遮光部件的制作方法

1.本发明涉及作为具有遮光性的部件的遮光部件。

背景技术：

2.作为遮光部件，已知有日本专利第6541244号公报(专利文献1)中记载的部件。
3.该遮光部件中，施有消光处理的具有微细凹凸的基材部件的表面利用炭黑等着剂进行了着。
4.但是，该遮光部件中，由于着剂的颗粒表面的光的反射，反射率未充分降低，成为具有黑同时还带白(在黑表面具有白雾)的外观，当合并观察时呈灰的外观，从黑度的方面出发还有提高的余地。
5.因此，如日本专利第6036363号公报(专利文献2)所述，提出了在膜基材的表面依次溅射ni系金属膜(镍膜)和ni系金属氧化物膜而形成了多层膜的遮光膜。
6.该遮光膜中，由于在膜基材表面未配置着剂，因此不存在因着剂所致的光的反射。
7.现有技术文献
8.专利文献
9.专利文献1：日本专利第6541244号公报
10.专利文献2：日本专利第6036363号公报

技术实现要素：

11.发明所要解决的课题
12.但是，在溅射有ni系金属膜等的遮光膜中，作为最远离膜基材的层的最表层的ni系金属氧化物膜的折射率高、为2以上，因此其界面处的反射率增大，结果一定程度的光发生反射。另外，该遮光膜中，作为多层膜整体，未形成反射率充分降低的结构。因此，反射率未充分降低，成为具有黑同时还带白的外观，当合并观察时呈灰的外观，从黑度的方面出发仍然有提高的余地。
13.因此，本发明的主要目的在于提供具有优异的黑度的遮光部件。
14.用于解决课题的手段
15.技术方案1的发明的特征在于，其具备基材、以及配置在作为上述基材的1个以上的面的成膜面上的光学多层膜，上述光学多层膜以4层以上配置有吸收可见光的光吸收层和作为电介质制的层的电介质层，作为距上述基材最远的层的最表层为上述电介质层，上述最表层的物理膜厚为62nm以上91nm以下，配置在作为最靠近上述最表层的层的次最表层(该次最表层是物理膜厚为26nm以上85nm以下的上述电介质层)与上述最表层之间的1层以上的上述光吸收层的物理膜厚的合计即表层侧光吸收厚度为6nm以上17nm以下，配置在上述次最表层与上述基材之间的1层以上的上述光吸收层的物理膜厚的合计即基材侧光吸收厚度为60nm以上，将从配置在上述次最表层与上述基材之间的上述光吸收层中的作为物理
膜厚最大的层的基材侧最大厚度光吸收层到上述最表层的物理膜厚的合计即特定表层厚度作为除数、将上述表层侧光吸收厚度与上述基材侧光吸收厚度之和作为被除数时，作为其商的特定比例为0.34以上。
16.技术方案2的发明如上述发明，其特征在于，上述光学多层膜的总物理膜厚为400nm以下。
17.技术方案3的发明如上述发明，其特征在于，上述成膜面具有凹凸，上述成膜面的表面粗糙度为1.0μm以下。
18.技术方案4的发明如上述发明，其特征在于，上述基材被着为黑。
19.技术方案5的发明如上述发明，其特征在于，上述光吸收层包含金属或金属的不饱和氧化物。
20.技术方案6的发明如上述发明，其特征在于，上述光吸收层的主成分为nb、ti、ni、ge、al、si和cr以及它们的各不饱和氧化物中的至少任一者。
21.技术方案7的发明如上述发明，其特征在于，上述电介质层包含金属化合物。
22.技术方案8的发明如上述发明，其特征在于，上述电介质层的主成分为sio2、mgf2、nb2o5、tio2、al2o3、zro2、ta2o5、si3n4、sinyoz中的至少任一者。
23.技术方案9的发明如上述发明，其特征在于，上述最表层的主成分为sio2和mgf2中的至少一者。
24.技术方案10的发明的特征在于，其具备基材、以及配置在作为上述基材的1个以上的面的成膜面上的光学多层膜，上述成膜面具有凹凸，对于入射角为0
°
以上8
°
以下的光的380nm以上780nm以下的波长区域中的平均光学浓度为4.0以上，对于入射角为0
°
以上8
°
以下的光的380nm以上780nm以下的波长区域中的平均正反射率为0.02％以下，在l
*a*b*
度系统测定(jis z 8729)中的亮度l
*
为4.5以下。
25.技术方案11的发明的特征在于，其具备透明的基材、以及配置在作为上述基材的1个以上的面的成膜面上的光学多层膜，上述成膜面为镜面，对于入射角为0
°
以上8
°
以下的光的400nm以上700nm以下的波长区域中的平均正反射率为0.450％以下，对于入射角为0
°
以上8
°
以下的光的380nm以上780nm以下的波长区域中的平均正反射率为0.660％以下，对于入射角为0
°
以上8
°
以下的光的380nm以上780nm以下的波长区域中的平均光学浓度为2.1以上。
26.发明效果
27.本发明的主要效果在于提供具有优异的黑度的遮光部件。
附图说明
28.图1是本发明的遮光部件的示意性横截面图。
29.图2是关于遮光部件的翘曲的示意图。
具体实施方式
30.以下适宜地使用附图对本发明的实施方式的示例进行说明。
31.需要说明的是，本发明并不限于以下的示例。
32.如图1所例示，本发明的遮光部件1具有基材2、以及光学多层膜4。
33.基材2可以具有透光性(透明或半透明)，也可以不具有透光性。从确保黑度的方面出发，优选基材2的透光性低，优选被着为黑。
34.基材2的形状可以为任一形状，从用途的广泛性的方面出发，优选为板状、片状或部件状。
35.基材2的材料例如为聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、聚烯烃、聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)等聚酯、聚酰胺、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚氯乙烯、聚乙酸乙烯酯、丙烯酸类树脂、聚碳酸酯、聚酰亚胺、有机玻璃、无机玻璃或者它们的组合。
36.基材2的厚度例如为10μm(微米)以上200μm以下。关于基材2的厚度，从着为黑时确保黑度的方面出发优选该厚度厚，从适合于光圈叶片或快门叶片等代表性用途、扩展基材2的用途的方面出发优选该厚度薄。
37.基材2的表面(单面或双面)可以为平坦的镜面(镜面基材)，也可以具有基于消光处理等的凹凸(凹凸基材)。消光处理通过消光加工和消光剂的涂布中的至少一者来进行。消光加工可以使用公知的加工，例如可以使用以喷砂为代表的喷射、化学蚀刻、压花、等离子体放电等放电、纳米压印等。消光剂的涂布中，将例如平均粒径为1μm以上35μm以下的丙烯酸系颗粒、聚氨酯系颗粒以及二氧化硅系颗粒中的至少任一者等消光剂与粘结剂一起涂布，使消光剂附着，形成基于消光剂的凹凸。需要说明的是，可以通过浇铸等其他方法在基材2的表面赋予微细的凹凸。
38.从在表面通过凹凸而发生漫反射、减少表观反射率、确保黑度的方面出发，优选基材2的表面具有凹凸(凹凸基材)。另外，基材2的表面具有凹凸的情况下，从确保优异的黑度的方面出发，优选表面粗糙度(算术平均粗糙度)为1μm以下。
39.基材2被着为黑的情况下，例如通过着剂而将消光剂着为黑。作为具体的着剂，例如可以举出炭黑、碳石墨、碳纳米管以及钛黑中的至少任一种。基材2通过在其表面涂布着的消光剂而被着为黑。
40.另外，基材2可以进行卷绕(成卷)，也可以以只要不发生塑性变形就无法卷绕的程度无法卷绕。
41.光学多层膜4形成在基材2的表面(单面或双面，成膜面m)。在基材2的双面形成光学多层膜4的情况下，各面的光学多层膜4的构成可以不同，优选这些构成相互相同。另外，也可以在一面形成本发明的光学多层膜4、在另一面形成不属于本发明的光学多层膜或光学单层膜。
42.基材2的成膜面m可以包含镜面，也可以包含具有凹凸的凹凸面。
43.光学多层膜4具有复数个光吸收层6、以及复数个电介质层8。
44.关于光学多层膜4的层数，从兼顾确保性能和形成成本的方面出发，优选为4以上。即，从确保性能的方面出发，光学多层膜4的层数需要为4以上，并且层数越多，越可增加设计自由度，越容易确保性能。另外，关于光学多层膜4的总物理膜厚，从形成成本增加、或由于层的材料而产生特定程度以上的应力的方面出发，优选为400nm以下。
45.需要说明的是，在光学多层膜4与基材2之间，可以插入提高密合性的粘结剂膜、以及用于增加遮光部件1的硬度的硬涂膜中的至少一者等其他1种以上的膜。在光学多层膜4的表面侧(空气侧)可以赋予防污膜和导电膜中的至少一者等其他1种以上的膜。需要说明的是，这些膜可以作为光学多层膜4中包含的膜进行处理。
46.光吸收层6吸收可见光。可见光是波长区域为可见区域的光。可见区域例如为400nm(纳米)以上780nm以下，其下限可以为380nm、390nm、410nm、420nm、430nm者440nm等，其上限可以为800nm、790nm、770nm、760nm、750nm、730nm、700nm、680nm、650nm或640nm等。
47.光吸收层6具有通过可见光的吸收而遮蔽可见光、实现遮光部件1的黑外观的功能。
48.光吸收层6优选为金属(包括其不饱和氧化物)制的层。光吸收层6的主成分例如为nb(铌)、ti(钛)、ni(镍)、ge(锗)、al(铝)、si(硅)、cr(铬)或它们的不饱和氧化物、或者它们中的至少任意2者。此处，主成分是指以重量比或体积比计相对于总成分过半。下文中，有时将nb作为主成分的层称为nb层，对于其他主成分的层也同样称呼。各层的特性与主成分相应，即使主成分以外的成分比较多，也与主成分以外的成分少的情况具有同样的特性。
49.不饱和金属氧化物例如为nio
x
(x大于0小于1，不饱和氧化镍)。nio
x
层以ni与氧的化合物作为主成分。
50.从成膜容易性的方面出发，复数个光吸收层6优选具有相互相同的主成分，更优选具有相互相同的成分。
51.需要说明的是，为了实现作为遮光部件1整体所期望的遮光性，复数个光吸收层6中的一部分可见光的吸收也可以考虑到其他光吸收层6中的可见光的吸收。另外，基于光吸收层6的可见光的吸收也可以与光学多层膜4的其他层或者其他膜或基材2中的吸收、透过率、反射率的分布相对应。
52.光吸收层6通过蒸镀或溅射等来形成，优选通过溅射形成。
53.在光吸收层6为nio
x
层且通过蒸镀形成的情况下，优选通过离子辅助蒸镀(ion assist depotition；iad)形成。以nio
x
层为代表的膜的结构、或者基于有无离子辅助的结构的差异对于本领域技术人员来说也非常难以直接确定。另外，在蒸镀时通过实施离子辅助而确定膜的结构对于本领域技术人员来说容易理解且有用。
54.niox层的蒸镀中，向基板照射作为离子化的气体的离子束。离子束至少包含氧气(o2)。离子束的气体可以为与以氩气为代表的稀有气体的混合气体。即，离子束为离子化的氧气、或者离子化的氧气与稀有气体的混合气体。
55.通过加热从蒸发源蒸发的ni通过离子束的氧气的作用等而在基板的表面形成nio膜(x＝1)。在nio膜的表面，ni-o间的化学键合的一部分被离子束切断而形成氧缺陷。与这样的氧缺陷的量相应地，x发生变化，形成nio
