一种覆铜板光刻用UV固化PCB干膜的制备方法与流程

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一种覆铜板光刻用uv固化pcb干膜的制备方法
技术领域
1.本发明属于感光材料技术领域，涉及感光干膜的制备，尤其涉及一种覆铜板光刻用uv固化pcb干膜的制备方法。

背景技术：

2.感光干膜为杜邦公司1968年开发，自此在图形转移上得到广泛应用，感光干膜已成为现代电子领域、特别是印刷电路板领域的重要材料。近年来，随着电子设备的小型化、轻薄化，市场对线路板的要求越来越高，如何实现极窄线宽线距成为各大线路板厂商的终极目标，而感光干膜是实现这一目标的核心电子材料。
3.由于后段客户需要曝光将底片的线路转移至线路板上，因此现有的感光光膜的制备都是将丙烯酸树脂低聚物加上光引发剂、活性丙烯酸树脂以及其他助剂，加上大量的溶剂，利用烘箱将溶剂烘干成膜的方式，收卷制备。
4.现有的感光光膜的制备需要消耗大量的有机溶剂，烘箱的热量，导致生产产生大量的voc气体产生，不利于环境的保护。

技术实现要素：

5.本发明为了解决上述问题，提供了一种覆铜板光刻用uv固化pcb干膜的制备方法，涂布使用的树脂固含量在100％，本发明的固化方式为uv固化，在生产的过程中，不会有voc气体的排放，达到环保、经济、高效的生产方式。
6.为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案：
7.一种覆铜板光刻用uv固化pcb干膜的制备方法，包括以下步骤：
8.1)丙烯酸树脂低聚物的合成：将羟基丙烯酸酯单体、丙烯酸酯单体、引发剂与相对分子质量控制剂的混合物加入容器中，水浴条件下反应一段时间后降温反应，得到丙烯酸树脂低聚物；
9.2)感光树脂胶液的制备：将步骤1)得到的丙烯酸树脂低聚物、光反应单体组合物、第一光引发剂、第二光引发剂与助剂加入容器中，混合均匀，得到感光树脂胶液；
10.3)感光干膜的制备：将步骤2)得到的感光树脂胶液涂布于pet上，在273nm的光下照射，收卷，得到pcb感光干膜。
11.在本发明中，本发明将丙烯酸树脂低聚物，不同能量下反应的光反应单体，低能量光引发剂，高能量光引发剂与助剂制成感光树脂胶液，涂布在pet上，采用uv固化的涂布工艺取代现有的热固化涂布工艺，先经过低能量uv照射固化，得到pcb干膜，客户在经过高能量uv照射后，将所需要的底片图案转移到pcb板材上。
12.本发明的方法在生产的过程中，不会有voc气体的排放，环保、经济、高效。
13.作为本发明的一种优选方案，步骤1)中，按重量份数计，所述羟基丙烯酸酯单体，丙烯酸酯单体，引发剂，相对分子质量控制剂依次为：羟基丙烯酸酯单体10-15份，丙烯酸酯单体8-15份，引发剂0.05-0.2份与相对分子质量控制剂1-1.5份。
14.作为本发明的一种优选方案，所述引发剂为偶氮二异，所述相对分子质量控制剂为十二硫醇。
15.作为本发明的一种优选方案，步骤1)中，先在78-82℃的条件下反应35-45min，然后降温至65-75℃，反应90-150min。
16.作为本发明的一种优选方案，步骤2)中，所述光反应单体组合物为质量比4-6:2-4:1-3的eoeoea、iboa与la的组合物。
17.作为本发明的一种优选方案，步骤2)中，第一光引发剂为uv1173，第二光引发剂为uv819。
18.作为本发明的一种优选方案，步骤2)中，按重量份数计，丙烯酸树脂低聚物、光反应单体组合物、第一光引发剂、第二光引发剂与助剂依次为：丙烯酸树脂低聚物75-85份、光反应单体组合物15-25份、第一光引发剂0.1-0.8份、第二光引发剂0.1-0.5份与助剂0.8-1.2份。
19.作为本发明的一种优选方案，步骤2)中，所述助剂为流平剂、op粉与ps粉的组合物。
20.与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：
21.1)本发明的制备方法步骤简单，制得的pcb干膜性能好；
22.2)本发明的制备方法采用uv固化方式，不耗费大量有机溶剂，不需要烘箱的热量，不会有voc气体的排放，经济环保。
具体实施方式
23.下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
24.本发明中所用的原料，均可从市场购得。
25.实施例1
26.本实施例提供了覆铜板光刻用uv固化pcb干膜的制备方法，包括：
27.1)丙烯酸树脂低聚物的合成：
