉积工件100流动,提高喷气模块1喷出的气体的均匀性。
[0050]
如图2和图3所示,喷气模块1上间隔设置有多个喷气通道11,滤网组件 12覆盖多个喷气通道11的进气口。通过设置多个喷气通道11能够保证喷出流量足够且均匀性较好的气流。滤网组件12能够覆盖全部喷气通道11的进气口,以防止各个喷气通道11发生堵塞。
[0051]
如图6所示,本实施例还提供一种气相沉积系统,包括上述的供气源2、真空沉积腔室3以及设置于真空沉积腔室3内的载具4、加热源5和如上所述的喷气模块1。
[0052]
载具4设置于喷气模块1的下方,用于承载待沉积工件100(本实施例中为玻璃基板),载具4可以是带传动机构,带传动机构用于匀速运送玻璃基板,以使玻璃基板匀速通过喷气模块1下方。加热源5用于加热待沉积工件100至设定温度,该设定温度根据气体发生化学反应生成沉积膜的温度而定。加热源5 可等间隔设置多个,保证对玻璃基板加热的均匀性。
[0053]
气相沉积过程中,供气源2通过喷气模块1将sih4和n2o气体通入真空沉积腔室3内,两种气体在真空条件下进行反应,在加热的玻璃基板表面形成最终物质,并以薄膜的形态沉积至玻璃基板上。
[0054]
进一步地,真空沉积腔室3的真空状态通过与之连接的真空泵实现。
[0055]
实施例二
[0056]
如图7所示,本实施例提供一种喷气模块,其在实施例一的基础上进一步改进。为解决气体流过尖角位置时所受阻力较大,且易产生噪音和紊流现象的问题,本实施例中,导
气通道111的内壁和加压通道112的内壁之间通过第一圆弧结构161过渡连接;加压通道112的内壁和扩散通道113的内壁之间通过第二圆弧结构162过渡连接;扩散通道113的出气口边缘沿周向设置有第三圆弧结构163。即,在导气通道111与加压通道112的连接处、加压通道112与扩散通道113的连接处、以及扩散通道113的出气口边缘均做圆弧处理,消除气体流动路径中的尖角,减小气流阻力,促进气流流动。
[0057]
尽管上面已经参考附图描述了本实用新型的实施例,但是本实用新型不限于以上实施例,而是可以以各种形式制造,并且本领域技术人员将理解,在不改变本实用新型的技术精神或基本特征的情况下,可以以其他特定形式来实施本实用新型。因此,应该理解,上述实施例在所有方面都是示例性的而不是限制性的。
技术特征:
1.一种喷气模块,其特征在于,所述喷气模块上设置有喷气通道,所述喷气通道连通供气源,所述喷气通道包括沿进气方向依次连通的导气通道和加压通道,所述导气通道的内壁相对所述进气方向倾斜设置,以使所述导气通道的横截面积沿所述进气方向逐渐减小,所述加压通道的横截面积小于所述导气通道出气口的横截面积,所述导气通道的进气口覆设有滤网组件。2.根据权利要求1所述的喷气模块,其特征在于,所述滤网组件包括一个滤网片;或,所述滤网组件包括沿所述进气方向依次叠设的多个滤网片,所述滤网片的过滤孔的孔径沿所述进气方向依次减小。3.根据权利要求1所述的喷气模块,其特征在于,所述喷气模块设置有进气腔室,所述喷气通道贯通所述进气腔室的腔壁,所述滤网组件可拆卸设置于所述进气腔室的内壁,并覆盖所述喷气通道的进气口。4.根据权利要求3所述的喷气模块,其特征在于,所述滤网组件通过可拆胶条和/或螺纹紧固件连接于所述进气腔室的内壁。5.根据权利要求1所述的喷气模块,其特征在于,所述导气通道的内壁和所述加压通道的内壁之间通过第一圆弧结构过渡连接。6.根据权利要求1所述的喷气模块,其特征在于,所述加压通道远离所述导气通道的一端连通有扩散通道,所述扩散通道的横截面积沿远离所述加压通道的方向逐渐增大。7.根据权利要求6所述的喷气模块,其特征在于,所述加压通道的内壁和所述扩散通道的内壁之间通过第二圆弧结构过渡连接。8.根据权利要求6所述的喷气模块,其特征在于,所述扩散通道的出气口边缘沿周向设置有第三圆弧结构。9.根据权利要求1-8任一项所述的喷气模块,其特征在于,所述喷气模块上间隔设置有多个所述喷气通道,所述滤网组件覆盖多个所述喷气通道的进气口。10.一种气相沉积系统,其特征在于,包括供气源、真空沉积腔室以及设置于所述真空沉积腔室内的载具、加热源和如权利要求1-9任一项所述的喷气模块,所述载具用于承载待沉积工件,所述加热源用于加热所述待沉积工件至设定温度,所述供气源能够通过所述喷气模块向所述真空沉积腔室内通入气体。
技术总结
本实用新型公开一种喷气模块及气相沉积系统,喷气模块上设置有喷气通道,喷气通道用于连通供气源,喷气通道包括沿进气方向依次连通的导气通道和加压通道,导气通道的内壁相对进气方向倾斜设置,以使导气通道的横截面积沿进气方向逐渐减小,加压通道的横截面积小于导气通道出气口的横截面积,导气通道的进气口覆设有滤网组件。滤网组件能够在气体进入喷气通道之前对气体进行过滤,减小异物杂质进入喷气通道的概率。导气通道的内壁形成一导向斜坡,气体沿该导向斜坡进入通道内,流动性更强,且能避免杂质堆积于导气通道和加压通道的连接位置处,防止喷气通道内出现异物堵塞现象,提高玻璃基板的沉积质量。高玻璃基板的沉积质量。高玻璃基板的沉积质量。
技术研发人员:
徐锐龙
受保护的技术使用者:
乐金显示光电科技(中国)有限公司
技术研发日:
2022.08.04
技术公布日:
2022/11/24