x
层(x大于0小于1)。ni-o间的化学键合被离子束全部切断的可能性在现实中为零，x大于0。另一方面，即使照射离子束，ni-o间的化学键合完全未被切断的可能性也可以视为实际上不存在，由此x小于1。
56.关于氧缺陷的量即x的值，通过在相同条件下连续地进行蒸镀源的加热和离子束的照射，在1层中可以固定，像这样蒸镀得到的nio
x
层在膜厚方向上为均匀的组成。此处的相同条件例如为离子中的固定电压(固定的气体离子化电压)，并且为氧气或者氧气与稀有气体的固定流量。在为氧气与稀有气体的混合气体的情况下，若1个nio
x
层的蒸镀中的流量固定，则流量的大小相互可以相同也可以不同，为了表达这样的宗旨，可以使氧气的流量为“固定流量”、使稀有气体的流量为“特定流量”。这样的相同条件下的离子束的照射可被看作固定的离子束的照射。
57.并且，x的值通过离子束的各种特性(离子的各种设定)来控制。例如，可以通过
离子束的加速电压的大小和离子束的电流的大小中的至少一者使x的大小发生变化。另外，在使用与稀有气体的混合气体的情况下，可以通过变更氧气与稀有气体的各导入量或混合比而使x的大小发生变化。
58.这样可对x的值进行控制，关于直接鉴定，需要利用可观察到原子的电子显微镜等对层整体进行彻底观察，这不现实，对于本领域技术人员来说，也非常难以直接测定。因此，确定为nio
x
层(x大于0且小于1)是有用的，进而，适宜地利用蒸镀时的离子束的特性等来确定nio
x
层对于本领域技术人员来说容易理解且有用。
59.另外，通过溅射形成nio
x
层的情况下，也与蒸镀的情况同样地，可通过溅射气体的种类或流量、有无自由基气体的导入、自由基气体导入时的自由基气体的种类、流量或投入电力、真空室内的真空度或温度、溅射源的温度、标靶温度或者基板温度等成膜条件的设定而在x的值大于0且小于1的范围内进行调整。
60.电介质层8为电介质制的层。
61.电介质层8通过与光吸收层6的组合而实现防反射功能。即，光学多层膜4中，通过将光吸收层6与电介质层8交替配置而形成防反射膜。光吸收层6可被视为高折射率层。关于电介质层8，相对于高折射率层为低折射率层或中折射率层。
62.电介质层8的主成分优选为具有透光性的金属化合物。电介质层8的主成分例如为sio2(二氧化硅，氧化硅)、mgf2(二氟化镁)、nb2o5(五氧化二铌)、tio2(二氧化钛，氧化钛)、al2o3(三氧化二铝，氧化铝)、zro2(二氧化锆，氧化锆)、ta2o5(五氧化二钽)、si3n4(四氮化三硅，氮化硅)、sinyoz(氧氮化硅)中的至少任一者。
63.从成膜容易性的方面出发，复数个电介质层8优选具有相互相同的主成分，更优选具有相互相同的成分。
64.sinyoz层与nio
x
层同样地可以将si作为蒸镀源或溅射源通过照射离子化氧气和离子化氮气的蒸镀或溅射来形成。sinyoz中，1个以上的n原子或o原子与si原子键合，另一方面并未达到si3n4或sio2，因此0《y《4/3、0《z《2。
65.关于y、z的值，可以与nio
x
的x的值同样地进行控制。另外，关于y、z的值，与x的值同样地，直接鉴定并不现实，对于本领域技术人员来说也非常难以直接测定。因此，确定为sinyoz(0《y《4/3、0《z《2)是有用的，进而，适宜地通过蒸镀时的离子束的特性等来确定sinyoz层对于本领域技术人员来说容易理解且有用。
66.关于光学多层膜4中的作为最远离基材2的层(最靠遮光部件1表面侧(空气侧)的层)的最表层10，从确保防反射性能、保护光吸收层6的方面出发，优选为电介质层8，进而更优选最表层10的主成分为sio2和mgf2中的至少一者。从确保防反射性能的方面出发，最表层10的物理膜厚优选为62nm以上91nm以下。
67.关于除最表层10以外的电介质层8中的至少1层的物理膜厚，从确保防反射性能的方面出发，优选为26nm以上85nm以下。下文中，将具有该范围内的物理膜厚的电介质层8中的最远离基材2的层(最靠近最表层10的层)称为次最表层12。即，次最表层12是最靠近最表层10的具有26nm以上85nm以下的物理膜厚的电介质层8。
68.光学多层膜4中，从确保防反射性能的方面出发，配置在最表层10与次最表层12之间的1个以上的光吸收层6(表层侧光吸收层14)的物理膜厚的合计(表层侧光吸收厚度c)优选为6nm以上17nm以下。
69.另外，光学多层膜4中，从确保防反射性能和高光学浓度的方面出发，配置在次最表层12与基材2之间的1个以上的光吸收层6(基材侧光吸收层16)的物理膜厚的合计(基材侧光吸收厚度d)优选为60nm以上。
70.此外，在光学多层膜4中，从确保防反射性能和高光学浓度的方面出发，从1个以上的基材侧光吸收层16中的物理膜厚最厚的层(基材侧最大厚度光吸收层18)到最表层10的物理膜厚的合计(特定表层厚度e)、表层侧光吸收厚度c、以及基材侧光吸收厚度d所涉及的由下述式(1)所表示的特定比例f优选为0.34(34％)以上。需要说明的是，特定表层厚度e中包括基材侧最大厚度光吸收层18的物理膜厚、以及最表层10的物理膜厚。
71.[数1]
[0072][0073]
从确保优异的黑度的方面出发，遮光部件1优选通过具有这样的基材2和光学多层膜4而具有下述的各种特性。
[0074]
首先，在遮光部件1中，对于入射角为0
°
以上8
°
以下的光的380nm以上780nm以下的波长区域中的平均光学浓度优选为4.0以上。
[0075]
另外，在遮光部件1(特别是基材2的成膜面m为凹凸面的部件)中，对于入射角为0
°
以上8
°
以下的光的380nm以上780nm以下的平均正反射率(380～780nm平均正反射率)优选为0.02％以下。需要说明的是，380～780nm平均正反射率是对于入射至光学多层膜4的入射角为0
°
以上8
°
以下的光的反射率，对于其他正反射率也是同样的。
[0076]
此外，在遮光部件1(特别是基材2的成膜面m为凹凸面的部件)中，l
*a*b*
度系统测定(jis z 8729)中的亮度l
*
优选为4.5以下。
[0077]
而且，在基材2的成膜面m为镜面的遮光部件1中，对于入射角为0
°
以上8
°
以下的光的400nm以上700nm以下的波长区域中的平均正反射率(400～700nm平均正反射率)优选为0.450％以下。
[0078]
此外，在基材2的成膜面m为镜面的遮光部件1中，380～780nm平均正反射率优选为0.660％以下。
[0079]
另外，在基材2的成膜面m为镜面的遮光部件1中，对于入射角为0
°
以上8
°
以下的光的380nm以上780nm以下的波长区域中的平均光学浓度(380～780nm平均光学浓度)优选为2.1以上。
[0080]
这样的包含配置有光学多层膜4的基材2的遮光部件1例如被用于照相机中的快门叶片、光圈叶片。或者，遮光部件1是为了赋予纯黑的外观而被贴在设备的外壳或汽车的内装品等物品上。
[0081]
这样，本发明的遮光部件1具备基材2、以及配置在作为基材2的1个以上的面的成膜面m上的光学多层膜4，光学多层膜4以4层以上8层以下配置有吸收可见光的光吸收层6和作为电介质制的层的电介质层8，作为离基材2最远的层的最表层10为电介质层8，最表层10的物理膜厚为62nm以上91nm以下，配置在次最表层12(其是物理膜厚为26nm以上85nm以下且最靠近最表层10的电介质层8)与最表层10之间的1层以上的光吸收层6的物理膜厚的合计即表层侧光吸收厚度c为6nm以上17nm以下，配置在次最表层12与基材2之间的1层以上的光吸收层6的物理膜厚的合计即基材侧光吸收厚度d为60nm以上，将从配置在次最表层12与
基材2之间的光吸收层6中的作为物理膜厚最大的层的基材侧最大厚度光吸收层18到最表层10的物理膜厚的合计即特定表层厚度e作为除数、将表层侧光吸收厚度c与基材侧光吸收厚度d之和作为被除数时，作为其商的特定比例f＝(c+d)/e为0.34以上。
[0082]
由此，可提供具有优异的黑度的遮光部件1。
[0083]
另外，成膜面m具有凹凸，成膜面m的表面粗糙度为1.0μm以下。由此，遮光部件1呈现更优异的黑度。
[0084]
此外，基材2被着为黑。由此，遮光部件1呈现更优异的黑度。
[0085]
而且，光吸收层6优选包含金属或金属的不饱和氧化物，进一步优选光吸收层6的主成分为nb、ti、ni、ge、al和cr以及它们的各不饱和氧化物中的至少任一者。由此，可更低成本且简单地形成具有优异的黑度的遮光部件1。
[0086]
另外，电介质层8优选包含金属化合物，进一步优选电介质层8的主成分为sio2、mgf2、nb2o5、tio2、al2o3、zro2、ta2o5、si3n4、sinyoz中的至少任一者。由此，可更低成本且简单地形成具有优异的黑度的遮光部件1。
[0087]
此外，最表层10的主成分为sio2和mgf2中的至少一者。由此，遮光部件1具有更优异的黑度。
[0088]
另外，具备基材2、以及配置在作为基材2的1个以上的面的成膜面m上的光学多层膜4，成膜面m具有凹凸，380～780nm平均光学浓度为4.0以上，380～780nm平均正反射率为0.02％以下，在l
*a*b*
度系统测定(jis z 8729)中的亮度l
*
为4.5以下。
[0089]
由此，提供具有以往未观察到的黑度的遮光部件1。
[0090]
此外，具备透明的基材2、以及配置在作为基材2的1个以上的面的成膜面m上的光学多层膜4，成膜面m为镜面，400～700nm平均正反射率为0.450％以下，380～780nm平均正反射率为0.660％以下，380～780nm平均光学浓度为2.1以上。
[0091]
由此，形成在具有镜面成膜面m的透明基材2上的光学多层膜型的遮光部件1中，具备以往未观察到的黑度。
[0092]
实施例
[0093]
接着对本发明的合适实施例、以及不属于本发明的比较例进行说明。
[0094]
需要说明的是，本发明并不限定于下述实施例。另外，根据本发明的理解方式，存在下述实施例实质上为比较例、或下述比较例实质上为实施例的情况。
[0095]
[实施例1、比较例1]
[0096]
从确保优异的黑度的方面出发，基材2为具有凹凸的凹凸基材时，基材2的表面可得到漫反射，从这方面出发是优选的。
[0097]
在实施例1(实施例1-1～1-4)和比较例1(比较例1-1～1-2)中，基材2为无透明的pet制的片状凹凸基材(对表面实施消光处理而具有表面粗糙度0.6μm的凹凸的成膜面m、厚度20μm)，光学多层膜4被成膜在基材2的单面。需要说明的是，基材的材料(pet)本身为无透明的，通过赋予凹凸，凹凸基材如磨砂玻璃这样为半透明的。
[0098]
实施例1、比较例1的各光学多层膜4具有相互不同的层结构。这些层结构被示于下述[表1]、[表2]的上部。各自的层结构为具有[表1]、[表2]的上部所示的材料和物理膜厚(nm)的各层的4层结构(层数4)。关于[表1]、[表2]中的层编号，第1层(l1)与基材2相接，第2层(l2)配置在l1的空气侧并与l1相接，以下是同样的。实施例1、比较例1的遮光部件1中，除