28.在装有搅拌器、冷凝管、恒压漏斗、通氮气管的四口烧瓶中，加入羟基丙烯酸酯单体、丙烯酸酯单体、引发剂、相对分子质量控制剂的混合物。首先，在室温下，将10g甲基丙烯酸甲酯、13g丙烯酸羟丙酯、3g甲基丙烯酸、0.1g偶氮二异、1.1g十二硫醇在烧杯中混合，形成透明溶液。其次，在恒温水浴锅温度为80℃条件下反应40min，最后降低温度至70℃反应2h。调节羟基丙烯酸酯单体和丙烯酸酯单体的物质的量比以及引发剂、相对分子质量控制剂的质量，得到相对分子质量不同的羟基丙烯酸酯树脂。
29.2)感光树脂胶液的制备：
30.称取80g丙烯酸树脂低聚物，按照质量比eoeoea：iboa：la＝5:3:2，总计称取20g的光反应单体组合物，称取0.5g的光引发剂1173，0.2g的光引发剂819，1g的流平剂6501，0.05g的op粉，0.05g的ps粉，倒在四口烧瓶中，混合搅拌均匀，得到感光树脂胶液。
31.3)感光干膜的制备：
32.将步骤2)得到的感光树脂胶液，涂布在pet上面，用滤光片，选择273nm以下的光的波长，照射。照射的时间确定：用41阶能量尺曝光，在最佳显影速度下显影，选定光阶为20格的曝光能量，为最佳曝光能量；测试胶膜的凝胶率，在30％左右，收卷，得到pcb干膜。
33.实施例2
34.本实施例提供了覆铜板光刻用uv固化pcb干膜的制备方法，包括：
35.1)丙烯酸树脂低聚物的合成：
36.在装有搅拌器、冷凝管、恒压漏斗、通氮气管的四口烧瓶中，加入羟基丙烯酸酯单体、丙烯酸酯单体、引发剂、相对分子质量控制剂的混合物。首先，在室温下，将11g甲基丙烯酸甲酯、10g丙烯酸羟丙酯、2g甲基丙烯酸、0.05g偶氮二异、1.5g十二硫醇在烧杯中混合，形成透明溶液。其次，在恒温水浴锅温度为78℃条件下反应35min，最后降低温度至65℃反应2.5h。调节羟基丙烯酸酯单体和丙烯酸酯单体的物质的量比以及引发剂、相对分子质量控制剂的质量，得到相对分子质量不同的羟基丙烯酸酯树脂。
37.2)感光树脂胶液的制备：
38.称取75g丙烯酸树脂低聚物，按照质量比eoeoea：iboa：la＝4:2:1，总计称取15g的光反应单体组合物，称取0.1g的光引发剂1173、0.5g的光引发剂819，0.65g的流平剂6501，0.08g的op粉，0.07g的ps粉，倒在四口烧瓶中，混合搅拌均匀，得到感光树脂胶液。
39.3)感光干膜的制备：
40.将步骤2)得到的感光树脂胶液，涂布在pet上面，用滤光片，选择273nm以下的光的波长，照射。照射的时间确定：用41阶能量尺曝光，在最佳显影速度下显影，选定光阶为20格的曝光能量，为最佳曝光能量；测试胶膜的凝胶率，在30％左右，收卷，得到pcb干膜。
41.实施例3
42.本实施例提供了覆铜板光刻用uv固化pcb干膜的制备方法，包括：
43.1)丙烯酸树脂低聚物的合成：
44.在装有搅拌器、冷凝管、恒压漏斗、通氮气管的四口烧瓶中，加入羟基丙烯酸酯单体、丙烯酸酯单体、引发剂、相对分子质量控制剂的混合物。首先，在室温下，将10g甲基丙烯酸甲酯、15g丙烯酸羟丙酯、4g甲基丙烯酸、0.2g偶氮二异、1g十二硫醇在烧杯中混合，形成透明溶液。其次，在恒温水浴锅温度为82℃条件下反应45min，最后降低温度至75℃反应1.5h。调节羟基丙烯酸酯单体和丙烯酸酯单体的物质的量比以及引发剂、相对分子质量控制剂的质量，得到相对分子质量不同的羟基丙烯酸酯树脂。
45.2)感光树脂胶液的制备：
46.称取80g丙烯酸树脂低聚物，按照质量比eoeoea：iboa：la＝6:4:3，总计称取25g的光反应单体组合物，称取0.8g的光引发剂1173、0.1g的光引发剂819，1.07g的流平剂6501，0.08g的op粉，0.07g的ps粉，倒在四口烧瓶中，混合搅拌均匀，得到感光树脂胶液。
47.3)感光干膜的制备：
48.将步骤2)得到的感光树脂胶液，涂布在pet上面，用滤光片，选择273nm以下的光的波长，照射。照射的时间确定：用41阶能量尺曝光，在最佳显影速度下显影，选定光阶为20格的曝光能量，为最佳曝光能量；测试胶膜的凝胶率，在30％左右，收卷，得到pcb干膜。
49.以上所述，仅为本发明的较佳实施例，并非对本发明任何形式上和实质上的限制，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明方法的前提下，还将可以做出
若干改进和补充，这些改进和补充也应视为本发明的保护范围。凡熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，当可利用以上所揭示的技术内容而做出的些许更动、修饰与演变的等同变化，均为本发明的等效实施例；同时，凡依据本发明的实质技术对上述实施例所作的任何等同变化的更动、修饰与演变，均仍属于本发明的技术方案的范围内。

