光学邻近修正方法及掩膜版与流程

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1.本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种光学邻近修正方法及掩膜版。

背景技术：

2.光刻技术是半导体制作技术中至关重要的一项技术，光刻技术能够实现将图形从掩膜版中转移到硅片上，形成符合设计要求的半导体产品。
3.在半导体制造中，随着设计尺寸的不断缩小，光的衍射效应变得越来越明显，导致最终对设计图形产生光学影像退化，实际形成的光刻图案相对于掩膜版上的图案发生严重畸变，最终导致在硅片上经过光刻形成的实际图形和设计图形不同，这种现象称为光学邻近效应(optical proximity effect，ope)。
4.为了修正光学邻近效应，便产生了光学邻近修正(opticalproximitycorrection，opc)。光学邻近修正的核心思想就是基于抵消光学邻近效应的考虑建立光学邻近修正模型，根据光学邻近修正模型设计光掩模图形，这样虽然光刻图形相对应光掩模图形会发生光学邻近效应，但由于在根据光学邻近修正模型设计光掩模图形时已经考虑了对该现象的抵消，因此，光刻后的光刻图形接近于用户实际希望得到的原始版图图形。
5.现有的光学邻近修正方法中，提供原始版图图形后，整个光学邻近修正的过程包括多个循环，每次循环对原始版图图形进行修正获得调整后的初始子图形，并计算边缘放置误差(edge placement error，epe)，通过判断边缘放置误差是否达到标准以判断修正是否完成，最终得到符合标准的修正后图形。

技术实现要素：

6.本发明解决的问题是提供一种光学邻近修正方法及掩膜版，以提高光学邻近修正的精度。
7.为解决上述问题，本发明提供一种光学邻近修正方法，所述方法包括：
8.提供原始版图图形；
9.获取所述原始版图图形的边缘轮廓；
10.将所述原始版图图形的边缘轮廓分割成多个分段；
11.以第一窗口为单位分割所述原始版图图形；
12.以所述第一窗口为窗口内区创建第二窗口；所述第二窗口包括所述第一窗口的窗口外区，所述第一窗口与所述第二窗口共中心；
13.基于所述分段的边缘放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息，对所述窗口内外区的分段的边缘放置误差执行加速迭代计算，修正所述原始版图图形，获取目标版图图形。
14.可选地，基于所述分段的边缘放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息，对所述窗口内外区的分段的边缘放置误差执行加速迭代计算，修正所述原始版图图形，获取目
标版图图形的步骤包括：
15.提供当前版图图形；初始时，所述当前版图图形为所述原始版图图形；
16.对所述当前版图图形的第一窗口进行遍历，获取遍历至的当前第一窗口和对应的第二窗口；
17.基于所述第二窗口内每个分段的修正量对所述第二窗口内所有分段的边缘放置误差的影响的信息，获取当前第一窗口内每个分段对应的目标修正量的信息；
18.将所述当前第一窗口内的分段分别偏移对应的目标修正量；
19.当确定所述当前版图图形中的第一窗口未遍历完成时，获取下一第一窗口作为当前第一窗口，并从基于所述第二窗口内每个分段的修正量对所述第二窗口内所有分段的边缘放置误差的影响的信息，获取当前第一窗口内每个分段对应的目标修正量的信息的步骤重新开始执行，直至所述多个第一窗口遍历完成，得到对应的修正版图图形；
20.当确定所述当前版图图形中的第一窗口遍历完成时，判断是否达到预设的第一迭代停止条件；
21.当确定未达到所述第一迭代停止条件时，将所述修正版图图形作为所述当前版图图形，并从对所述当前版图图形的第一窗口进行遍历，获取遍历至的当前第一窗口和对应的第二窗口的步骤重新开始执行，直至达到所述第一迭代停止条件；
22.当确定达到所述第一迭代停止条件时，将所述修正版图图形作为所述目标版图图形。
23.可选地，所述第一迭代停止条件包括迭代次数达到第一阈值。
24.可选地，所述第一阈值为2～5次。
25.可选地，获取当前第一窗口内每个分段对应的目标修正量的信息的步骤包括：
26.获取所述第二窗口内的分段的当前修正量的信息；所述第二窗口内的分段包括除上一第一窗口内的分段之外的其他分段；
27.对所述第二窗口内的分段分别施加对应的当前修正量，获取修正后的第二窗口图形；
28.获取所述修正后的第二窗口图形对应的模拟曝光图形；
29.将所述修正后的第二窗口图形与所述模拟曝光图形进行对比，获取第二窗口内的分段的边缘放置误差的信息；