了光学多层膜4以外，不具有膜。
[0099]
并且，分别测定实施例1、比较例1的亮度l
*
、380～780nm平均正反射率和380～780nm平均光学浓度。各种平均正反射率和平均光学浓度利用分光光度计(perkin elmer inc公司制造的lambda1050)进行测定。亮度l
*
利用彩计(byk-gardner gmbh公司制造的spectro2guide)进行测定。
[0100]
需要说明的是，关于包括实施例1、比较例1的下述各实施例和各比较例中的各层，只要没有特别记明，几乎不包含主成分以外的成分，并且通过溅射来形成。
[0101]
[表1]
[0102][0103]
[表2]
[0104][0105]
在上述[表1]、[表2]的下部，示出各例中的最表层10、次最表层12、表层侧光吸收厚度c、基材侧光吸收厚度d、特定表层厚度e、特定比例f、400～700nm平均正反射率、380～780nm平均正反射率以及380～780nm平均光学浓度。
[0106]
比较例1-1的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0107]
比较例1-1的光学多层膜4的总物理膜厚为272nm，落入400nm以下的范围。
[0108]
比较例1-1的最远离基材2的作为电介质层8的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为59nm，“未”落入62nm以上91nm以下的范围。
[0109]
比较例1-1的作为电介质层8的l2为sio2层，其物理膜厚为55nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此比较例1-1的l2为次最表层12。
[0110]
比较例1-1的表层侧光吸收层14是最表层10的l4与次最表层12的l2之间的作为光吸收层6的l3(nb层)，其物理膜厚(表层侧光吸收厚度c)为8nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0111]
比较例1-1的基材侧光吸收层16是配置在次最表层12的l2与基材2之间的作为光吸收层6的l1(nb层)，其物理膜厚(基材侧光吸收厚度d)为150nm，落入60nm以上的范围。为了在无着的半透明基材2上得到380～780nm平均光学浓度为4以上的遮光部件1，在仅在基材2的单面配置光学多层膜4(光吸收层6)的情况下，光吸收层6的物理膜厚的合计需要为100nm的程度以上。
[0112]
另外，从基材侧光吸收层16的l1到最表层10的l4的物理膜厚的合计(特定表层厚度e)与总物理膜厚同样为272nm，比较例1-1的特定比例f为f＝(c+d)/e＝(8+150)/272≒0.58(58％)，为34％以上。
[0113]
比较例1-1的亮度l
*
为4.63，“未”落入4.5以下的范围。
[0114]
比较例1-1的380～780nm平均正反射率为0.020％，落入0.02％以下的范围。
[0115]
比较例1-1的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4以上的范围。
[0116]
比较例1-2的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0117]
比较例1-2的光学多层膜4的总物理膜厚为277nm，落入400nm以下的范围。
[0118]
比较例1-2的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为59nm，“未”落入62nm以上91nm以下的范围。
[0119]
比较例1-2的l2为sio2层，其物理膜厚为59nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此比较例1-2的l2为次最表层12。
[0120]
比较例1-2的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为9nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0121]
比较例1-2的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为150nm，落入60nm以上的范围。
[0122]
另外，比较例1-2的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为277nm，比较例1-2的特定比例f为(9+150)/277≒0.57(57％)，为34％以上。
[0123]
比较例1-2的亮度l
*
为6.72，“未”落入4.5以下的范围。
[0124]
比较例1-2的380～780nm平均正反射率为0.021％，“未”落入0.02％以下的范围。
[0125]
比较例1-2的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4以上的范围。
[0126]
比较例1-3的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0127]
比较例1-3的光学多层膜4的总物理膜厚为285nm，落入400nm以下的范围。
[0128]
比较例1-3的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为58nm，“未”落入62nm以上91nm以下的范围。
[0129]
比较例1-3的l2为sio2层，其物理膜厚为67nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此比较例1-2的l2为次最表层12。
[0130]
比较例1-3的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为9nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0131]
比较例1-3的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为150nm，落入60nm以上的范围。
[0132]
另外，比较例1-3的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为285nm，比较例1-3的特定比例f为(9+150)/285≒0.56(56％)，为34％以上。
[0133]
比较例1-3的亮度l
*
为14.85，“未”落入4.5以下的范围。
[0134]
比较例1-3的380～780nm平均正反射率为0.031％，“未”落入0.02％以下的范围。
[0135]
比较例1-3的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4以上的范围。
[0136]
比较例1-4的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0137]
比较例1-4的光学多层膜4的总物理膜厚为285nm，落入400nm以下的范围。
[0138]
比较例1-4的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为75nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0139]
比较例1-4的l2为sio2层，其物理膜厚为59nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此比较例1-4的l2为次最表层12。
[0140]
比较例1-4的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为4nm，“未”落入6nm以上17nm以下的范围。
[0141]
比较例1-4的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为150nm，落入60nm以上的范围。
[0142]
另外，比较例1-4的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为288nm，比较例1-4的特定比例f为(4+150)/288≒0.53(53％)，为34％以上。
[0143]
比较例1-4的亮度l
*
为28.801，“未”落入4.5以下的范围。
[0144]
比较例1-4的380～780nm平均正反射率为0.160％，“未”落入0.02％以下的范围。
[0145]
比较例1-4的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4以上的范围。
[0146]
实施例1-1的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0147]
实施例1-1的光学多层膜4的总物理膜厚为293nm，落入400nm以下的范围。
[0148]
实施例1-1的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为75nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0149]
实施例1-1的l2为sio2层，其物理膜厚为59nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例1-1的l2为次最表层12。
[0150]
实施例1-1的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为9nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0151]
实施例1-1的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为150nm，落入60nm以上的范围。
[0152]
另外，实施例1-1的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为293nm，实施例1-1的特定比例f为(9+150)/293≒0.54(54％)，为34％以上。
[0153]
实施例1-1的亮度l
*
为3.00，落入4.5以下的范围。
[0154]
实施例1-1的380～780nm平均正反射率为0.010％，落入0.02％以下的范围。
