覆盖窗和包括该覆盖窗的显示
装置1.本技术要求于2021年9月6日在韩国知识产权局提交的第10-2021-0118198号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。
技术领域
2.本公开涉及一种覆盖窗和包括该覆盖窗的显示装置。
背景技术：
3.近来，已经使用了一种或更多种适合的移动电子装置，诸如便携式电话、导航装置、数字相机、电子书、便携式游戏机和/或一种或更多种适合的类型的终端，液晶显示装置或有机发光二极管显示装置作为显示装置被应用到
所述终端。
4.在移动电子装置中使用的相关技术的显示装置中，在显示面板的前侧处设置有透明地形成(例如，具有适合的透明度)使得用户可以通过其看到显示部件的覆盖窗。因为覆盖窗定位在显示装置的最外侧处，所以期望覆盖窗对于外部冲击是坚固的，以便保护移动电子装置中的显示面板等。
5.此外，代替其中将开关或键盘用作输入装置的现有方式，近来，与显示屏集成的触摸面板的结构已经被广泛使用，因此，与现有的移动装置相比，在许多情况下，因为覆盖窗的表面与手指等接触，所以期望覆盖窗具有较大的强度。
6.此外，近来，已经积极地进行了对柔性显示装置的研究，并且优选的是，应用于这种柔性显示装置的覆盖窗用具有适合的柔性的可折叠构件形成。
7.覆盖窗可以包括多个层以改善强度和柔性，并且在该结构中，界面反射会增加，因此覆盖窗的
反射率会增大。
8.在该背景技术部分中公开的以上信息仅用于增强对本公开的背景技术的理解，因此其可以包含不形成本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现要素：
9.根据本公开的实施例的方面涉及一种具有低反射率和优异的或适合的耐久性的覆盖窗以及包括该覆盖窗的显示装置。
10.根据实施例，覆盖窗包括：窗层；低折射层，在窗层的第一表面上；粘合剂层，在低折射层上；耐磨层，在粘合剂层上；以及光阻挡层，在窗层的背对第一表面的第二表面上，其中，粘合剂层包括sio2和al2o3的置换固溶体。
11.低折射层可以是单层。
12.低折射层可以包括mgf2。
13.低折射层中的mgf2可以具有晶体结构。
14.低折射层的
厚度可以为50nm至150nm。
15.低折射层在550nm的波长下的折射率可以为1.5或更小。
16.粘合剂层可以包括si9al2o
10
。
17.粘合剂层的厚度可以为5nm至25nm。
18.粘合剂层在550nm的波长下的折射率可以为1.5或更小。
19.耐磨层可以包括全氟聚醚。
20.耐磨层的厚度可以为5nm至30nm。
21.光阻挡层可以具有单层结构或多层结构，并且可以包括丙烯酸聚氨酯、环氧树脂、聚酯和环氧酯中的至少一种。
22.光阻挡层的厚度可以为8μm至15μm。
23.光阻挡层可以包括包含丙烯酸聚氨酯的第一层和包含环氧树脂的第二层，第一层的厚度可以为3μm至8μm，并且第二层的厚度可以为5μm至10μm。
24.光阻挡层可以包括包含聚酯的第一层和包含环氧酯的第二层，第一层的厚度可以为3μm至8μm，并且第二层的厚度可以为5μm至10μm。
25.光阻挡层可以包括包含聚酯的第一层、包含聚酯的第二层和包含环氧酯的第三层，第一层的厚度可以为2μm至5μm，第二层的厚度可以为3μm至5μm，并且第三层的厚度可以为3μm至5μm。
26.光阻挡层可以仅定位在窗层的部分区域中。
27.光阻挡层可以在200℃至300℃的温度下具有耐热性(例如，不会从窗层剥离或在任何方面劣化)。
28.覆盖窗的反射率可以为6.5％或更小。
29.根据本实施例的显示装置可以包括上述覆盖窗和与覆盖窗叠置的显示面板。
30.根据一个或更多个实施例，提供了一种具有低反射率和优异的或适合的耐久性的覆盖窗以及包括该覆盖窗的显示装置。
附图说明
31.图1示出了根据实施例的覆盖窗的剖视图。
32.图2示出了根据实施例的包括在覆盖窗的低折射层中的mgf2的sem图像。