30.基于所述第二窗口内的分段的当前修正量和边缘放置误差的信息，构建所述第二窗口内的分段的边缘位置干扰矩阵；
31.基于所述第二窗口内的分段的边缘放置误差信息和边缘位置干扰矩阵，计算所述第二窗口内的分段的下一修正量的信息；
32.判断是否达到预设的第二迭代停止条件；
33.当确定未达到所述第二迭代停止条件时，将所述第二窗口内的分段的下一修正量作为所述第二窗口内的分段的当前修正量，并从对所述第二窗口内的分段分别施加对应的当前修正量，获取修正后的第二窗口图形的步骤重新开始执行，直至达到所述第二迭代停止条件；
34.当确定达到所述第二迭代停止条件时，从所述第二窗口内的分段的下一修正量中获取当前第一窗口内每个分段的下一修正量的信息，作为当前第一窗口内每个分段的目标
修正量。
35.可选地，所述位置干扰矩阵包括：
36.对角元素，表示对所述第二窗口内的分段中任一分段施加相应的修正量时，所述任一边缘产生的边缘放置误差；以及，
37.非对角元素，表示对所述第二窗口内的分段中任一分段施加相应的修正量，所述第二窗口内的分段中除该任一分段以外的分段产生的边缘放置误差。
38.可选地，所述边缘位置干扰矩阵包括：
[0039][0040]
其中，t
ij
表示所述边缘位置干扰矩阵的第i行第j列的元素，表示所述第二窗口内的分段中第j个分段的当前修正量δfj对第i个分段的边缘放置误差δepei产生的影响，n表示第二窗口内分段的个数。
[0041]
可选地，计算所述第二窗口内的分段的下一修正量的信息的步骤包括：
[0042]
计算所述边缘位置干扰矩阵的逆矩阵；
[0043]
基于所述逆矩阵与所述第二窗口内分段的边缘放置误差，计算出所述第二窗口内分段的下一修正量的信息。
[0044]
可选地，在获取当前第一窗口内每个分段对应的目标修正量的信息的步骤中，在连续的至少两次迭代过程中，保持所述边缘位置干扰矩阵的逆矩阵不变，并更新所述第二窗口内分段的边缘放置误差信息。
[0045]
可选地，所述第二窗口内各个分段的下一修正量为：
[0046][0047]
其中，δepej为所述第二窗口内第j个分段的边缘放置误差，δfi为所述第二窗口内第i个分段的下一修正量。
[0048]
可选地，所述第二迭代停止条件包括迭代次数达到第二阈值。
[0049]
可选地，所述第二阈值为2～5次。
[0050]
可选地，所述第一窗口为矩形。
[0051]
可选地，所述第一窗口的尺寸为(1～3μm)*(1～3μm)。
[0052]
可选地，所述第二窗口为矩形。
[0053]
可选地，所述第二窗口的尺寸为(1～5μm)*(1～5μm)。
[0054]
相应地，本发明实施例还提供了一种掩膜版，所述掩膜版包括采用如上述任一项所述的光学邻近修正方法制作的掩膜版图形。
[0055]
与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：
[0056]
本发明实施例中提供的光学邻近修正方法，包括：提供原始版图图形；获取所述原始版图图形的边缘轮廓；将所述原始版图图形的边缘轮廓分割成多个分段；以第一窗口为单位分割所述原始版图图形；以所述第一窗口为窗口内区创建第二窗口；所述第二窗口包括所述第一窗口的窗口外区，所述第一窗口与所述第二窗口共中心；基于所述分段的边缘
放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息，对所述窗口内外区的分段的边缘放置误差执行加速迭代计算，修正所述原始版图图形，获取目标版图图形。由于基于所述分段的边缘放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息，对所述原始版图图形进行修正，即考虑到相邻分段之间的关联效应，使得最终得到的目标版图图形的边缘轮廓的分段的边缘放置误差均符合需求且具有较好的关键尺寸均匀性，使得所确定的每个分段的修正量具有较高的精度。
[0057]
进一步地，在获取当前第一窗口内每个分段对应的目标修正量的信息的步骤中，在连续的至少两次迭代过程中，保持所述边缘位置干扰矩阵的逆矩阵不变，并更新所述第二窗口内分段的边缘放置误差信息，可以节省运算时间，提高了光学邻近修正的效率。
[0058]
附图说明
[0059]
图1为根据本发明实施例中的一种光学邻近修正方法的流程示意图；
[0060]
图2为根据本发明实施例中的原始版图图形的示意图；
[0061]
图3为根据本发明实施例中的当前版图图形中设置的第一窗口的示意图；
[0062]