[0155]
实施例1-1的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4以上的范围。
[0156]
实施例1-2的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0157]
实施例1-2的光学多层膜4的总物理膜厚为283nm，落入400nm以下的范围。
[0158]
实施例1-2的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为74nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0159]
实施例1-2的l2为sinyoz层，其物理膜厚为51nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例1-2的l2为次最表层12。作为sinyoz层的实施例1-2的l2通过si的成膜速率为0.2nm/s(纳米每秒)的溅射形成，在溅射时，依次导入70sccm(每分钟标准立方厘米，standard cubic centimetre per minute)、10sccm的离子化的氮气和氧气。以下同样地制作sinyoz层。需要说明的是，通过变更氧气和氮气中的至少一者的流量，可变更sinyoz的组成(sinyoz中的y、z)。
[0160]
实施例1-2的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为8nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0161]
实施例1-2的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为150nm，落入60nm以上的范围。
[0162]
另外，实施例1-2的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为283nm，实施例1-2的特定比例f为(8+150)/283≒0.56(56％)，为34％以上。
[0163]
实施例1-2的亮度l
*
为3.03，落入4.5以下的范围。
[0164]
实施例1-2的380～780nm平均正反射率为0.013％，落入0.02％以下的范围。
[0165]
实施例1-2的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4以上的范围。
[0166]
实施例1-3的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0167]
实施例1-3的光学多层膜4的总物理膜厚为284nm，落入400nm以下的范围。
[0168]
实施例1-3的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为74nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0169]
实施例1-3的l2为sinyoz层，其物理膜厚为52nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例1-3的l2为次最表层12。
[0170]
实施例1-3的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为8nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0171]
实施例1-3的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为150nm，落入60nm以上的范围。
[0172]
另外，实施例1-3的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为284nm，实施例1-3的特定比例f为(8+150)/284≒0.56(56％)，为34％以上。
[0173]
实施例1-3的亮度l
*
为3.84，落入4.5以下的范围。
[0174]
实施例1-3的380～780nm平均正反射率为0.012％，落入0.02％以下的范围。
[0175]
实施例1-3的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4以上的范围。
[0176]
实施例1-4的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0177]
实施例1-4的光学多层膜4的总物理膜厚为305nm，落入400nm以下的范围。
[0178]
实施例1-4的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为77nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0179]
实施例1-4的l2为sio2层，其物理膜厚为64nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例1-4的l2为次最表层12。
[0180]
实施例1-4的表层侧光吸收层14为l3(nb+si层)，表层侧光吸收厚度c为14nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0181]
实施例1-4的基材侧光吸收层16为l1(nb+si层)，基材侧光吸收厚度d为150nm，落入60nm以上的范围。
[0182]
另外，实施例1-4的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为305nm，实施例1-4的特定比例f为(14+150)/305≒0.54(54％)，为34％以上。
[0183]
实施例1-4的亮度l
*
为3.97，落入4.5以下的范围。
[0184]
实施例1-4的380～780nm平均正反射率为0.010％，落入0.02％以下的范围。
[0185]
实施例1-4的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4以上的范围。
[0186]
这样，比较例1-1中，最表层10的物理膜厚为优选的范围外，亮度l
*
为4.63，超过凹凸基材中的优选范围的上限4.5，从这方面出发，作为凹凸基材的遮光部件1的黑度差。
[0187]
另外，比较例1-2中，最表层10的物理膜厚为优选的范围外，亮度l
*
为6.72，超过凹凸基材中的优选范围的上限4.5，并且380～780nm平均正反射率为0.021％，超过凹凸基材中的优选范围的上限0.02％，从这方面出发，作为凹凸基材的遮光部件1的黑度差。
[0188]
此外，比较例1-3中，最表层10的物理膜厚为优选的范围外，亮度l
*
为14.85，超过凹凸基材中的优选范围的上限4.5，并且380～780nm平均正反射率为0.021％，超过凹凸基
材中的优选范围的上限0.02％，从这方面出发，作为凹凸基材的遮光部件1的黑度差。
[0189]
此外，比较例1-4中，表层侧光吸收厚度c为优选的范围外，亮度l
*
为28.801，超过凹凸基材中的优选范围的上限4.5，并且380～780nm平均正反射率为0.160％，超过凹凸基材中的优选范围的上限0.02％，从这方面出发，作为凹凸基材的遮光部件1的黑度差。
[0190]
与之相对，实施例1-1～1-4中，光学多层膜4的层数和总物理膜厚、最表层10的物理膜厚、表层侧光吸收厚度c、基材侧光吸收厚度d、特定表层厚度e和特定比例f均落入各自的优选范围内，均是亮度l
*
为4.5以下，并且380～780nm平均正反射率为0.02％以下，380～780nm平均光学浓度为4以上，成为未观察到起雾的纯黑的凹凸基材的遮光部件1。
[0191]
透明的凹凸基材的遮光部件1中，从确保优异的黑度的方面出发，优选亮度l
*
为4.5以下，380～780nm平均正反射率为0.02％以下，380～780nm平均光学浓度为4以上，实施例1中，均满足其优选的范围。
[0192]
[实施例2、比较例2]
[0193]
基材2被着为黑时，与之相应地，即使减弱基于光吸收层6的光的吸收，也有可能维持遮光部件1的遮光性能(黑度)。特别是在黑凹凸基材中，仅为基材2时，380～780nm平均光学浓度为4的程度以上。
[0194]
因此，作为实施例2-1的遮光部件1，制作在黑凹凸基材上形成实施例1-1的光学多层膜4而成的部件，作为实施例2-2的遮光部件1，制作在黑凹凸基材上形成将实施例1-1的基材侧光吸收层16的物理膜厚减至100nm的光学多层膜4而成的部件。
[0195]
另外，进一步阶段性地减少基材侧光吸收层16的物理膜厚，制作实施例2-3、比较例2-1、比较例2-2、比较例2-3。实施例2-3中的基材侧光吸收层16的物理膜厚为60nm，比较例2-1、比较例2-2中的基材侧光吸收层16的物理膜厚为40nm，比较例2-3中的基材侧光吸收层16的物理膜厚为20nm。比较例2-2、比较例2-3中，为了尽量减小反射率，稍微调节l2、l4的物理膜厚。
[0196]
需要说明的是，实施例2-1～2-3(实施例2)、比较例2-1～2-3中的基材2是被着为黑的pet制的片状凹凸基材(在表面实施消光处理、进一步涂布黑的着剂、具有表面粗糙度0.6μm的凹凸的成膜面m，厚度20μm)。成膜前的膜的亮度l
*
为26.0，380～780nm平均正反射率为0.12％，平均光学浓度为4以上。光学多层膜4的层数均为4。
[0197]
之后，与实施例1同样地测定实施例2、比较例2的亮度l
*
、380～780nm平均正反射率和380～780nm平均光学浓度。
[0198]
这些层结构等与上述[表1]同样地示于下述[表3]。
[0199][0200]
比较例2-1的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0201]
比较例2-1的光学多层膜4的总物理膜厚为183nm，落入400nm以下的范围。
[0202]
比较例2-1的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为75nm，落入62nm以上91nm以下
的范围。
[0203]
比较例2-1的l2为sio2层，其物理膜厚为59nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此比较例2-1的l2为次最表层12。
[0204]