33.图3示出了包括在粘合剂层中的si9al2o
10
的晶体结构。
34.图4示出了根据另一实施例的覆盖窗的剖视图。
35.图5示出了根据另一实施例的覆盖窗的剖视图。
36.图6示出了光阻挡层的剥离测试结果。
37.图7示出了胶带剥离测试中根据剥离面积的等级体系。
38.图8示出了沉积之前、沉积之后和评价耐热水性之后的δe值。
39.图9是根据实施例的包括覆盖窗的显示装置的示意性剖视图。
具体实施方式
40.在下文中将参照附图更详细地描述本公开，在附图中示出了本公开的实施例。如本领域技术人员将认识到的，可以以一种或更多种适合的方式修改所描述的实施例，所有这些都不脱离本公开的精神或范围。
41.为了清楚地描述本公开，省略了与描述无关的部件或部分，并且贯穿说明书，相同或相似的组成元件由相同的附图标记表示。
42.此外，在附图中，为了易于描述，任意示出了每个元件的尺寸和厚度，并且本公开不必限于附图中所示的每个元件的尺寸和厚度。在附图中，为了清楚起见，可以夸大层、膜、面板、区、区域等的厚度。在附图中，为了易于描述，可以夸大一些层和区域的厚度。
43.将理解的是，当诸如层、膜、区、区域或基底的元件被称为“在”另一元件“上”时，该元件可以直接在所述另一元件上，或者也可以存在居间元件。相反，当元件被称为“直接在”另一元件“上”时，不存在居间元件。此外，在说明书中，词语“在
……
上”或“在
……
上方”指定位在对象部分上或下面，并且不必指定位在对象部分的基于重力方向的上侧上。
44.在一些实施例中，除非明确相反地描述，否则词语“包括”、“包含”及其变型将被理解为暗示包括所陈述的元件，而不排除任何其他元件。
45.此外，贯穿说明书，短语“在平面图中”或“在平面上”指从顶部观看目标部分，并且短语“在剖视图中”或“在剖面上”指从侧面观看通过垂直切割目标部分而形成的剖面。
46.在下文中，将参照附图更详细地描述根据实施例的覆盖窗和包括该覆盖窗的显示装置。
47.图1示出了根据实施例的覆盖窗1000的剖视图。参照图1，根据本实施例的覆盖窗1000包括窗层100、定位在窗层100的后表面上的光阻挡层200、定位在窗层100的另一表面(例如，前表面)上的低折射层300、定位在低折射层300上的粘合剂层400以及定位在粘合剂层400上的耐磨层500。
48.根据本实施例的覆盖窗1000的特征在于降低了反射率，并且低折射层300由单层形成以改善耐久性。在下文中，将更详细地描述每个组成元件。
49.窗层100可以包括玻璃或聚合物。聚合物的示例可以包括聚酰亚胺，但是本公开不限于此。在实施例中，窗层100可以由玻璃制成。
50.低折射层300定位在窗层100的一个表面上。低折射层300可以降低覆盖窗1000的反射率。低折射层300相对于550nm的波长的折射率可以为1.5或更小。
51.当在包括覆盖窗1000的显示装置中发生大量表面反射时，显示装置的总反射率会增大，并且显示质量会劣化。在显示装置中，大部分反射发生在覆盖窗1000的表面上，因此期望降低覆盖窗1000的反射率。根据本实施例的覆盖窗1000可以包括低折射层300以降低覆盖窗1000的反射率。
52.在本实施例中，低折射层300可以是单层(例如，以基本上均匀的组成在单个沉积工艺中形成)。当低折射层300是单层时，与多层的低折射层相比，可以改善耐磨特性并且可以降低成本。
53.例如，当高折射层和低折射层交替地堆叠以降低反射率时，它们会容易受到外部冲击和刮擦。在一些实施例中，剥离会发生在堆叠的高折射层和低折射层之间。同样，当低折射层形成为多层结构时，其会容易受到外部冲击和刮擦，并且会发生各个层之间的剥离。
54.然而，在根据本实施例的覆盖窗1000的情况下，因为低折射层300是单层，所以其可以在降低覆盖窗1000的反射率的同时具有优异的或适合的机械特性。
55.在本实施例中，低折射层300可以包括具有1.5或更小的折射率的材料。低折射层300可以包括氟。