图4为根据本发明实施例中的基于分割得到的分段的边缘放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息，对所述原始版图图形进行修正，获取目标版图图形的步骤对应的流程示意图；
[0063]
图5为根据本发明实施例中的当前版图图形中设置的第一窗口与对应的第二窗口的示意图；
[0064]
图6为根据本发明实施例中的一种获取当前第一窗口内每个分段对应的目标修正量的流程示意图；
[0065]
图7为本发明实施例中的当前版图图形中的相邻的第一窗口与相邻的第二窗口的位置关系示意图。
具体实施方式
[0066]
由背景技术可知，现有的光学邻近修正方法存在着精度较低的问题。
[0067]
目前应用最为广泛的光学邻近修正方法是基于模型的光学邻近修正方法，其基本原理是通过建立基于特定光刻条件的曝光模型，对原始版图图形进行模拟以得到模拟误差，然后将原始版图图形按一定的规则划分为对应的多个分段，根据模拟误差对片断进行偏移补偿并重新模拟，经过数个回合的模拟和修正和得到模拟结果与目标版图一致的修正后版图。
[0068]
光学邻近修正方法的实质就是掩模优化(mask optimization，mo)。现有的光学邻近修正方法包括全局掩膜优化(global mask optimization，mo)方法和局部掩膜优化(local mask optimization，lmo)方法。
[0069]
全局掩膜优化方法通过最小化代价函数来获取分段的修正量，虽然可以使得修正后的版图图形的边缘轮廓具有较好的关键尺寸均匀性(cd uniformity)，但却可能导致某些分段的边缘放置误差不符合标准需求。
[0070]
局部掩膜优化方法则是通过最小化每个分段的边缘放置误差的绝对值来获取分
段的修正量，但可能引起修正后的版图图形的边缘轮廓产生较大的波动而导致关键尺寸均匀性较差。
[0071]
为解决上述问题，本发明实施例中的光学邻近修正方法，通过基于所述分段的边缘放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息，对所述原始版图图形进行修正，即考虑到相邻分段之间的关联效应，使得最终得到的目标版图图形的边缘轮廓的分段的边缘放置误差均符合需求且具有较好的关键尺寸均匀性，使得最终得到的目标版图图形具有较高的精度。
[0072]
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。
[0073]
图1示出了本发明实施中的一种光学邻近修正方法的流程示意图。
[0074]
参见图1，执行步骤s101，提供原始版图图形。
[0075]
所述原始版图图形为预先设定的需要在掩膜版中生成的图形，其可以根据不同的半导体工艺需求进行确定。
[0076]
所述原始版图为采用基于规则的(rule-based)目标值重设(retargeting)方法建立。
[0077]
所述原始版图图形存储于原始版图文件中。其中，原始版图文件是指利用 eda工具设计形成的包含设计图形的版图文件。通常而言，原始版图文件是通过了设计规则验证(design rule check，drc)的版图文件。
[0078]
本实施例中，所述原始版图图形的文件格式为gds格式。在其他实施例中，所述原始版图图形的文件格式还可以为oasis等其他格式。
[0079]
所述原始版图图形包括多个初始子图形。例如，请参见图2，多个初始子图形101～106分别呈长条状，且多个初始子图形101～106之间相互平行。在其他实施例中，所述初始子图形也可以其他形状，如l形等，本发明对此不做限制。
[0080]
继续参见图1，执行步骤s102，获取所述原始版图图形的边缘轮廓。
[0081]
获取所述原始版图图形的边缘轮廓，也即获取所述原始版图图形中的多个初始子图形的边缘轮廓。
[0082]
本实施例中，通过对所述原始版图图形进行解析，以获取所述原始版图图形的边缘轮廓。
[0083]
本实施例中，所述原始版图图形中的多个初始子图形为长条状，所述多个初始子图形的边缘轮廓相应为矩形。在其他实施例中，所述初始子图形的轮廓还能够为多个长方形或正方形组合成的复杂多边形，如l形等。
[0084]
继续参见图1，执行步骤s103，将所述原始版图图形的边缘轮廓分割成多个分段。
[0085]
将所述原始版图图形的边缘轮廓分割成多个分段，也即将所述原始版图图形中的初始子图形的边缘轮廓分割成多个分段。
[0086]
本实施例中，所述分割得到的每个分段长度为20nm～60nm，且每个初始分段的长度各不相同或者至少部分不同。
[0087]
继续参见图1，执行步骤s104，以第一窗口为单位分割所述原始版图图形。
[0088]
