一种透镜平台面镀黑膜工艺的制作方法

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1.本发明涉及一种镀黑膜工艺，特别是涉及一种透镜平台面镀黑膜工艺，属于镀黑膜工艺技术领域。

背景技术：

2.为满足光学产品的通光要求，对于某些透镜，通常会在其平台位置涂上一层黑油墨，从而消光以达到减少反射的目的；但这种涂墨方式效果差，容易掉墨，存在漏光；还有一种方法是使用蒸镀机，镀上氧化铝(al2o3)-铬(cr)结构的膜层，这种虽然可以起到消光作用，但是反射率高，不能满足客户需求，为此设计一种透镜平台面镀黑膜工艺来解决上述问题。

技术实现要素：

3.本发明的主要目的是为了提供一种透镜平台面镀黑膜工艺，透镜平台抛光面镀黑膜前，将不需要镀黑药的部分用可剥胶涂覆保护，溢出的可剥胶处理干净，以光学镀膜工艺技术，制备g/al2o3(20nm)/黑药(500nm)膜层结构简单的产品，其消光效果大大提高，反射率低，并且涂可剥胶的面光洁度没有影响，没有脱膜，通光要求满足光学产品的设计。
4.在本实施例中，在步骤二中，由于断面s5和侧面s6需要镀黑膜，因此采用在夹具上用黄高温胶带，并在背面s1上贴胶带且在背面s1所采用的胶带为可剥离胶带，其中在背面s1贴胶带前还包括需要将透镜用酒精擦拭干净，再用棉签蘸取可剥胶进行涂覆，最后再将断面s5、侧面s6面处理干净后涂覆可剥胶，并将多余的可剥胶和脏点处理干净，避免脏东西对牢固度可能有部分影响。
5.本发明的目的可以通过采用如下技术方案达到：
6.一种透镜平台面镀黑膜工艺，包括如下步骤：
7.步骤一：选取透镜并对断面进行抛光，并对侧面倒边处理；
8.步骤二：对背面和弧面进行镀增透膜，并对断面和侧面镀黑膜；
9.步骤三：将已经粘好并检验后的透镜放入至symphony-9韩国镀膜机中，同时需要放置单抛测试片fs与双抛650一起蒸镀；
10.步骤四：镀膜结束后，需要在真空室内进行缓慢放气冷却至少30分钟，冷却结束后，将真空室门打开，把工件盘放入到百级净化台中，就得到了g/al2o3(20nm)/黑药(500nm)反射率低的透镜产品；
11.步骤五：将测试片进行脱膜实验，没有脱膜，透镜装配试样，产品也没有脱膜，并且通光要求满足光学产品的设计。
12.优选的，在步骤二中，由于断面和侧面需要镀黑膜，因此采用在夹具上用黄高温胶带，并在背面上贴胶带且在背面所采用的胶带为可剥离胶带。
13.优选的，其中在背面贴胶带前还包括需要将透镜用酒精擦拭干净，再用棉签蘸取可剥胶进行涂覆。
14.优选的，在步骤一前进行覆膜的时候对于膜料的选取采用al2o3和黑药，镀膜前通常需要进行膜料的预熔和离子源刻蚀处理。
15.优选的，在膜料预熔完成后，需要用离子源进行刻蚀。
16.优选的，在步骤二中采用的symphony-9韩国镀膜机内的真空度通过机械泵与罗茨泵组合泵形式，将真空抽到2e-05
‑‑‑
3e-05，镀膜温度使用冷镀，选用75*57方形工件盘，转速设置15转，离子源刻蚀参数180v，2a，工作气体为氩气，刻蚀时间5分钟。
17.优选的，刻蚀完成后，再次确定真空室内的真空度抽到2*10-5以上，按照膜系结构g/al2o3(20nm)/黑药(500nm)的设计，使用电子加热坩埚中的镀膜材料，使其原子或分子从表面蒸发或气化逸出，通过石英晶振膜厚监控仪实时监控镀膜厚度，al2o3和黑药蒸发速率控制在0.003nm/s左右；在第一层先镀上厚度20nm左右的al2o3，保证了膜层的牢固度，不容易脱膜；第二层再镀上500nm左右的黑药。
18.本发明的有益技术效果：
19.本发明提供的一种透镜平台面镀黑膜工艺，透镜平台抛光面镀黑膜前，将不需要镀黑药的部分用可剥胶涂覆保护，溢出的可剥胶处理干净，以光学镀膜工艺技术，制备g/al2o3(20nm)/黑药(500nm)膜层结构简单的产品，其消光效果大大提高，反射率低，并且涂可剥胶的面光洁度没有影响，没有脱膜，通光要求满足光学产品的设计。
20.在本实施例中，在步骤二中，由于断面s5和侧面s6需要镀黑膜，因此采用在夹具上用黄高温胶带，并在背面s1上贴胶带且在背面s1所采用的胶带为可剥离胶带，其中在背面s1贴胶带前还包括需要将透镜用酒精擦拭干净，再用棉签蘸取可剥胶进行涂覆，最后再将断面s5、侧面s6面处理干净后涂覆可剥胶，并将多余的可剥胶和脏点处理干净，避免脏东西对牢固度可能有部分影响。