56.例如，低折射层300可以包括mgf2。在这种情况下，包括在低折射层300中的mgf2可以具有晶体结构。
57.图2示出了包括在根据本实施例的覆盖窗1000的低折射层300中的(在250℃的温度下形成的)mgf2的扫描电子显微镜(sem)图像。如图2中所示，在本实施例中，包括在低折射层300中的mgf2可以具有晶体结构。
58.为了使mgf2具有晶体结构，可以在200℃至300℃的温度下形成mgf2。当在200℃至300℃的温度下生长mgf2的晶体时，mgf2具有期望的晶体结构，并且可以改善mgf2与窗层100之间的粘附力。
59.mgf2相对于550nm的波长的折射率为1.38，这可以有效地降低覆盖窗1000的反射率。
60.低折射层300的厚度可以是50nm至150nm。当低折射层300的厚度小于50nm时，降低反射率的效果可能不够(例如，可能不大)。当低折射层300的厚度超过150nm时，因为覆盖窗1000的厚度变得太厚，所以其不适宜或不适合应用于可折叠显示装置，并且覆盖窗1000的透射率会劣化。
61.根据本实施例的低折射层300包含氟，并且在这种情况下，其可能不具有与其他层足够的粘合强度。因此，根据本实施例的覆盖窗1000可以包括用于将低折射层300和耐磨层500附着的粘合剂层400。
62.粘合剂层400可以包括sio2和al2o3。在这种情况下，粘合剂层400中的sio2和al2o3可以作为置换固溶体存在。例如，可以不分别包括sio2和al2o3，但是sio2和al2o3的元素可以在结构中彼此置换以形成晶体结构。例如，其可以以si9al2o
10
的状态存在。
63.图3示出了si9al2o
10
的晶体结构。如图3中所示，si、al和o可以在粘合剂层400中具有(例如，形成)晶体结构。
64.包括sio2和al2o3的置换固溶体的粘合剂层400在550nm的波长下的折射率可以是1.5或更小，例如，1.48。因此，粘合剂层400还可以有助于降低覆盖窗1000的反射率。
65.粘合剂层400的厚度可以为5nm至25nm。当粘合剂层400的厚度小于5nm时，粘合性能会降低，并且当粘合剂层400的厚度超过25nm时，透射率会降低。
66.返回参照图1，耐磨层500定位在覆盖窗1000的表面处，并且可以抑制或减少表面上的磨损。例如，耐磨层500可以包括全氟聚醚(pfpe)。pfpe具有刚性的短的全氟烷基链，该全氟烷基链具有其中引入的高度柔性的醚键。因此，pfpe可以具有柔软的非晶性质、优异的或适合的抗指纹性质以及优异的或适合的滑动性质。
67.包括pfpe的耐磨层500在550nm的波长下的折射率可以为1.32。因此，耐磨层500也可以有助于降低覆盖窗1000的反射率。
68.耐磨层500的厚度可以是5nm至30nm。当耐磨层500的厚度小于5nm时，其可能不具有足够的耐磨性。当耐磨层500的厚度超过30nm时，透射率会劣化。
69.光阻挡层200可以沿着覆盖窗1000的边缘定位。光阻挡层200可以防止或减少或基本上防止或减少从外部观看到定位在显示面板上的布线或电路，并且可以防止或减少显示面板的漏光。其中设置有光阻挡层200的部分可以为显示装置的边框区域。
70.本实施例的光阻挡层200可以具有可以承受用于在窗层100上形成低折射层300、粘合剂层400和耐磨层500的沉积温度的耐热性。例如，可以通过使用电子束形成低折射层300、粘合剂层400和耐磨层500，并且在这种情况下，工艺温度可以是200℃至300℃。例如，工艺温度可以是250℃。因此，优选的是，光阻挡层200具有耐热性，使得光阻挡层200在200
℃至300℃的温度下不会丧失与窗层100的粘附力。