以第一窗口为单位分割所述原始版图图形，也即所述多个第一窗口将当前版图图形划分为对应的多个区域，以在后续以划分得到的第一窗口为单位对当前版图图形内的分
段进行修正。
[0089]
所述第一窗口的形状可以根据实际的需要进行设置。本实施例中，所述第一窗口为矩形。在其他实施例中，所述第一窗口还可以为多边形等。
[0090]
所述第一窗口的尺寸可以根据实际的需要进行设置。本实施例中，所述第一窗口的尺寸相应为(1～3μm)*(1～3μm)。
[0091]
参见图3，其中示出了当前版图图形中设置的一第一窗口的示意图。其中，所述第一窗口30中包括一个或多个待修正图形中的多个分段。
[0092]
继续参见图1，执行步骤s105，以所述第一窗口为窗口内区创建第二窗口；所述第二窗口包括所述第一窗口的窗口外区，所述第一窗口与所述第二窗口共中心。
[0093]
对应的第二窗口为以当前第一窗口为基准进行确立。本实施例中，对应的第二窗口以当前第一窗口为中心确立。换言之，所述第一窗口与对应的第二窗口的中心相重叠，所述第一窗口占据了所述第二窗口的内区，且所述第二窗口包括所述第一窗口和所述第一窗口的外区，即将所述第一窗口作为所述第二窗口的窗口内区，将所述第二窗口内除所述第一窗口之外的部分作为窗口外区。
[0094]
继续参见图1，执行步骤s106，基于所述分段的边缘放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息，对所述窗口内外区的分段的边缘放置误差执行加速迭代计算，修正所述原始版图图形，获取目标版图图形。
[0095]
所述目标版图图形是指为了满足功能及生产需求而期望得到的曝光图形。
[0096]
基于分割得到的分段的边缘放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息，对所述原始版图图形执行一次或多次的光学邻近修正，以获取所述目标版图图形，具体请参见图4。
[0097]
参见图4，一种基于所述分段的边缘放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息，对所述窗口内外区的分段的边缘放置误差执行加速迭代计算，修正所述原始版图图形，获取目标版图图形的步骤具体可以包括：
[0098]
执行步骤s401，提供当前版图图形。
[0099]
所述当前版图图形为所述原始版图图形或者上一次迭代得到的修正版图图形。具体地，在执行第一次迭代时，所述当前版图图形为所述原始版图图形；在执行第二次迭代至第n(n为大于或等于2的整数)次迭代时，所述当前版图图形为上一次迭代得到的修正版图图形。
[0100]
执行步骤s402，对所述当前版图图形的第一窗口进行遍历，获取遍历至的当前第一窗口和对应的第二窗口。
[0101]
在具体实施中，可以按照预设的扫描顺序对所述当前版图图形中的多个第一窗口进行遍历。
[0102]
本实施例中，按照从左至右、从上至下的顺序对所述当前版图图形中的多个第一窗口进行遍历。在其他实施例中，还可以按照从上至下、从左至右的顺序或者从中间往四周的顺序对所述当前版图图形中的多个第一窗口进行遍历，在此不做限制。
[0103]
请参见图5，其中示出了一第一窗口及对应的第二窗口的示意图。其中，虚线框40表示第一窗口，虚线框50表示第一窗口40对应的第二窗口。第一窗口40与对应的第二窗口50的中心相重叠，且所述第一窗口40占据了对应的第二窗口50的中心区域。如此设置，使得
第二窗口50不仅包括与第一窗口40 中心区域的分段具有近邻效应的分段，也将与第一窗口40边缘区域的分段具有近邻效应的分段也囊括在内。
[0104]
所述第二窗口不宜过大也不宜过小。当所述第二窗口过大时，其中将包括很多对相应的第一窗口内的分段不具有近邻效应的分段，对后续获取当前第一窗口内的目标修正量无益，且会显著增加计算量；当所述第二窗口过小时，会将对与第一窗口内位于边缘的分段具有近邻效应的分段排除在外，导致后续所获取的第一窗口内分段的目标修正量的精度较低。因此，本实施例中，所述第二窗口的尺寸为(1～5μm)*(1～5μm)。
[0105]
执行步骤s403，基于所述第二窗口内每个分段的修正量对所述第二窗口内所有分段的边缘放置误差的影响的信息，获取当前第一窗口内每个分段对应的目标修正量的信息。
[0106]
在获取第一窗口内每个分段对应的目标修正量的信息时，将当前第一窗口扩展至以当前第一窗口为中心区域的第二窗口，对于当前第一窗口内的分段而言，不仅考虑了第一窗口的中心区域的分段的近邻关联效应，同时也将第一窗口边缘的分段的近邻关联效应考虑在内，从而使得所获取的当前第一窗口内每个分段对应的目标修正量更加准确。
[0107]
