一种多晶硅还原炉底盘的防污染结构的制作方法

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1.本实用新型涉及多晶硅还原炉，尤其涉及一种多晶硅还原炉底盘的防污染结构。

背景技术：

2.我国大多数多晶硅厂均采用西门子法生产多晶硅，并使用还原炉作为多晶硅的反应容器。还原炉包括还原炉底盘和还原炉钟罩，底盘法兰与钟罩法兰之间通过螺栓固定，从而将还原炉钟罩与还原炉底盘固定。
3.间歇式的生产方式要求还原炉每运行80-150小时就需要停止运行，拆除螺栓，吊起还原炉钟罩，取出内部的多晶硅产品，再重新装硅芯，扣上钟罩，紧固螺栓，这样周而复始。
4.在多晶硅生产过程中，通常是依赖于人工手动拆除还原炉底盘法兰与钟罩法兰之间的螺栓，即由操作人员手动逐一将螺栓从还原炉钟罩法兰的螺栓孔中抽出。
5.一方面，为了便于拆装炉，还原炉底盘法兰往往设计、安装得离地面较近，底盘的大部分结构会嵌装在钢结构的楼层中，从而使得拆装螺栓的操作变得困难和费时，而且容易对装炉和拆炉规程造成一定程度的污染。另一方面，随着多晶硅技术的发展，还原炉愈来愈趋于大型化，还原炉直径增加，底盘法兰和钟罩法兰厚度相应增大，还原炉底盘的直径以及用于连接还原炉底盘与还原炉钟罩的螺栓的数量也愈来愈多，重量也愈来愈重，使得拆装螺栓的操作变得更为费力。
6.因此，市场上使用了一种多晶硅还原炉螺栓升降装置实现上螺母拆除后螺栓的存放和升降，避免了人工拆除螺栓的问题。但是，因为还原厂房空间和下层管道空间会经由设备螺栓孔连通，而且螺栓升降装置的气缸里面有润滑油，会导致润滑和下层管道空间的非洁净气体进入还原厂房，降低还原厂房内的洁净等级，污染开炉前期的硅芯和停炉时的硅棒质量。
7.因此，亟需设计一种多晶硅还原炉底盘的防污染结构以解决现有的使用螺栓升降装置的多晶硅还原炉存在的污染问题。