比较例2-1的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为9nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0205]
比较例2-1的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为40nm，“未”落入60nm以上的范围。
[0206]
另外，比较例2-1的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为183nm，比较例2-1的特定比例f为(9+40)/183≒0.27(27％)，“未”成为34％以上。
[0207]
比较例2-1的亮度l
*
为4.58，“未”落入4.5以下的范围。
[0208]
比较例2-1的380～780nm平均正反射率为0.010％，落入0.02％以下的范围。
[0209]
比较例2-1的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4以上的范围。
[0210]
比较例2-2的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0211]
比较例2-2的光学多层膜4的总物理膜厚为188nm，落入400nm以下的范围。
[0212]
比较例2-2的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为77nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0213]
比较例2-2的l2为sio2层，其物理膜厚为62nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此比较例2-2的l2为次最表层12。
[0214]
比较例2-2的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为9nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0215]
比较例2-2的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为40nm，“未”落入60nm以上的范围。
[0216]
另外，比较例2-2的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为188nm，比较例2-2的特定比例f为(9+40)/188≒0.26(26％)，“未”成为34％以上。
[0217]
比较例2-2的亮度l
*
为4.70，“未”落入4.5以下的范围。
[0218]
比较例2-2的380～780nm平均正反射率为0.011％，落入0.02％以下的范围。
[0219]
比较例2-2的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4以上的范围。
[0220]
比较例2-3的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0221]
比较例2-3的光学多层膜4的总物理膜厚为177nm，落入400nm以下的范围。
[0222]
比较例2-3的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为79nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0223]
比较例2-3的l2为sio2层，其物理膜厚为69nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此比较例2-3的l2为次最表层12。
[0224]
比较例2-3的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为9nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0225]
比较例2-3的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为20nm，“未”落入60nm以上的范围。
[0226]
另外，比较例2-3的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为177nm，比较例2-3的特定比例f为(9+20)/177≒0.17(17％)，“未”成为34％以上。
[0227]
比较例2-3的亮度l
*
为5.79，“未”落入4.5以下的范围。
[0228]
比较例2-3的380～780nm平均正反射率为0.012％，落入0.02％以下的范围。
[0229]
比较例2-3的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4以上的范围。
[0230]
实施例2-1的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0231]
实施例2-1的光学多层膜4的总物理膜厚为243nm，落入400nm以下的范围。
[0232]
实施例2-1的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为75nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0233]
实施例2-1的l2为sio2层，其物理膜厚为59nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例2-1的l2为次最表层12。
[0234]
实施例2-1的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为9nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0235]
实施例2-1的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为100nm，落入60nm以上的范围。
[0236]
另外，实施例2-1的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为243nm，实施例2-1的特定比例f为(9+100)/243≒0.45(45％)，为34％以上。
[0237]
实施例2-1的亮度l
*
为4.1，落入4.5以下的范围。
[0238]
实施例2-1的380～780nm平均正反射率为0.010％，落入0.02％以下的范围。
[0239]
实施例2-1的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4以上的范围。
[0240]
实施例2-2的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0241]
实施例2-2的光学多层膜4的总物理膜厚为203nm，落入400nm以下的范围。
[0242]
实施例2-2的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为75nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0243]
实施例2-2的l2为sio2层，其物理膜厚为59nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例2-2的l2为次最表层12。
[0244]
实施例2-2的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为9nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0245]
实施例2-2的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为60nm，落入60nm以上的范围。
[0246]
另外，实施例2-2的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为203nm，实施例2-2的特定比例f为(9+60)/203≒0.34(34％)，为34％以上。
[0247]
实施例2-2的亮度l
*
为4.5，落入4.5以下的范围。
[0248]
实施例2-2的380～780nm平均正反射率为0.009％，落入0.02％以下的范围。
[0249]
实施例2-2的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4以上的范围。
[0250]
实施例2、比较例2中，380～780nm平均光学浓度均为4以上。
[0251]
但是，比较例2-1、2-2、比较例2-3中，亮度l
*
为4.58、4.70、5.79，大于4.5，从这方面出发，作为凹凸基材的遮光部件1的黑度差。
[0252]
与之相对，实施例2均是亮度l
*
为4.5以下，380～780nm平均正反射率为0.02％以下，380～780nm平均光学浓度为4以上，成为未观察到起雾的纯黑的凹凸基材的遮光部件1。
[0253]
而且，实施例2中，可以在确保黑度的品质的同时使光吸收层6的物理膜厚比实施
例1-1(l1为150nm)减少(l1依次为100、60nm)。
[0254]
[实施例3、比较例3]
[0255]
在实施例1、2中得到了在半透明的、被着为黑的各凹凸基材中优选的光学多层膜4，在具有无透明的镜面的基材2(镜面基材)中有时也要求确保黑度。另外，关于光学多层膜4形成于镜面的镜面基材的遮光部件1，与凹凸基材的情况相比，容易进行各种测定和模拟，容易把握遮光部件1的性质。
[0256]
于是，首先一边维持实施例1、比较例1中的光学多层膜4的层结构，一边将基材2从无透明的凹凸基材替换成双面为镜面且为平坦板状的无透明的基材2(白板玻璃，板厚2mm(毫米)，单面为镜面的成膜面m)，依次形成为实施例3(实施例3-1～3-4)、比较例3(比较例3-1～3-4)，调查它们的性质。作为该性质，测定400～700nm平均正反射率、380～780nm平均正反射率以及380～780nm平均光学浓度。
[0257]
接着，一边维持实施例2、比较例2中的光学多层膜4的层结构，一边将基材2从被着为黑的凹凸基材替换成与实施例3同样地具有无透明的镜面的基材2，依次形成为实施例4(实施例4-1～4-2)、比较例4(比较例4-1～4-3)，同样地调查它们的性质。
[0258]