71.根据本实施例的光阻挡层200可以在200℃至300℃下具有耐热性而不损失粘附力。因此，在其中光阻挡层200定位在窗层100上的状态下，可以形成低折射层300、粘合剂层400和耐磨层500。低折射层300、粘合剂层400和耐磨层500可以在一个室中连续地形成，从而简化工艺。例如，当光阻挡层200不具有足够的耐热性时，首先在窗层100上形成其中需要高温工艺的低折射层300、粘合剂层400、耐磨层500等，然后通过单独的工艺在窗层100下方形成光阻挡层200。在这种情况下，工艺时间长并且经济效率降低。然而，在本实施例中，因为光阻挡层200具有适合的耐热性，所以用于形成低折射层300、粘合剂层400和耐磨层500的电子束工艺可以在其中光阻挡层200形成在窗层100上的状态下执行。电子束工艺可以在一个室中连续地执行，从而简化工艺。
72.光阻挡层200的厚度可以是8μm至15μm。当光阻挡层200的厚度小于8μm时，会发生漏光，并且当光阻挡层200的厚度大于15μm时，光阻挡层200的形成区域和未形成区域之间的台阶(例如，厚度差)增大，这可能是不期望的。
73.光阻挡层200可以具有单层或多层结构，并且可以包括丙烯酸聚氨酯、环氧树脂、聚酯和环氧酯中的至少一种。
74.尽管在图1中示出了其中光阻挡层200具有单层结构的实施例，但是光阻挡层200可以具有多层结构，例如，两层或三层结构。
75.图4示出了根据另一实施例的覆盖窗1000。参照图4，除了光阻挡层200包括第一层210和第二层220之外，根据本实施例的覆盖窗1000与图1的实施例中的覆盖窗1000相同。将不提供相同组成元件的详细描述。
76.参照图4，第一层210可以包括丙烯酸聚氨酯，并且第二层220可以包括环氧树脂。在一些实施例中，第一层210可以包括聚酯，并且第二层220可以包括环氧树脂。在一些实施例中，第一层210可以包括聚酯，并且第二层220可以包括环氧酯。在图4的实施例中，第一层210的厚度可以是3μm至8μm。在一些实施例中，第二层220的厚度可以是5μm至10μm。
77.图5示出了根据另一实施例的覆盖窗1000。参照图5，除了光阻挡层200包括第一层210、第二层220和第三层230之外，根据本实施例的覆盖窗1000与图1的实施例中的覆盖窗1000相同。将不提供相同组成元件的详细描述。
78.参照图5，第一层210可以包括聚酯，第二层220可以包括聚酯，并且第三层230可以包括环氧酯。在这种情况下，第一层210的厚度可以是2μm至5μm，第二层220的厚度可以是3μm至5μm，并且第三层230的厚度可以是3μm至5μm。
79.在将根据本实施例的光阻挡层200置于具有80℃
±
2℃的温度的恒温水浴中30分钟之后，通过胶带剥离实验测量剥离，结果示于图6中。参照图6，作为检查在恒温水浴中热水浸入之前和之后是否剥离的结果，证实所有剥离测试都是优异的或适合的，且具有4b至5b的水平(将参照图7进行解释)。
80.在胶带剥离测试中，根据图7中所示的等级体系评估剥离。如图7中所示，当剥离测试结果处于4b至5b的水平时，其指或表明胶带剥离之后的剥离面积在5％以内(例如，小于5％)。
81.如此，在根据本实施例的覆盖窗1000中，因为低折射层300是单层，所以能够有效地降低覆盖窗1000的反射率并增加覆盖窗1000的耐久性。在一些实施例中，因为窗层100下
rite ci 7800设备测量的值，并且该值越大，颜质量偏差越大。参照表2，证实沉积前后以及耐热水性测试前后颜质量的差异不显著。
90.表2
[0091][0092]
返回参照表1，根据本实施例的覆盖窗1000的反射率为6.03％。在相关技术中，在包括覆盖窗的显示装置中，覆盖窗的反射的占比可以是77％，并且显示面板的反射的占比可以是23％。在这种情况下，当显示面板具有不包括偏振层(较少的pol(偏振层))的结构时，显示面板的效率可以增大30％或更多，并且显示面板的颜再现性可以增大10％或更多，但是显示面板的反射率也会增大。例如，与包括偏振层的显示面板相比，不包括偏振层的显示面板的反射率会增大1.2％。因此，不包括偏振层的显示装置的相关技术覆盖窗应当具有比包括偏振层的显示装置的覆盖窗的反射率低的反射率。因为包括偏振层的显示装置的覆盖窗的反射率通常为8％，所以不包括偏振层的显示装置的覆盖窗的反射率为6.5％或更小。