本实施例中，获取当前第一窗口内每个分段对应的目标修正量的信息的步骤，包括迭代过程，具体请参见图6。
[0108]
继续参见图4，执行步骤s404，将所述当前第一窗口内的分段分别偏移对应的目标修正量。
[0109]
在具体实施中，当获取当前第一窗口内的分段对应的目标修正量时，按照每个分段的目标修正量的信息，将当前第一窗口内的分段分别偏移对应的目标修正量。
[0110]
具体地，当所获取的目标修正量为正值时，将对应的分段向外侧移动所述目标修正量对应的距离；当获取的目标修正量为负值时，则将对应的分段向外侧移动所述目标修正量的绝对值对应的距离。
[0111]
执行步骤s405，判断第一窗口是否遍历完成；当判断结果为否时，可以执行步骤s406；反之，则可以执行步骤s407。
[0112]
执行步骤s406，获取下一第一窗口作为当前第一窗口。
[0113]
当确定当前版图图形中的所有第一窗口未遍历完成时，将下一第一窗口作为当前第一窗口，并从步骤s403，基于所述第二窗口内每个分段的修正量对所述第二窗口内所有分段的边缘放置误差的影响的信息，获取当前第一窗口内每个分段对应的目标修正量的信息重新开始执行，直至当前版图图形中的多个第一窗口遍历完成，得到对应的修正版图图形。
[0114]
执行步骤s407，判断是否达到预设的第一迭代停止条件；当判断结果为否时，可以执行步骤s408；反之，则可以执行步骤s409。
[0115]
本实施例中，所述第一迭代停止条件为迭代次数达到预设的第一阈值。
[0116]
所述第一阈值可以根据实际的工艺需要进行设置。例如，所述第一阈值可以设置为2～5次等。
[0117]
执行步骤s408，将所述对应的修正版图图形作为所述当前版图图形。
[0118]
当确定未达到所述第一迭代停止条件时，将当前次迭代得到的修正版图图形作为所述当前版图图形，并从步骤s402，对所述当前版图图形的第一窗口进行遍历，获取遍历至
的当前第一窗口和对应的第二窗口重新开始执行，直至达到预设的第一迭代停止条件时止。
[0119]
执行步骤s409，将所述对应的修正版图图形作为所述目标版图图形。
[0120]
当确定达到所述第一迭代停止条件时，将执行当前次迭代得到的对应的修正版图图形作为最终的目标版图图形输出。
[0121]
图6示出了本发明实施例中的基于所述第二窗口内每个分段的修正量对所述第二窗口内所有分段的边缘放置误差的影响的信息，获取当前第一窗口内每个分段对应的目标修正量的信息的流程示意图。
[0122]
请参见图6，一种获取当前第一窗口内每个分段对应的目标修正量的步骤包括迭代过程，具体可以包括：
[0123]
执行步骤s601，获取所述第二窗口内分段的当前修正量的信息。
[0124]
初始时，也即当执行第一次子迭代时，所述第二窗口内的分段的当前修正量均为预设的单位距离修正量；当执行第m(m为大于或等于2的整数)次迭代时，所述第二窗口内的分段的当前修正量为执行上一次迭代得到的目标修正量。其中，所述单位距离修正量可以根据实际的需要或先验经验设置，在此不做限定。
[0125]
本实施例中，获取所述第二窗口内分段的当前修正量的信息，为获取所述第二窗口图形中除上一第一窗口内的分段之外的其他分段的当前修正量的信息。换言之，在得到对应的修正版图图形的一次迭代过程中，当获取到一第一窗口内分段的目标修正量信息并将该第一窗口内的分段分别偏移对应的目标修正量时，在后续获取其他第一窗口内分段的目标修正量信息的迭代过程中，该第一窗口内的分段的位置将保持不变。
[0126]
例如，请参见图7，对于相邻的第一窗口701和第一窗口702而言，相应的第二窗口701’和第二窗口702’具有重叠部分，第二窗口702’不仅包括第一窗口702，还包括第一窗口701。在得到对应的修正版图图形的一次迭代过程中，当先获取到第一窗口701内的分段的目标修正量并将第一窗口701内的分段分别偏移对应的目标修正量之后，在后续获取第一窗口702内的分段的目标修正量的迭代过程中，第一窗口701内的分段的位置将保持不变。
[0127]
执行步骤s602，对所述第二窗口内的分段分别施加对应的当前修正量，获取修正后的第二窗口图形。
[0128]
当获取到第二窗口内的分段的当前修正量信息，将所述第二窗口内的分段分别偏移对应的当前修正量，从而形成所述修正后的第二窗口图形。
[0129]
本实施例中，对所述第二窗口内的分段分别施加对应的当前修正量，相应为对所述第二窗口内除上一第一窗口内的分段之外的其他分段分别施加对应的当前修正量。
[0130]
执行步骤s603，获取所述修正后的第二窗口图形对应的模拟曝光图形。
[0131]
所述模拟曝光图形用于模拟所修正后的第二窗口图形经过光刻工艺后在晶圆上形成的图形。