附图说明
21.图1为按照本发明的一种透镜平台面镀黑膜工艺的一优选实施例的透镜结构示意图。
22.图中：s1-背面，s4-弧面，s5-端面，s6-侧面。
具体实施方式
23.为使本领域技术人员更加清楚和明确本发明的技术方案，下面结合实施例及附图对本发明作进一步详细的描述，但本发明的实施方式不限于此。
24.如图1所示，本实施例提供的一种透镜平台面镀黑膜工艺，包括如下步骤：
25.步骤一：选取透镜并对断面s5进行抛光，并对侧面s6倒边处理，抛光面镀膜后消光效果明显优于磨砂面；
26.步骤二：对背面s1和弧面s4进行镀增透膜，并对断面s5和侧面s6镀黑膜；
27.步骤三：将已经粘好并检验后的透镜放入至symphony-9韩国镀膜机中，同时需要放置单抛测试片fs与双抛650一起蒸镀，这是为了检验后续镀出来的产品是否符合实际设计要求；
28.步骤四：镀膜结束后，需要在真空室内进行缓慢放气冷却至少30分钟，冷却结束后，将真空室门打开，把工件盘放入到百级净化台中，就得到了g/al2o320nm/黑药(500nm)
反射率低的透镜产品；
29.步骤五：将测试片进行脱膜实验，没有脱膜，透镜装配试样，产品也没有脱膜，并且通光要求满足光学产品的设计。
30.本发明是用黑药和al2o3作为膜料，以光学镀膜工艺技术，使用symphony-9韩国镀膜机，利用蒸镀沉积工艺，得到g/al2o3(20nm)/黑药(500nm)膜层结构简单的产品，其可以做到99％的消光，并且反射率低远低于氧化铝(al2o3)+铬(cr)结构的产品。
31.透镜平台抛光面镀黑膜前，将不需要镀黑药的部分用可剥胶涂覆保护，溢出的可剥胶处理干净，以光学镀膜工艺技术，制备g/al2o3(20nm)/黑药(500nm)膜层结构简单的产品，其消光效果大大提高，反射率低，并且涂可剥胶的面光洁度没有影响，没有脱膜，通光要求满足光学产品的设计。
32.在本实施例中，在步骤二中，由于断面s5和侧面s6需要镀黑膜，因此采用在夹具上用黄高温胶带，并在背面s1上贴胶带且在背面s1所采用的胶带为可剥离胶带，其中在背面s1贴胶带前还包括需要将透镜用酒精擦拭干净，再用棉签蘸取可剥胶进行涂覆，最后再将断面s5、侧面s6面处理干净后涂覆可剥胶，并将多余的可剥胶和脏点处理干净，避免脏东西对牢固度可能有部分影响。
33.在本实施例中，在步骤一前进行覆膜的时候对于膜料的选取采用al2o3和黑药，镀膜前通常需要进行膜料的预熔和离子源刻蚀处理，膜料预熔是将膜料中的空气和杂质释放出来，确保膜料纯净无杂质，镀上去的膜层更纯，光洁度更好，一般膜料预熔的真空度在2e-03(即2*10-3pa)左右。
34.在本实施例中，在膜料预熔完成后，需要用离子源进行刻蚀，这是为了去除透镜表面微观油污和灰尘，从而提高膜层的附着力。
35.在本实施例中，在步骤二中采用的symphony-9韩国镀膜机内的真空度通过机械泵与罗茨泵组合泵形式，将真空抽到2e-05
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3e-05，镀膜温度使用冷镀，选用75*57方形工件盘，转速设置15转，离子源刻蚀参数180v，2a，工作气体为氩气，刻蚀时间5分钟。
36.在本实施例中，刻蚀完成后，再次确定真空室内的真空度抽到2*10-5以上，按照膜系结构g/al2o320nm/黑药(500nm)的设计，使用电子加热坩埚中的镀膜材料，使其原子或分子从表面蒸发或气化逸出，通过石英晶振膜厚监控仪实时监控镀膜厚度，al2o3和黑药蒸发速率控制在0.003nm/s左右；在第一层先镀上厚度20nm左右的al2o3，保证了膜层的牢固度，不容易脱膜；第二层再镀上500nm左右的黑药。
37.以上，仅为本发明进一步的实施例，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明所公开的范围内，根据本发明的技术方案及其构思加以等同替换或改变，都属于本发明的保护范围。