[0093]
如表1中所示，证实根据本实施例的覆盖窗1000具有6.03％的足够低的反射率。因此，根据本实施例的覆盖窗1000可以应用于不包括偏振层的显示装置，从而降低显示装置的反射率。
[0094]
在一些实施例中，参照表1，证实指示颜质量(sce)的a*和b*在良好或适合的范围内。颜质量(sce)是通过使用如上所述的x-rite ci 7800设备测量的值，并且优选地，覆盖窗1000的颜质量满足-2《a*《2且-1.5《b*《0.5。参照表1，证实根据本实施例的覆盖窗1000的颜质量(sce)满足以上提及的范围。
[0095]
在一些实施例中，参照表1，利用橡皮和钢丝绒执行耐磨性测试，并且示出结果。在这种情况下，以1kg的负荷、40次往复/min和15mm的冲程执行耐磨性测试，并且在分别执行5000次和10000次之后，测量接触角(例如，水接触角)。合格标准是：在多次评价之后，接触角为95
°
或更大，并且在外观上未见涂层的剥离。
[0096]
参照表1，在使用橡皮擦的耐磨性试验的情况下，证实即使在10000次耐磨性试验之后接触角也是103.6
°
，表明优异的或适合的耐磨性。类似地，在使用钢丝绒的耐磨性试验的情况下，证实即使在10000次耐磨性试验之后接触角也是99.7
°
，表明优异的或适合的耐磨性。
[0097]
因为根据本实施例的覆盖窗1000的光阻挡层200在200℃至300℃的温度下具有耐热性，所以其可以在一个室中制造，因此该工艺是经济的，并且低折射层300形成为单层，因此能够改善耐久性。在一些实施例中，粘合剂层400可以包括sio2和al2o3的置换固溶体，使得能够改善粘附力并且改善机械性质，并且具有优异的或适合的耐磨性。如表1中所示，因为覆盖窗1000具有6％的期望的反射率，所以其具有优异的或适合的颜质量和耐磨性质。
[0098]
在下文中，将参照图9简要描述包括根据本实施例的覆盖窗1000的显示装置作为
示例。然而，图9中所示的结构仅是示例，覆盖窗1000可以定位在具有一个或更多个适合的结构的显示面板上，并且不限于图9中所示的结构。为了更好地理解和易于描述，图9示出了示意性剖视图。
[0099]
参照图9，可以定位(例如，使用)基底sub。基底sub可以包括玻璃或聚酰亚胺。
[0100]
晶体管tft定位在基底sub上。晶体管tft可以包括栅电极、半导体层、源电极、漏电极等，并且可以电连接到第一电极191。
[0101]
层间绝缘膜ild可以定位在晶体管tft上。层间绝缘膜ild可以包括无机绝缘材料，诸如氮化硅(sin
x
)、氧化硅(sio
x
)和/或氮氧化硅(sio
x
ny)。在一些实施例中，层间绝缘膜ild可以是有机膜。例如，层间绝缘膜ild可以包括有机绝缘材料，诸如通用聚合物(诸如聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)和/或聚苯乙烯(ps))、具有酚基的聚合物衍生物、丙烯酰类聚合物、酰亚胺类聚合物、聚酰亚胺和/或硅氧烷类聚合物。
[0102]
绝缘膜via可以定位在第一电极191上。绝缘膜via可以是有机膜。例如，绝缘膜via可以包括有机绝缘材料，诸如通用聚合物(诸如聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)和/或聚苯乙烯(ps))、具有酚基的聚合物衍生物、丙烯酰类聚合物、酰亚胺类聚合物、聚酰亚胺和/或硅氧烷类聚合物。
[0103]
绝缘膜via包括与第一电极191叠置的开口，并且发光元件层360可以定位在绝缘膜via的开口中。第二电极270可以定位在绝缘膜via和发光元件层360上。第一电极191、发光元件层360和第二电极270可以构成(例如，形成)发光元件ed。