[0132]
本实施例中，所述原始版图图形单元中的初始子图形的形状为矩形，所述模拟曝光图形中的对应图形的形状相应为椭圆形。
[0133]
执行步骤s604，将所述修正后的第二窗口图形与所述模拟曝光图形进行对比，获取第二窗口内的分段的边缘放置误差的信息。
[0134]
本实施例中，所述第二窗口图形内分段的边缘放置误差可以采用如下的公式计算
得到：
[0135]
δepei＝d
i-wi(1)
[0136]
其中，δepei表示所述第二窗口内第i个分段的边缘放置误差，di表示所述第二窗口内第i个分段的位置，wi表示所述第二窗口内第i个分段在所述模拟曝光图形上的位置。
[0137]
执行步骤s605，基于第二窗口图形内的分段的当前修正量和边缘放置误差的信息，构建所述第二窗口内的分段的边缘位置干扰矩阵。
[0138]
本实施例中，所述第二窗口内的分段的边缘位置干扰矩阵包括所述第二窗口内每个分段的修正量对所述第二窗口内所有分段的边缘放置误差的影响的信息。
[0139]
具体地，在所述位置干扰矩阵中，对角元素表示对所述第二窗口内分段中的任一分段施加相应的修正量时，该任一分段产生的边缘放置误差；非对角元素，表示对所述第二窗口内分段中的任一分段施加相应的修正量，所述第一窗口内所有分段中除该任一分段以外的其他分段产生的边缘放置误差。
[0140]
由此可知，在所述位置干扰矩阵中，不但包括对所述任一分段进行当前修正量的修正时，对其自身的边缘放置误差所产生的影响，还包括对所有其他分段的边缘放置误差产生的影响。
[0141]
所述位置干扰矩阵考虑到分段邻域内所有分段之间的近邻(关联)效应，由此确定出的每个分段的修正量都是微小移动，具有较高的精度，有利于使原始版图图形的修正以及后续的opc迭代过程可以快速收敛。
[0142]
具体地，所述第二窗口内包括n个分段，则对应的位置干扰矩阵可以表示为：
[0143][0144]
其中，t
ij
表示所述边缘位置干扰矩阵的第i行第j列的元素，表示所述第二窗口内的分段中第j个分段的当前修正量δfj对第i个分段的边j缘放置误差δepei产生的影响，n表示第二窗口图形内分段的个数。
[0145]
执行步骤s606，基于所述第二窗口内的分段的边缘放置误差信息和边缘位置干扰矩阵，计算所述第二窗口图形内的分段的下一修正量的信息。
[0146]
通过对所述第二窗口内的分段施加对应的当前修正量，并获取所述第二窗口内的分段的边缘放置误差信息和边缘位置干扰矩阵时，可以基于所述第二窗口内的分段的边缘放置误差信息和边缘位置干扰矩阵，计算所述第二窗口图形内的分段的下一修正量的信息。
[0147]
具体地，所获取的所述第二窗口内的分段的边缘放置误差信息、边缘位置干扰矩阵及所述第二窗口图形内的分段的下一修正量之间满足如下关系：
[0148][0149]
根据上述的公式(3)，计算所述第二窗口内的分段的下一修正量的步骤包括：计算所述边缘位置干扰矩阵的逆矩阵；基于所述逆矩阵与所述第二窗口内分段的边缘放置误差，计算出所述第二窗口内分段的下一修正量的信息。
[0150]
具体地，所述第二窗口内分段的下一修正量可以采用如下的公式计算获取：
[0151][0152]
其中，δepej为所述第二窗口内第j个分段的边缘放置误差，δfi为所述第二窗口内第i个分段的下一修正量。
[0153]
执行步骤s607，判断是否达到预设的第二迭代停止条件；当判断结果为否时，可以执行步骤s608；反之，则可以执行步骤s609。
[0154]
本实施例中，所述第二迭代停止条件包括迭代次数达到第二阈值。其中，所述第二阈值为2～5次。
[0155]
执行步骤s608，将所述第二窗口图形内的分段的下一修正量作为所述第二窗口图形内的分段的当前修正量。
[0156]
当确定未达到预设的第二迭代停止条件时，将所述第二窗口图形内的分段的下一修正量作为所述第二窗口图形内的分段的当前修正量，并从步骤s601 重新开始执行，直至达到所述第二迭代停止条件。
[0157]
执行步骤s609，从所述第二窗口图形内的分段的下一修正量中获取当前第一窗口内每个分段的下一修正量的信息，作为当前第一窗口内每个分段的目标修正量。
[0158]
当确定达到所述第二迭代停止条件时，从所述第二窗口内的分段的下一修正量中获取当前第一窗口内每个分段的下一修正量的信息，作为当前第一窗口内每个分段的目标修正量。
[0159]
本实施例中，在上述所示的获取当前第一窗口内每个分段对应的目标修正量的信息的步骤中，在连续的至少两次迭代过程中，保持所述边缘位置干扰矩阵的逆矩阵不变，并更新所述第二窗口内分段的边缘放置误差信息，以节约计算量，加快计算速度。
