C23C14/35
1.本实用新型公开一种分区多靶磁控溅射设备,包括一个真空腔体、靶电极、导辊、 电源、真空系统等,其特征是:在一个相互贯通的真空腔体的两端分别设有放卷室和收卷室, 在其中部设有多个分区并贯通的中间靶腔室,每个中间靶腔室的底部为圆筒形状,在圆筒底 部和侧面设有相同靶材料的长条形磁控溅射靶电极,在中间靶腔室中设有一个导辊,该导辊 的两端是安装在带有轴承的支架上,该支架通过绝缘材料与真空壳体绝缘,在导辊和壳体之 间可以施加电场偏压,在收放卷之间的薄膜由电机带动,通过导辊穿过彼此贯通的腔室,靶 材料通过放电溅射出靶粒子沉积到卷绕在导辊的膜片上。
2.如权利要求1所述的一种分区多靶磁控溅射设备,包括一个真空腔体、靶电极、导辊、 电源、真空系统等,其特征是:一个真空腔体是由分别安装在两端的放卷室和收卷室,以及 多个分区并贯通的靶腔室构成,该真空腔体设有与抽气系统连接的接口,以及连接电源的接 口。
3.如权利要求1所述的一种分区多靶磁控溅射设备,包括一个真空腔体、靶电极、导 辊、电源、真空系统等,其特征是:每个中间靶腔室的底部为圆筒形状,在圆筒底部和侧面 设有相同靶材料的长条形磁控溅射靶电极,该靶电极与真空腔体通过绝缘材料绝缘,它可以 与射频、也可以与高频以及直流电源连接。
4.如权利要求1所述的一种分区多靶磁控溅射设备,包括一个真空腔体、靶电极、导 辊、电源、真空系统等,其特征是:在中间靶腔室中设有一个导辊,该导辊的两端是安装在 带有轴承的支架上,该支架通过绝缘材料与真空壳体绝缘,在导辊与真空壳体之间可以加入 偏压,也可以通过导线连为一体。
5.如权利要求1所述的一种分区多靶磁控溅射设备,包括一个真空腔体、靶电极、导 辊、电源、真空系统等,其特征是:在收放卷之间的薄膜由电机带动,通过导辊穿过彼此贯 通的腔室,在中间两个腔室,传动辊上加有纠偏装置。
6.如权利要求1所述的一种分区多靶磁控溅射设备,包括一个真空腔体、靶电极、导 辊、电源、真空系统等,其特征是:该真空腔体设有与抽气系统连接的接口,该真空系统的 真空泵组分别安装在设备的两端。
本实用新型涉及一种新型的分区多靶磁控溅射设备,尤其是指包含多个相 互贯通又彼此独立的、底部为圆筒形状磁控溅射腔室的、以及传动导辊与真空壳 体绝缘的连续溅射镀膜装置。
磁控溅射是在真空中利用高能粒子轰击靶表面,使被轰击溅射出的靶离子 沉积在基片上。溅射时,气体被电离之后,气体离子在电场的作用下飞向电极靶 材,并以高能量轰击靶表面,使靶材料发生溅射,溅射出的靶粒子沉积在衬底上。 磁控溅射包括多种类型,各有不同的工作原理和应用对象。
磁控溅射在制备多层复合膜时,如果在同一个腔室中进行,即便在靶之间 采用隔离挡板,也时常会造成各层的交叉污染,从而影响薄膜器件的质量;此外, 在溅射过程中,由于在衬底和靶之间通常无辅助电场,因此沉积的薄膜与衬底之 间的结合力并不理想。
本实用新型,采用多个分区并通过过渡导辊传动的真空室设计,在每个中 间靶腔室中安装同一种靶材料电极,彻底避免了多个不同靶在同一个真空室所造 成的交叉污染问题,另外膜导辊的两端是安装在与真空壳体绝缘的两个带有轴承 的支架上,在导辊和壳体之间可以加入电场偏压,可以大大提高溅射的薄膜致密 度和与衬底的结合力;采用圆筒结构的腔室,并且靶电极放置在圆筒的底部,会 避免电极局部烧蚀所带来的大颗粒污染,这种结构与平直的镀膜设备比较,设备 占地空间较小。
本使用新型的优点是:(1)分区靶磁控溅射,有效避免多层薄膜的交叉污 染。(2)衬底和靶极之间的偏压电场可以提高溅射效率,提高薄膜的致密度以及 与衬底材料的结合力。(3)两端的收放卷结构,便于连续处理,设备占地面积相 对较小,易于维护。