[0104]
封装层tfe可以定位在第二电极270上。封装层tfe可以具有其中无机膜和有机膜交替地堆叠的结构，并且可以保护发光元件ed免受外部湿气和/或污染物的影响。
[0105]
光阻挡构件bm可以定位在封装层tfe上。光阻挡构件bm可以定位在不与发光元件层360叠置的区域中，并且与定位在基底sub上的布线叠置，以防止或减少漏光。
[0106]
滤器cf可以定位在封装层tfe上。滤器cf可以包括第一滤器cf1、第二滤器cf2和第三滤器cf3。
[0107]
粘合剂层psa可以定位在滤器cf上。覆盖窗1000可以通过粘合剂层psa附着。因为覆盖窗1000的描述与上述相同，所以将不提供其描述。
[0108]
如图9中所示，根据本实施例的显示装置可以在其中不包括(例如，可以排除)偏振层。在这种情况下，效率可以增大30％或更多，并且颜再现性可以增大10％或更多，但是相关技术装置中的反射率会增大。然而，因为根据本实施例的显示装置的覆盖窗1000具有6.5％或更小的反射率，所以能够将不包括偏振层的显示装置的反射率保持在与包括偏振层的显示装置的反射率相似的水平。因此，在不增大反射率的情况下，可以改善效率并且可以改善颜再现性。
[0109]
如这里所使用的，诸如
“……
中的至少一个(种/者)”、
“……
中的一个(种/者)”和“选自于
……”
的表述在一列元件之前或之后时修饰整列元件，而不修饰该列的个别元件。例如，“a、b和c中的至少一个(种/者)”可以指示仅a、仅b、仅c、a和b两者(例如，同时)、a和c两者(例如，同时)、b和c两者(例如，同时)、a、b和c中的全部或其变型。
[0110]
当描述本发明的实施例时，“可以”的使用指“本发明的一个或更多个实施例”。
[0111]
此外，这里叙述的任何数值范围旨在包括包含在所叙述的范围内的相同数值精度的所有子范围。例如，“1.0至10.0”的范围旨在包括所叙述的最小值1.0和所叙述的最大值
10.0之间(并且包括所叙述的最小值1.0和所叙述的最大值10.0)的所有子范围，即，具有等于或大于1.0的最小值和等于或小于10.0的最大值，诸如以2.4至7.6为例。这里所叙述的任何最大数值限度旨在包括其中包含的所有较低数值限度，并且本说明书中所叙述的任何最小数值限度旨在包括其中包含的所有较高数值限度。因此，申请人保留修改本说明书和权利要求书的权利，以明确叙述包含在这里明确地叙述的范围内的任何子范围。
[0112]
根据这里描述的本发明的实施例的显示装置和/或任何其他相关装置或组件可以使用任何适合的硬件、固件(例如，专用集成电路)、软件或软件、固件和硬件的组合来实现。例如，装置的各种组件可以形成在一个集成电路(ic)芯片上或者形成在单独的ic芯片上。此外，装置的各种组件可以实施于柔性印刷电路膜、载带封装件(tcp)、印刷电路板(pcb)上，或者形成在一个基底上。此外，装置的各种组件可以是在一个或更多个计算装置中在一个或更多个处理器上运行、执行计算机程序指令并且与其他系统组件交互以执行这里描述的各种功能的进程或线程。计算机程序指令存储在存储器中，该存储器可以使用标准存储器装置(诸如以随机存取存储器(ram)为例)在计算装置中实现。计算机程序指令还可以存储在其他非暂时性计算机可读介质(诸如以cd-rom、闪存驱动器等为例)中。此外，本领域技术人员应当认识到，在不脱离本发明的实施例的范围的情况下，各种计算装置的功能可以组合或集成到单个计算装置中，或者特定计算装置的功能可以跨一个或更多个其他计算装置分布。
[0113]
虽然已经结合当前被认为是实际的实施例描述了本公开，但是将理解的是，本公开不限于所公开的实施例，而是相反，旨在覆盖包括在所附权利要求及其等同物的精神和范围内的一个或更多个适合的修改和等同布置。
[0114]
符号说明