[0160]
通过上述的步骤s601至步骤s609的描述可知，在计算每个第一窗口内的每个分段的目标修正量时，将第一窗口扩展为对应的第二窗口，使得所述第二窗口内不仅包括与第一窗口的中心区域的分段具有的近邻关联效应的分段，还将与第一窗口的边缘区域的分段
具有的近邻关联效应的分段也囊括在内，可以提高所获取的第一窗口内的所有分段的目标修正量的精度。
[0161]
相应地，本发明实施例还提供了一种掩膜版，所述掩膜版包括采用所述的光学邻近修正方法制作的掩膜版图形。其中，所述光学邻近修正方法请参见前述部分的相应介绍，不再赘述。
[0162]
所述掩膜版用于作为掩膜对晶圆上的光刻胶进行曝光，以形成晶圆上各芯片区域的光刻胶图形，以所述光刻胶图形能够对晶圆的芯片区域进行刻蚀，用于在晶圆的芯片区域形成栅极、金属互连线或导电插塞等半导体结构。
[0163]
由前述的实施例可知，采用前述实施例的获取的目标版图图形，基于所述分段的边缘放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息，对所述原始版图图形进行修正，即考虑到相邻分段之间的关联效应，使得最终得到的目标版图图形的边缘轮廓的分段的边缘放置误差均符合需求且具有较好的关键尺寸均匀性，使得所确定的每个分段的修正量具有较高的精度，相应提高图形转移的精度。
[0164]
虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

技术特征：

1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括：提供原始版图图形；获取所述原始版图图形的边缘轮廓；将所述原始版图图形的边缘轮廓分割成多个分段；以第一窗口为单位分割所述原始版图图形；以所述第一窗口为窗口内区创建第二窗口；所述第二窗口包括所述第一窗口的窗口外区，所述第一窗口与所述第二窗口共中心；基于所述分段的边缘放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息，对所述窗口内外区的分段的边缘放置误差执行加速迭代计算，修正所述原始版图图形，获取目标版图图形。2.根据权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于，基于所述分段的边缘放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息，对所述窗口内外区的分段的边缘放置误差执行加速迭代计算，修正所述原始版图图形，获取目标版图图形的步骤包括：提供当前版图图形；初始时，所述当前版图图形为所述原始版图图形；对所述当前版图图形的第一窗口进行遍历，获取遍历至的当前第一窗口和对应的第二窗口；基于所述第二窗口内每个分段的修正量对所述第二窗口内所有分段的边缘放置误差的影响的信息，获取当前第一窗口内每个分段对应的目标修正量的信息；将所述当前第一窗口内的分段分别偏移对应的目标修正量；当确定所述当前版图图形中的第一窗口未遍历完成时，获取下一第一窗口作为当前第一窗口，并从基于所述第二窗口内每个分段的修正量对所述第二窗口内所有分段的边缘放置误差的影响的信息，获取当前第一窗口内每个分段对应的目标修正量的信息的步骤重新开始执行，直至所述多个第一窗口遍历完成，得到对应的修正版图图形；当确定所述当前版图图形中的第一窗口遍历完成时，判断是否达到预设的第一迭代停止条件；当确定未达到所述第一迭代停止条件时，将所述修正版图图形作为所述当前版图图形，并从对所述当前版图图形的第一窗口进行遍历，获取遍历至的当前第一窗口和对应的第二窗口的步骤重新开始执行，直至达到所述第一迭代停止条件；当确定达到所述第一迭代停止条件时，将所述修正版图图形作为所述目标版图图形。3.根据权利要求2所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述第一迭代停止条件包括迭代次数达到第一阈值。4.根据权利要求3所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述第一阈值为2～5次。5.根据权利要求2所述的光学邻近修正方法，其特征在于，获取当前第一窗口内每个分段对应的目标修正量的信息的步骤包括：获取所述第二窗口内的分段的当前修正量的信息；所述第二窗口内的分段包括除上一第一窗口内的分段之外的其他分段；对所述第二窗口内的分段分别施加对应的当前修正量，获取修正后的第二窗口图形；获取所述修正后的第二窗口图形对应的模拟曝光图形；将所述修正后的第二窗口图形与所述模拟曝光图形进行对比，获取第二窗口内的分段的边缘放置误差的信息；
