光刻法[发明专利]

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船用防爆离心风机专利名称：光刻法

专利类型：发明专利

发明人：梁辅杰，许林弘，陈俊光，高蔡胜，林本坚申请号：CN200710005302.8

申请日：20070214

公开号：CN101086626A

公开日：

20071212

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明提供一种光刻法，以图案化位于一基板上的多个区域。所述光刻法包括利用一辐射束沿着一第一方向扫描一第一区域；然后步进至邻接于所述第一区域的一第二区域，且当所述第一区域和所述第二区域两者沿所述第一方向观看时，所述第二区域位于所述第一区域之后；然后利用所述辐射束沿着所述第一方向扫描所述第二区域。通过本发明中所给出的扫描方向以及步进动作中的步进移动值，可以降低或大体上消除在浸润式光刻法处理期间的污染。

申请人：台湾积体电路制造股份有限公司

地址：新竹市

国籍：CN

amadori>电子离合器

穿孔管代理机构：隆天国际知识产权代理有限公司

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代理人：陈晨柜台制作

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本文发布于:2023-05-15 00:43:06，感谢您对本站的认可！

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