[0115]
1000：覆盖窗
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
100：窗层
[0116]
200：光阻挡层
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
210：第一层
[0117]
220：第二层
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
230：第三层
[0118]
300：低折射层
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
400：粘合剂层
[0119]
500：耐磨层
技术特征：
1.一种覆盖窗，所述覆盖窗包括：窗层；低折射层，在所述窗层的第一表面上；粘合剂层，在所述低折射层上；耐磨层，在所述粘合剂层上；以及光阻挡层，在所述窗层的背对所述第一表面的第二表面上，其中，所述粘合剂层包括sio2和al2o3的置换固溶体。2.根据权利要求1所述的覆盖窗，其中，所述低折射层是单层。3.根据权利要求2所述的覆盖窗，其中，所述低折射层包括mgf2。4.根据权利要求3所述的覆盖窗，其中，所述低折射层中的mgf2具有晶体结构。5.根据权利要求2所述的覆盖窗，其中，所述低折射层的厚度为50nm至150nm。6.根据权利要求2所述的覆盖窗，其中，所述低折射层在550nm的波长下的折射率为1.5或更小。7.根据权利要求1所述的覆盖窗，其中，所述粘合剂层包括si9al2o
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。8.根据权利要求1所述的覆盖窗，其中，所述粘合剂层的厚度为5nm至25nm。9.根据权利要求1所述的覆盖窗，其中，所述粘合剂层在550nm的波长下的折射率为1.5或更小。10.根据权利要求1所述的覆盖窗，其中，所述耐磨层包括全氟聚醚。11.根据权利要求1所述的覆盖窗，其中，所述耐磨层的厚度为5nm至30nm。12.根据权利要求1所述的覆盖窗，其中，所述光阻挡层具有单层结构或多层结构，并且包括丙烯酸聚氨酯、环氧树脂、聚酯和环氧酯中的至少一种。13.根据权利要求1所述的覆盖窗，其中，所述光阻挡层的厚度为8μm至15μm。14.根据权利要求1所述的覆盖窗，其中，所述光阻挡层包括包含丙烯酸聚氨酯的第一层和包含环氧树脂的第二层，所述第一层的厚度为3μm至8μm，并且所述第二层的厚度为5μm至10μm。15.根据权利要求1所述的覆盖窗，其中，所述光阻挡层包括包含聚酯的第一层和包含环氧酯的第二层，所述第一层的厚度为3μm至8μm，并且
所述第二层的厚度为5μm至10μm。16.根据权利要求1所述的覆盖窗，其中，所述光阻挡层包括包含聚酯的第一层、包含聚酯的第二层和包含环氧酯的第三层，所述第一层的厚度为2μm至5μm，所述第二层的厚度为3μm至5μm，并且所述第三层的厚度为3μm至5μm。17.根据权利要求1所述的覆盖窗，其中，所述光阻挡层仅在所述窗层的部分区域中。18.根据权利要求1所述的覆盖窗，其中，所述光阻挡层在200℃至300℃的温度下具有耐热性。19.根据权利要求1所述的覆盖窗，其中，所述覆盖窗的反射率为6.5％或更小。20.一种显示装置，所述显示装置包括：根据权利要求1所述的覆盖窗；以及显示面板，与所述覆盖窗叠置。
技术总结
实施例提供了一种覆盖窗和包括该覆盖窗的显示装置，所述覆盖窗包括：窗层；低折射层，定位在窗层的一个表面上；粘合剂层，定位在低折射层上；耐磨层，定位在粘合剂层上；以及光阻挡层，定位在窗层的另一表面上，其中，粘合剂层包括SiO2和Al2O3的置换固溶体。的置换固溶体。的置换固溶体。
技术研发人员：
曺宗焕 成秀珍
受保护的技术使用者：
三星显示有限公司
技术研发日：
2022.09.05
技术公布日：
2023/3/10