基于所述第二窗口内的分段的当前修正量和边缘放置误差的信息，构建所述第二窗口内的分段的边缘位置干扰矩阵；基于所述第二窗口内的分段的边缘放置误差信息和边缘位置干扰矩阵，计算所述第二窗口内的分段的下一修正量的信息；判断是否达到预设的第二迭代停止条件；当确定未达到所述第二迭代停止条件时，将所述第二窗口内的分段的下一修正量作为所述第二窗口内的分段的当前修正量，并从对所述第二窗口内的分段分别施加对应的当前修正量，获取修正后的第二窗口图形的步骤重新开始执行，直至达到所述第二迭代停止条件；当确定达到所述第二迭代停止条件时，从所述第二窗口内的分段的下一修正量中获取当前第一窗口内每个分段的下一修正量的信息，作为当前第一窗口内每个分段的目标修正量。6.根据权利要求5所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述位置干扰矩阵包括：对角元素，表示对所述第二窗口内的分段中任一分段施加相应的修正量时，所述任一边缘产生的边缘放置误差；以及，非对角元素，表示对所述第二窗口内的分段中任一分段施加相应的修正量，所述第二窗口内的分段中除该任一分段以外的分段产生的边缘放置误差。7.根据权利要求5所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述边缘位置干扰矩阵包括：其中，t
ij
表示所述边缘位置干扰矩阵的第i行第j列的元素，表示所述第二窗口内的分段中第j个分段的当前修正量δf
j
对第i个分段的边缘放置误差δepe
i
产生的影响，n表示第二窗口内分段的个数。8.根据权利要求7所述的光学邻近修正方法，其特征在于，计算所述第二窗口内的分段的下一修正量的信息的步骤包括：计算所述边缘位置干扰矩阵的逆矩阵；基于所述逆矩阵与所述第二窗口内分段的边缘放置误差，计算出所述第二窗口内分段的下一修正量的信息。9.根据权利要求8所述的光学邻近修正方法，其特征在于，在获取当前第一窗口内每个分段对应的目标修正量的信息的步骤中，在连续的至少两次迭代过程中，保持所述边缘位置干扰矩阵的逆矩阵不变，并更新所述第二窗口内分段的边缘放置误差信息。10.根据权利要求8所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述第二窗口内各个分段的下一修正量为：其中，δepe
j
为所述第二窗口内第j个分段的边缘放置误差，δf
i
为所述第二窗口内第i
个分段的下一修正量。11.根据权利要求5所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述第二迭代停止条件包括迭代次数达到第二阈值。12.根据权利要求11所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述第二阈值为2～5次。13.根据权利要求2所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述第一窗口为矩形。14.根据权利要求13所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述第一窗口的尺寸为(1～3μm)*(1～3μm)。15.根据权利要求2所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述第二窗口为矩形。16.根据权利要求15所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述第二窗口的尺寸为(1～5μm)*(1～5μm)。17.一种掩膜版，其特征在于，包括采用如权利要求1-16任一项所述的光学邻近修正方法制作的掩膜版图形。

技术总结

光学邻近修正方法及掩膜版，方法包括：提供原始版图图形；获取原始版图图形的边缘轮廓；将原始版图图形的边缘轮廓分割成多个分段；以第一窗口为单位分割原始版图图形；以第一窗口为窗口内区创建第二窗口；第二窗口包括第一窗口的窗口外区，第一窗口与第二窗口共中心；基于分段的边缘放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息，对窗口内外区的分段的边缘放置误差执行加速迭代计算，修正原始版图图形，获取目标版图图形。因在修正原始版图图形时，基于分段的边缘放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息进行，即考虑到相邻分段之间的关联效应，使得所确定的每个分段的修正量具有较高的精度。高的精度。高的精度。