技术实现要素：

8.鉴于目前存在的上述不足，本实用新型提供一种多晶硅还原炉底盘的防污染结构，能够解决现有使用螺栓升降装置的多晶硅还原炉存在的污染问题。
9.为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案：
10.一种多晶硅还原炉底盘的防污染结构，包括炉体、底盘、支座、升降装置、底盘螺栓、地面、支撑环板、隔离内筒，所述炉体安装在底盘上，所述底盘安装在支座上，所述支座设于地面上，所述升降装置设于支座内，所述底盘螺栓一端连于升降装置上，另一端依次与底盘、炉体相连，所述地面设有地面孔洞，所述支撑环板、隔离内筒都设于支座内，所述支撑环板固定于地面孔洞内壁，所述隔离内筒设于支撑环板和底盘之间，所述升降装置位于底盘、支座、支撑环板、隔离内筒围成的密闭空间内，所述升降装置固定在支撑环板上。
11.依照本实用新型的一个方面，所述隔离内筒为可拆卸结构，可由多片板拼成可拆分圆筒，拆分处设有密封片用于密封，并可在拆分处涂覆密封胶进一步密封。
12.依照本实用新型的一个方面，所述隔离内筒采用透明材料或金属材料制作。
13.依照本实用新型的一个方面，所述隔离内筒和支撑环板之间设有第一密封垫片，所述隔离内筒和底盘之间设有第二密封垫片。
14.依照本实用新型的一个方面，所述多晶硅还原炉底盘的防污染结构还包括隔离环板，所述隔离环板设于隔离内筒和底盘之间。
15.依照本实用新型的一个方面，所述升降装置为无油气缸。
16.依照本实用新型的一个方面，所述地面、地面孔洞表面都涂覆保护材料。
17.依照本实用新型的一个方面，所述支撑环板固定在支座内。
18.本实用新型实施的优点：一种多晶硅还原炉底盘的防污染结构，包括炉体、底盘、支座、升降装置、底盘螺栓、地面、支撑环板、隔离内筒，所述炉体安装在底盘上，所述底盘安装在支座上，所述支座设于地面上，所述升降装置设于支座内，所述底盘螺栓一端连于升降装置上，另一端依次与底盘、炉体相连，所述地面设有地面孔洞，所述支撑环板、隔离内筒都设于支座内，所述支撑环板固定于地面孔洞内壁，所述隔离内筒设于支撑环板和底盘之间，所述升降装置位于底盘、支座、支撑环板、隔离内筒装置围成的密闭空间内，所述升降装置固定在支撑环板上。由于底盘、支座、支撑环板、隔离内筒等围成了封闭的空间，能避免来自底盘下层管道空间带来的污染风险。
附图说明
19.为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
20.图1为本实用新型的结构示意图。
21.图中序号所对应的名称如下：
22.1、炉体；2、底盘；3、支座；4、升降装置；5、底盘螺栓；6、地面；61、地面孔洞；7、支撑环板；8、隔离内筒；9、隔离环板。
具体实施方式
23.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
24.如图1所示，一种多晶硅还原炉底盘的防污染结构，包括炉体1、底盘2、支座3、升降装置4、底盘螺栓5、地面6、支撑环板7、隔离内筒8。所述炉体1安装在底盘2上，所述底盘2安装在支座3上，所述支座3设于地面6上，所述升降装置4设于支座3内，所述底盘螺栓5一端连于升降装置4上，另一端依次与底盘2、炉体1相连，所述地面6设有地面孔洞61，所述支撑环板7、隔离内筒8都设于支座3内，所述支撑环板固定于地面孔洞61内壁，所述隔离内筒8设于
支撑环板7和底盘2之间，所述升降装置4位于底盘2、支座3、支撑环板7、隔离内筒8等装置围成的密闭空间内，所述升降装置4固定在支撑环板7上；由于底盘2、支座3、支撑环板7、隔离内筒8等围成了封闭的空间，能避免来自底盘下层管道空间带来的污染风险。
25.在实际应用中，隔离内筒8为可拆卸结构，可由多片板拼成可拆分圆筒，拆分处设有密封片用于密封，并可在拆分处涂覆密封胶进一步密封。
26.在实际应用中，隔离内筒8采用透明材料或金属材料制作，优选采用树脂玻璃等透明材料制作，方便观察升降装置4的运行情况。次选采用薄钢板、铝板、铝合金板等制作。
27.在实际应用中，隔离内筒8和支撑环板7之间可设有第一密封垫片用于二者压紧密封，所述隔离内筒8和底盘2之间可设有第二密封垫片用于二者压紧密封，第一密封垫片、第二密封垫片连接的位置也都可涂覆密封胶用于进一步密封。隔离内筒8和支撑环板7通过螺栓连接固定。
28.在实际应用中，多晶硅还原炉底盘的防污染结构还可包括隔离环板9，所述隔离环板9设于隔离内筒8和底盘2之间。隔离环板9可直接焊接在底盘2底部，或者可将第二密封垫片设于隔离环板9和底盘2之间用于该二者的压紧密封；隔离环板9与隔离内筒8可通过螺栓连接固定。此时底盘2、支座3、支撑环板7、隔离内筒8、隔离环板9等围成了封闭的空间，能避免来自底盘下层管道空间带来的污染风险。
29.在实际应用中，升降装置4为无油气缸，如此能进一步避免污染问题。
30.在实际应用中，地面6、地面孔洞61表面都涂覆保护材料，保护材料优选采用环氧树脂地坪漆，也可采用其它用于防污染的材料。
31.在实际应用中，支撑环板7也可直接与支座3焊接固定。
32.在实际应用中，支撑环板7上可预设开孔，用于连接气路管线，安装完成后，开孔处封闭处理。
33.本实用新型实施的优点：
34.一种多晶硅还原炉底盘的防污染结构，包括炉体1、底盘2、支座3、升降装置4、底盘螺栓5、地面6、支撑环板7、隔离内筒8。所述炉体1安装在底盘2上，所述底盘2安装在支座3上，所述支座3设于地面6上，所述升降装置4设于支座3内，所述底盘螺栓5一端连于升降装置4上，另一端依次与底盘2、炉体1相连，所述地面6设有地面孔洞61，所述支撑环板7、隔离内筒8都设于支座3内，所述支撑环板固定于地面孔洞61内壁，所述隔离内筒8设于支撑环板7和底盘2之间，所述升降装置4位于底盘2、支座3、支撑环板7、隔离内筒8等装置围成的密闭空间内，所述升降装置4固定在支撑环板7上；由于底盘2、支座3、支撑环板7、隔离内筒8等围成了封闭的空间，能避免来自底盘下层管道空间带来的污染风险。
35.以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本领域技术的技术人员在本实用新型公开的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