技术特征：

1.一种覆铜板光刻用uv固化pcb干膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1)丙烯酸树脂低聚物的合成：将羟基丙烯酸酯单体、丙烯酸酯单体、引发剂与相对分子质量控制剂的混合物加入容器中，水浴条件下反应一段时间后降温反应，得到丙烯酸树脂低聚物；2)感光树脂胶液的制备：将步骤1)得到的丙烯酸树脂低聚物、光反应单体组合物、第一光引发剂、第二光引发剂与助剂加入容器中，混合均匀，得到感光树脂胶液；3)感光干膜的制备：将步骤2)得到的感光树脂胶液涂布于pet上，在273nm的光下照射，收卷，得到pcb感光干膜。2.根据权利要求1所述的一种覆铜板光刻用uv固化pcb干膜的制备方法，其特征在于，步骤1)中，按重量份数计，所述羟基丙烯酸酯单体，丙烯酸酯单体，引发剂，相对分子质量控制剂依次为：羟基丙烯酸酯单体10-15份，丙烯酸酯单体8-15份，引发剂0.05-0.2份与相对分子质量控制剂1-1.5份。3.根据权利要求1或2所述的一种覆铜板光刻用uv固化pcb干膜的制备方法，其特征在于，所述引发剂为偶氮二异，所述相对分子质量控制剂为十二硫醇。4.根据权利要求1所述的一种覆铜板光刻用uv固化pcb干膜的制备方法，其特征在于，步骤1)中，先在78-82℃的条件下反应35-45min，然后降温至65-75℃，反应90-150min。5.根据权利要求1所述的一种覆铜板光刻用uv固化pcb干膜的制备方法，其特征在于，步骤2)中，所述光反应单体组合物为质量比4-6:2-4:1-3的eoeoea、iboa与la的组合物。6.根据权利要求1所述的一种覆铜板光刻用uv固化pcb干膜的制备方法，其特征在于，步骤2)中，第一光引发剂为uv1173，第二光引发剂为uv819。7.根据权利要求1所述的一种覆铜板光刻用uv固化pcb干膜的制备方法，其特征在于，步骤2)中，按重量份数计，丙烯酸树脂低聚物、光反应单体组合物、第一光引发剂、第二光引发剂与助剂依次为：丙烯酸树脂低聚物75-85份、光反应单体组合物15-25份、第一光引发剂0.1-0.8份、第二光引发剂0.1-0.5份与助剂0.8-1.2份。8.根据权利要求1所述的一种覆铜板光刻用uv固化pcb干膜的制备方法，其特征在于，步骤2)中，所述助剂为流平剂、op粉与ps粉的组合物。

技术总结

本发明公开了一种覆铜板光刻用UV固化PCB干膜的制备方法，包括丙烯酸树脂低聚物的合成；感光树脂胶液的制备；感光干膜的制备。本发明将丙烯酸树脂低聚物，不同能量下反应的光反应单体，低能量光引发剂，高能量光引发剂与助剂制成感光树脂胶液，涂布在PET上，采用UV固化的涂布工艺取代现有的热固化涂布工艺，先经过低能量UV照射固化，得到PCB干膜，客户在经过高能量UV照射后，将所需要的底片图案转移到PCB板材上，本发明的方法在生产的过程中，不会有VOC气体的排放，环保、经济、高效。高效。