一种硅片清洗方法[发明专利]

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专利名称:一种硅片清洗方法专利类型:发明专利
发明人:聂金根
申请号:CN200910035260.1申请日:20090923
公开号:CN101695696A
公开日:
20100421
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明涉及硅片加工方法,特别涉及硅片清洗方法;一种硅片清洗的方法,其特征在于如下步骤:将硅片放入煤油浸泡;将硅片放入氢氧化钠溶液超声洗,超声,将硅片放入BS-1溶液超声洗,将硅片放入无水乙醇脱水,脱水后硅片放入烘箱烘;本发明有效地去除附着在硅片上的残留研磨砂和杂质,确保硅片表面清洁度,不需要有相当大的清洗装置和大量的清洗液,消耗大量的电力以及花费许多时间,该方法可以有效的节约空间、节约成本、节约能源、节约时间及良好的清洗效果。
申请人:镇江市港南电子有限公司
地址:212132 江苏省镇江市新区大港机电工业园东方路
国籍:CN
代理机构:南京经纬专利商标代理有限公司
代理人:李纪昌
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本文发布于:2023-05-04 17:43:57,感谢您对本站的认可!

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标签:硅片   方法   清洗   专利
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