技术特征：

1.一种透镜平台面镀黑膜工艺，其特征在于：包括如下步骤：步骤一：选取透镜并对断面(s5)进行抛光，并对侧面(s6)倒边处理；步骤二：对背面(s1)和弧面(s4)进行镀增透膜，并对断面(s5)和侧面(s6)镀黑膜；步骤三：将已经粘好并检验后的透镜放入至symphony-9韩国镀膜机中，同时需要放置单抛测试片fs与双抛650一起蒸镀；步骤四：镀膜结束后，需要在真空室内进行缓慢放气冷却至少30分钟，冷却结束后，将真空室门打开，把工件盘放入到百级净化台中，就得到了g/al2o3(20nm)/黑药(500nm)反射率低的透镜产品；步骤五：将测试片进行脱膜实验，没有脱膜，透镜装配试样，产品也没有脱膜，并且通光要求满足光学产品的设计。2.根据权利要求1所述的一种透镜平台面镀黑膜工艺，其特征在于：在步骤二中，由于断面(s5)和侧面(s6)需要镀黑膜，因此采用在夹具上用黄高温胶带，并在背面(s1)上贴胶带且在背面(s1)所采用的胶带为可剥离胶带。3.根据权利要求2所述的一种透镜平台面镀黑膜工艺，其特征在于：其中在背面(s1)贴胶带前还包括需要将透镜用酒精擦拭干净，再用棉签蘸取可剥胶进行涂覆。4.根据权利要求3所述的一种透镜平台面镀黑膜工艺，其特征在于：在步骤一前进行覆膜的时候对于膜料的选取采用al2o3和黑药，镀膜前通常需要进行膜料的预熔和离子源刻蚀处理。5.根据权利要求4所述的一种透镜平台面镀黑膜工艺，其特征在于：在膜料预熔完成后，需要用离子源进行刻蚀。6.根据权利要求5所述的一种透镜平台面镀黑膜工艺，其特征在于：在步骤二中采用的symphony-9韩国镀膜机内的真空度通过机械泵与罗茨泵组合泵形式，将真空抽到2e-05
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3e-05，镀膜温度使用冷镀，选用75*57方形工件盘，转速设置15转，离子源刻蚀参数180v，2a，工作气体为氩气，刻蚀时间5分钟。7.根据权利要求5所述的一种透镜平台面镀黑膜工艺，其特征在于：刻蚀完成后，再次确定真空室内的真空度抽到2*10-5以上，按照膜系结构g/al2o3(20nm)/黑药(500nm)的设计，使用电子加热坩埚中的镀膜材料，使其原子或分子从表面蒸发或气化逸出，通过石英晶振膜厚监控仪实时监控镀膜厚度，al2o3和黑药蒸发速率控制在0.003nm/s左右；在第一层先镀上厚度20nm左右的al2o3，保证了膜层的牢固度，不容易脱膜；第二层再镀上500nm左右的黑药。

技术总结

本发明公开了一种透镜平台面镀黑膜工艺，属于镀黑膜工艺技术领域，透镜平台抛光面镀黑膜前，将不需要镀黑药的部分用可剥胶涂覆保护，溢出的可剥胶处理干净，以光学镀膜工艺技术，制备G/AL2O3(20nm)/黑药(500nm)膜层结构简单的产品，其消光效果大大提高，反射率低，并且涂可剥胶的面光洁度没有影响，没有脱膜，通光要求满足光学产品的设计，在本实施例中，在步骤二中，由于断面S5和侧面S6需要镀黑膜，因此采用在夹具上用黄高温胶带，并在背面S1上贴胶带且在背面S1所采用的胶带为可剥离胶带。贴胶带且在背面S1所采用的胶带为可剥离胶带。贴胶带且在背面S1所采用的胶带为可剥离胶带。