需要说明的是，实施例3、4、比较例3、4中，基材2的成膜面m为镜面，由于不存在对于直接进入到光学多层膜4中的入射光的漫反射成分，因此它们的亮度l
*
在利用上述彩计时均测定为0。
[0259]
首先，在下述[表4]中示出实施例3、比较例3的测定结果。
[0260]
[表4]
[0261][0262]
比较例3-1的400～700nm平均正反射率为0.684％，“未”落入0.450％以下的范围。
[0263]
比较例3-1的380～780nm平均正反射率为1.018％，“未”落入0.660％以下的范围。
[0264]
比较例3-1的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入基材为无透明且成膜面m为镜面的情况的优选范围即2.1以上的范围。
[0265]
比较例3-2的400～700nm平均正反射率为1.288％，“未”落入0.450％以下的范围。
[0266]
比较例3-2的380～780nm平均正反射率为1.552％，“未”落入0.660％以下的范围。
[0267]
比较例3-2的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入2.1以上的范围。
[0268]
比较例3-3的400～700nm平均正反射率为2.710％，“未”落入0.450％以下的范围。
[0269]
比较例3-3的380～780nm平均正反射率为2.774％，“未”落入0.660％以下的范围。
[0270]
比较例3-3的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入2.1以上的范围。
[0271]
比较例3-4的400～700nm平均正反射率为6.615％，“未”落入0.450％以下的范围。
[0272]
比较例3-4的380～780nm平均正反射率为7.516％，“未”落入0.660％以下的范围。
[0273]
比较例3-4的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入2.1以上的范围。
[0274]
实施例3-1的400～700nm平均正反射率为0.137％，落入0.450％以下的范围。
[0275]
实施例3-1的380～780nm平均正反射率为0.337％，落入0.660％以下的范围。
[0276]
实施例3-1的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入2.1以上的范围。
[0277]
实施例3-2的400～700nm平均正反射率为0.280％，落入0.450％以下的范围。
[0278]
实施例3-2的380～780nm平均正反射率为0.514％，落入0.660％以下的范围。
[0279]
实施例3-2的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入2.1以上的范围。
[0280]
实施例3-3的400～700nm平均正反射率为0.450％，落入0.450％以下的范围。
[0281]
实施例3-3的380～780nm平均正反射率为0.660％，落入0.660％以下的范围。
[0282]
实施例3-3的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入2.1以上的范围。
[0283]
实施例3-4的400～700nm平均正反射率为0.107％，落入0.450％以下的范围。
[0284]
实施例3-4的380～780nm平均正反射率为0.311％，落入0.660％以下的范围。
[0285]
实施例3-4的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入2.1以上的范围。
[0286]
这样，比较例3-1～3-3中，最表层10的物理膜厚为优选的范围外，400～700nm平均正反射率和380～780nm平均正反射率为透明的镜面基材中的各自的优选范围外。另外，比较例3-4中，表层侧光吸收厚度c为优选的范围外，400～700nm平均正反射率和380～780nm平均正反射率为透明的镜面基材中的各自的优选范围外。
[0287]
与之相对，实施例3中，最表层10的物理膜厚、表层侧光吸收厚度c、基材侧光吸收厚度d、特定表层厚度e和特定比例f均落入各自的优选范围内，400～700nm平均正反射率、380～780nm平均正反射率和380～780nm平均光学浓度均落入各自的优选范围内。
[0288]
[实施例4、比较例4]
[0289]
接着，在下述[表5]中示出了实施例4、比较例4的测定结果。需要说明的是，实施例1-1的光学多层膜4的结构与实施例2-1的光学多层膜4的结构相同，因此在维持实施例2-1的光学多层膜4的层结构的同时将基材变为具有无透明的镜面的基材的实施例与实施例3-1相同。因此，[表5]中再次示出了实施例3-1。
[0290]
[表5]
[0291][0292]
比较例4-1的400～700nm平均正反射率为0.150％，落入0.450％以下的范围。
[0293]
比较例4-1的380～780nm平均正反射率为0.419％，落入0.660％以下的范围。
[0294]
比较例4-1的380～780nm平均光学浓度为1.6，“未”落入2.1以上的范围。
[0295]
比较例4-2的400～700nm平均正反射率为0.155％，落入0.450％以下的范围。
[0296]
比较例4-2的380～780nm平均正反射率为0.340％，落入0.660％以下的范围。
[0297]
比较例4-2的380～780nm平均光学浓度为1.6，“未”落入2.1以上的范围。
[0298]
比较例4-3的400～700nm平均正反射率为0.237％，落入0.450％以下的范围。
[0299]
比较例4-3的380～780nm平均正反射率为0.381％，落入0.660％以下的范围。
[0300]
比较例4-3的380～780nm平均光学浓度为1.1，“未”落入2.1以上的范围。
[0301]
实施例4-1的400～700nm平均正反射率为0.129％，落入0.450％以下的范围。
[0302]
实施例4-1的380～780nm平均正反射率为0.305％，落入0.660％以下的范围。
[0303]
实施例4-1的380～780nm平均光学浓度为3.4，落入2.1以上的范围。
[0304]
实施例4-2的400～700nm平均正反射率为0.135％，落入0.450％以下的范围。
[0305]
实施例4-2的380～780nm平均正反射率为0.277％，落入0.660％以下的范围。
[0306]
实施例4-2的380～780nm平均光学浓度为2.1，落入2.1以上的范围。
[0307]
这样，比较例4-1～4-3中，基材侧光吸收厚度d和特定比例f为优选的范围外，380～780nm平均光学浓度为优选的范围外。
[0308]
与之相对，实施例4-1～4-2中，最表层10的物理膜厚、表层侧光吸收厚度c、基材侧光吸收厚度d、特定表层厚度e和特定比例f均落入各自的优选范围内，400～700nm平均正反射率、380～780nm平均正反射率和380～780nm平均光学浓度均落入各自的优选范围内。
[0309]
并且，将在凹凸基材的情况下得到了良好的结果的层结构的光学多层膜4(实施例1、2)在透明的镜面基材上成膜时(实施例3、4)，均是400～700nm平均正反射率为0.450％以下、380～780nm平均正反射率为0.660％以下、380～780nm平均光学浓度为2.1以上，因此可以说确定了透明的镜面基材中各自的优选范围内。
[0310]
[实施例5、比较例5]
[0311]
进一步研究了透明的镜面基材中的各种光学多层膜4的光学特性。
[0312]
即，作为实施例5(实施例5-1～5-20)和比较例5(比较例5-1～5-8)，对于无透明的镜面基材上的各种光学多层膜4的层结构，通过模拟掌握到了与实施例3、4同样的特性。
[0313]
将实施例5、比较例5的层结构和特性示于下述[表6]～[表12]中。
[0314]
[表6]
[0315][0316]
[表7]
[0317][0318]
[表8]
[0319][0320]
[表9]
[0321][0322]
[表10]
[0323][0324]
[表11]
[0325][0326]
[表12]
[0327][0328]
比较例5-1的光学多层膜4的层数为3，“未”落入4以上的范围。
[0329]
比较例5-1的光学多层膜4的总物理膜厚为147nm，落入400nm以下的范围。
[0330]
比较例5-1的最表层10为l3(sio2层)，其物理膜厚为84nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0331]
比较例5-1的l1为sio2层，其物理膜厚为57nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此比较例5-1的l1为次最表层12。
[0332]
比较例5-1的表层侧光吸收层14为l2(nb层)，表层侧光吸收厚度c为6nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0333]
比较例5-1的基材侧光吸收层16以及特定表层厚度e“不”存在，因此比较例5-1的特定比例f“无法”计算。
[0334]
比较例5-1的400～700nm平均正反射率为1.988％，“未”落入0.450％以下的范围。
[0335]
比较例5-1的380～780nm平均正反射率为2.870％，“未”落入0.660％以下的范围。
[0336]
比较例5-1的380～780nm平均光学浓度为0.2，“未”落入2.1以上的范围。
[0337]
比较例5-1的黑度有提高的余地。
[0338]
比较例5-2的光学多层膜4的层数为3，“未”落入4以上的范围。
[0339]
比较例5-2的光学多层膜4的总物理膜厚为219nm，落入400nm以下的范围。
[0340]
比较例5-2的最表层10为l3(sio2层)，其物理膜厚为70nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0341]
比较例5-2的l2为si3n4层，其物理膜厚为25nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此比较例5-2的l2为次最表层12。
[0342]
比较例5-2的表层侧光吸收层14“不”存在，因此比较例5-2的特定比例f“无法”计算。
[0343]
比较例5-2的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为124nm，落入60nm以上的范围。
[0344]