考虑到现有技术所存在的问题,本实用新型的目的在于一种分区多靶磁 控溅射设备,包括一个真空腔体、靶电极、导辊、电源、真空系统等,其特征是: 在一个相互贯通的真空腔体的两端分别设有放卷室和收卷室,在其中部设有多个 分区并贯通的中间靶腔室,每个中间靶腔室的底部为圆筒形状,在圆筒底部和侧 面设有相同靶材料的长条形磁控溅射靶电极,在中间靶腔室中设有一个导辊,该 导辊的两端是安装在带有轴承的支架上,该支架通过绝缘材料与真空壳体绝缘, 在导辊和壳体之间可以施加电场偏压,在收放卷之间的薄膜由电机带动,通过导 辊穿过彼此贯通的腔室,靶材料通过放电溅射出靶粒子沉积到卷绕在导辊的膜片 上。
所述的一种分区多靶磁控溅射设备,包括一个真空腔体、靶电极、导辊、电 源、真空系统等,其特征是:一个真空腔体是由分别安装在两端的放卷室和收卷 室,以及多个分区并贯通的靶腔室构成,该真空腔体设有与抽气系统连接的接口, 以及连接电源的接口。
所述的一种分区多靶磁控溅射设备,包括一个真空腔体、靶电极、导辊、 电源、真空系统等,其特征是:每个中间靶腔室的底部为圆筒形状,在圆筒底部 和侧面设有相同靶材料的长条形磁控溅射靶电极,该靶电极与真空腔体通过绝缘 材料绝缘,它可以与射频、也可以与高频以及直流电源连接。
所述的一种分区多靶磁控溅射设备,包括一个真空腔体、靶电极、导辊、 电源、真空系统等,其特征是:在中间靶腔室中设有一个导辊,该导辊的两端是 安装在带有轴承的支架上,该支架通过绝缘材料与真空壳体绝缘,在导辊与真空 壳体之间可以加入偏压,也可以通过导线连为一体。
所述的一种分区多靶磁控溅射设备,包括一个真空腔体、靶电极、导辊、 电源、真空系统等,其特征是:在收放卷之间的薄膜由电机带动,通过导辊穿过 彼此贯通的腔室,在中间两个腔室,传动辊上加有纠偏装置。
所述的一种分区多靶磁控溅射设备,包括一个真空腔体、靶电极、导辊、 电源、真空系统等,其特征是:该真空腔体设有与抽气系统连接的接口,该真空 系统的真空泵组分别安装在设备的两端。
下面结合附图对本实用新型进行进一步的描述,其中:
图1为本实用新型实施例:一种分区多靶磁控溅射设备结构示意图;
图2为本实用新型实施例:导棍安装结构示意图。
下面参照附图,结合具体的实施例对本实用新型进行详细的描述。
首先,参阅图1和图2,一种分区多靶磁控溅射设备,是在一个相互 贯通的真空腔体100的两端分别设有放卷室101和收卷室102,在其中部设有多 个分区并贯通的中间靶腔室103,每个中间靶腔室的底部为圆筒形状,在圆筒底 部和侧面设有相同靶材料的长条形磁控溅射靶电极111,它可以与射频、也可以 与高频以及直流电源连接。
在中间靶腔室中设有导辊104,导辊104的两端是安装在带有绝缘轴套114 的支架115上,在导辊104和壳体100之间可以施加一个电源116作为电场偏压。
在收放卷107和108之间的薄膜由电机带动,通过导辊109穿过彼此贯 通的腔室103,在传动辊上加有纠偏装置。
靶电极111的通过放电溅射出靶粒子沉积到卷绕在导辊的膜片上。
该真空腔体100设有与抽气系统110连接的接口,该真空系统110的真空 泵组分别安装在设备的两端。
该真空腔体100是放置在一个带有移动轮的支架112上,该支架与大地连 接113。
上面参考附图结合具体的实施例对本实用新型进行了描述,然而,需要说 明的是,对于本领域的技术人员而言,在不脱离本实用新型的精神和范围的情 况下,可以对上述实施例作出许多改变和修改,这些改变和修改都落在本实用 新型的权利要求限定的范围内。
本文发布于:2023-03-28 05:48:40,感谢您对本站的认可!
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