技术特征：

1.一种多晶硅还原炉底盘的防污染结构，包括炉体(1)、底盘(2)、支座(3)、升降装置(4)、底盘螺栓(5)、地面(6)、支撑环板(7)、隔离内筒(8)，所述炉体(1)安装在底盘(2)上，所述底盘(2)安装在支座(3)上，所述支座(3)设于地面(6)上，所述升降装置(4)设于支座(3)内，所述底盘螺栓(5)一端连于升降装置(4)上，另一端依次与底盘(2)、炉体(1)相连，其特征在于，所述地面(6)设有地面孔洞(61)，所述支撑环板(7)、隔离内筒(8)都设于支座(3)内，所述支撑环板固定于地面孔洞(61)内壁，所述隔离内筒(8)设于支撑环板(7)和底盘(2)之间，所述升降装置(4)位于底盘(2)、支座(3)、支撑环板(7)、隔离内筒(8)围成的密闭空间内，所述升降装置(4)固定在支撑环板(7)上。2.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉底盘的防污染结构，其特征在于，所述隔离内筒(8)为可拆卸结构，可由多片板拼成可拆分圆筒，拆分处设有密封片用于密封，并可在拆分处涂覆密封胶进一步密封。3.根据权利要求2所述的一种多晶硅还原炉底盘的防污染结构，其特征在于，所述隔离内筒(8)采用透明材料或金属材料制作。4.根据权利要求2所述的一种多晶硅还原炉底盘的防污染结构，其特征在于，所述隔离内筒(8)和支撑环板(7)之间设有第一密封垫片，所述隔离内筒(8)和底盘(2)之间设有第二密封垫片。5.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉底盘的防污染结构，其特征在于，所述多晶硅还原炉底盘的防污染结构还包括隔离环板(9)，所述隔离环板(9)设于隔离内筒(8)和底盘(2)之间。6.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉底盘的防污染结构，其特征在于，所述升降装置(4)为无油气缸。7.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉底盘的防污染结构，其特征在于，所述地面(6)、地面孔洞(61)表面都涂覆保护材料。8.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉底盘的防污染结构，其特征在于，所述支撑环板(7)固定在支座(3)内。

技术总结

本实用新型公开了一种多晶硅还原炉底盘的防污染结构，包括炉体、底盘、支座、升降装置、底盘螺栓、地面、支撑环板、隔离内筒，所述炉体安装在底盘上，所述底盘安装在支座上，所述支座设于地面上，所述升降装置设于支座内，所述底盘螺栓一端连于升降装置上，另一端依次与底盘、炉体相连，所述地面设有地面孔洞，所述支撑环板、隔离内筒都设于支座内，所述支撑环板固定于地面孔洞内壁，所述隔离内筒设于支撑环板和底盘之间，所述升降装置位于底盘、支座、支撑环板、隔离内筒围成的密闭空间内，所述升降装置固定在支撑环板上。本实用新型能够解决现有使用螺栓升降装置的多晶硅还原炉存在的污染问题。问题。问题。