发明人：景玉鹏，高超
申请号：CN200810227485.2
申请日：20081126
公开号：CN101740342A
公开日：
20100616
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明公开了一种二氧化碳超临界流体半导体清洗设备，用于半导体硅片的无水清洗。该设备包括进行超临界流体清洗和超临界干燥的主工作室、分离二氧化碳和清洗废液的分离室、存放增强清洗效果的清洗剂及助溶剂的暂存罐和对二氧化碳进行压缩、散热和存储的二氧化碳循环控制系统等几大部分。各部分通过带阀门的管道进行连接。在少量有机溶剂的配合下，以无表面张力的二氧化碳超流体为清洗媒体和漂洗液，深入微小孔隙获得良好的清洗和干燥效果。利用本发明提供的设备，避免了纯水的大量消耗和化学药剂带来的污染，解决了传统工艺中由于表面张力造成的结构变形和颗粒吸附等问题，而且二氧化碳循环使用减少了温室气体的大量排放。
申请人：中国科学院微电子研究所
地址：100029 北京市朝阳区北土城西路3号
国籍：CN
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：周国城
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