比较例5-2的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为219nm。
[0345]
比较例5-2的400～700nm平均正反射率为15.081％，“未”落入0.450％以下的范围。
[0346]
比较例5-2的380～780nm平均正反射率为15.673％，“未”落入0.660％以下的范围。
[0347]
比较例5-2的380～780nm平均光学浓度为2.9，落入2.1以上的范围。
[0348]
比较例5-2中，反射率的降低不是特别充分，黑度有提高的余地。
[0349]
比较例5-3的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0350]
比较例5-3的光学多层膜4的总物理膜厚为223nm，落入400nm以下的范围。
[0351]
比较例5-3的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为70nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0352]
比较例5-3的l3为si3n4层，其物理膜厚为35nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此比较例5-3的l3为次最表层12。
[0353]
比较例5-3的表层侧光吸收层14“不”存在，因此比较例5-3的特定比例f“无法”计算。
[0354]
比较例5-3的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为88nm，落入60nm以上的范围。
[0355]
比较例5-3的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为223nm。
[0356]
比较例5-3的400～700nm平均正反射率为34.933％，“未”落入0.450％以下的范围。
[0357]
比较例5-3的380～780nm平均正反射率为32.241％，“未”落入0.660％以下的范围。
[0358]
比较例5-3的380～780nm平均光学浓度为2.1，落入2.1以上的范围。
[0359]
比较例5-3中，反射率的降低不特别充分，黑度有提高的余地。
[0360]
比较例5-4的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0361]
比较例5-4的光学多层膜4的总物理膜厚为318nm，落入400nm以下的范围。
[0362]
比较例5-4的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为100nm，“未”落入62nm以上91nm以下的范围。
[0363]
比较例5-4的l2为sio2层，其物理膜厚为59nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此比较例5-4的l2为次最表层12。
[0364]
比较例5-4的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为9nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0365]
比较例5-4的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为150nm，落入60nm以上的范围。
[0366]
比较例5-4的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为318nm，比较例5-4的特定比例f
为(9+150)/318＝0.50(50％)，为34％以上。
[0367]
比较例5-4的400～700nm平均正反射率为2.383％，“未”落入0.450％以下的范围。
[0368]
比较例5-4的380～780nm平均正反射率为2.367％，“未”落入0.660％以下的范围。
[0369]
比较例5-4的380～780nm平均光学浓度为4.0，落入2.1以上的范围。
[0370]
比较例5-4中，反射率的降低不特别充分，黑度有提高的余地。
[0371]
比较例5-5的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0372]
比较例5-5的光学多层膜4的总物理膜厚为324nm，落入400nm以下的范围。
[0373]
比较例5-5的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为75nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0374]
比较例5-5的l2为sio2层，其物理膜厚为90nm，“未”落入26nm以上85nm以下的范围，因此比较例5-5的l2“不是”次最表层12。
[0375]
由于次最表层12的不存在，因而比较例5-5的表层侧光吸收层14和基材侧光吸收层16“不”存在。
[0376]
由于表层侧光吸收层14和基材侧光吸收层16的不存在，因此比较例5-5的特定表层厚度e“不”存在。由于表层侧光吸收层14和基材侧光吸收层16以及特定表层厚度e的不存在，因此比较例5-5的特定比例f“无法”计算。
[0377]
比较例5-5的400～700nm平均正反射率为4.348％，“未”落入0.450％以下的范围。
[0378]
比较例5-5的380～780nm平均正反射率为4.319％，“未”落入0.660％以下的范围。
[0379]
比较例5-5的380～780nm平均光学浓度为4.0，落入2.1以上的范围。
[0380]
比较例5-5中，反射率的降低不特别充分，黑度有提高的余地。
[0381]
比较例5-6的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0382]
比较例5-6的光学多层膜4的总物理膜厚为304nm，落入400nm以下的范围。
[0383]
比较例5-6的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为75nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0384]
比较例5-6的l2为sio2层，其物理膜厚为59nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此比较例5-6的l2为次最表层12。
[0385]
比较例5-6的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为20nm，“未”落入6nm以上17nm以下的范围。
[0386]
比较例5-6的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为150nm，落入60nm以上的范围。
[0387]
比较例5-6的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为304nm，比较例5-6的特定比例f为(20+150)/304≒0.56(56％)，为34％以上。
[0388]
比较例5-6的400～700nm平均正反射率为9.104％，“未”落入0.450％以下的范围。
[0389]
比较例5-6的380～780nm平均正反射率为10.242％，“未”落入0.660％以下的范围。
[0390]
比较例5-6的380～780nm平均光学浓度为4.3，落入2.1以上的范围。
[0391]
比较例5-6中，反射率的降低不特别充分，黑度有提高的余地。
[0392]
比较例5-7的光学多层膜4的层数为6，落入4以上的范围。
[0393]
比较例5-7的光学多层膜4的总物理膜厚为406nm，“未”落入400nm以下的范围。
[0394]
比较例5-7的最表层10为l6(sio2层)，其物理膜厚为75nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0395]
比较例5-7的l4为sio2层，其物理膜厚为75nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此比较例5-7的l4为次最表层12。
[0396]
比较例5-7的表层侧光吸收层14为l5(nb层)，表层侧光吸收厚度c为9nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0397]
比较例5-7的基材侧光吸收层16为l1,l3(nb层)，基材侧光吸收厚度d为32+15＝47nm，“未”落入60nm以上的范围。比较例5-7的基材侧最大厚度光吸收层18为l1(nb层)。
[0398]
比较例5-7的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为406nm，比较例5-7的特定比例f为(9+47)/406≒0.14(14％)，“未”成为34％以上。
[0399]
比较例5-7的400～700nm平均正反射率为0.892％，“未”落入0.450％以下的范围。
[0400]
比较例5-7的380～780nm平均正反射率为1.155％，“未”落入0.660％以下的范围。
[0401]
比较例5-7的380～780nm平均光学浓度为1.8，“未”落入2.1以上的范围。
[0402]
比较例5-7中，反射率的降低不特别充分，黑度有提高的余地。
[0403]
比较例5-8的光学多层膜4的层数为8，落入4以上的范围。
[0404]
比较例5-8的光学多层膜4的总物理膜厚为391nm，落入400nm以下的范围。
[0405]
比较例5-8的最表层10为l8(sio2层)，其物理膜厚为75nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0406]
比较例5-8的l6为sio2层，其物理膜厚为61nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此比较例5-8的l6为次最表层12。
[0407]
比较例5-8的表层侧光吸收层14为l7(nb层)，表层侧光吸收厚度c为10nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0408]
比较例5-8的基材侧光吸收层16为l1、l3、l5(nb层)，基材侧光吸收厚度d为35+5+5＝45nm，“未”落入60nm以上的范围。比较例5-8的基材侧最大厚度光吸收层18为l5(nb层)。
[0409]
比较例5-8的特定表层厚度e为l5～l8的物理膜厚的合计181nm，比较例5-8的特定比例f为(10+45)/181≒0.30(30％)，“未”成为34％以上。
[0410]
比较例5-8的400～700nm平均正反射率为0.198％，落入0.450％以下的范围。
[0411]
比较例5-8的380～780nm平均正反射率为0.522％，落入0.660％以下的范围。
[0412]
比较例5-8的380～780nm平均光学浓度为2.0，“未”落入2.1以上的范围。
[0413]
比较例5-8的平均光学浓度不特别充分，黑度有提高的余地。
[0414]
与它们相对，实施例5-1的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0415]
实施例5-1的光学多层膜4的总物理膜厚为321nm，落入400nm以下的范围。
[0416]
实施例5-1的最表层10为l4(mgf2层)，其物理膜厚为85nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0417]
实施例5-1的l2为sio2层，其物理膜厚为65nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-1的l2为次最表层12。
[0418]
实施例5-1的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为8nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0419]
实施例5-1的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为163nm，落入
60nm以上的范围。
[0420]
实施例5-1的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为321nm，实施例5-1的特定比例f为(8+163)/321≒0.53(53％)，为34％以上。
[0421]
实施例5-1的400～700nm平均正反射率为0.147％，落入0.450％以下的范围。
[0422]
实施例5-1的380～780nm平均正反射率为0.247％，落入0.660％以下的范围。
[0423]
实施例5-1的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入2.1以上的范围。
[0424]
实施例5-1在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0425]
实施例5-2的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0426]
实施例5-2的光学多层膜4的总物理膜厚为283nm，落入400nm以下的范围。
[0427]
实施例5-2的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为81nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0428]
实施例5-2的l2为si3n4层，其物理膜厚为46nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-2的l2为次最表层12。
[0429]
实施例5-2的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为7nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0430]
实施例5-2的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为149nm，落入60nm以上的范围。
[0431]
实施例5-2的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为283nm，实施例5-2的特定比例f为(7+149)/283≒0.55(55％)，为34％以上。
[0432]
实施例5-2的400～700nm平均正反射率为0.254％，落入0.450％以下的范围。
[0433]
实施例5-2的380～780nm平均正反射率为0.452％，落入0.660％以下的范围。
[0434]
实施例5-2的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入2.1以上的范围。
[0435]
实施例5-2在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0436]
实施例5-3的光学多层膜4的层数为5，落入4以上的范围。
[0437]
实施例5-3的光学多层膜4的总物理膜厚为259nm，落入400nm以下的范围。
[0438]
实施例5-3的最表层10为l5(sio2层)，其物理膜厚为71nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0439]
实施例5-3的l4为nb2o5层，其物理膜厚为14nm，“未”落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-3的l4“不是”次最表层12。实施例5-3的l2为nb2o5层，其物理膜厚为26nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-3的l2为次最表层12。
[0440]
实施例5-3的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为7nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0441]
实施例5-3的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为141nm，落入60nm以上的范围。
[0442]
实施例5-3的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为259nm，实施例5-3的特定比例f为(7+141)/259≒0.57(57％)，为34％以上。
[0443]
实施例5-3的400～700nm平均正反射率为0.286％，落入0.450％以下的范围。
[0444]
实施例5-3的380～780nm平均正反射率为0.592％，落入0.660％以下的范围。
[0445]
实施例5-3的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入2.1以上的范围。
[0446]
实施例5-3在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0447]
实施例5-4的光学多层膜4的层数为5，落入4以上的范围。
[0448]
实施例5-4的光学多层膜4的总物理膜厚为302nm，落入400nm以下的范围。
[0449]
实施例5-4的最表层10为l5(sio2层)，其物理膜厚为70nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0450]
实施例5-4的l4为nb2o5层，其物理膜厚为18nm，“未”落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-4的l4“不是”次最表层12。实施例5-4的l2为sio2层，其物理膜厚为43nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-4的l2为次最表层12。
[0451]
实施例5-4的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为12nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0452]
实施例5-4的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为159nm，落入60nm以上的范围。
[0453]
实施例5-4的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为302nm，实施例5-4的特定比例f为(12+159)/302≒0.57(57％)，为34％以上。
[0454]
实施例5-4的400～700nm平均正反射率为0.262％，落入0.450％以下的范围。
[0455]
实施例5-4的380～780nm平均正反射率为0.425％，落入0.660％以下的范围。
[0456]
实施例5-4的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入2.1以上的范围。
[0457]
实施例5-4在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0458]
实施例5-5的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0459]
实施例5-5的光学多层膜4的总物理膜厚为274nm，落入400nm以下的范围。
[0460]
实施例5-5的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为76nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0461]
实施例5-5的l2为al2o3层，其物理膜厚为50nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-5的l2为次最表层12。
[0462]
实施例5-5的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为8nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0463]
实施例5-5的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为140nm，落入60nm以上的范围。
[0464]
实施例5-5的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为274nm，实施例5-5的特定比例f为(8+140)/274≒0.54(54％)，为34％以上。
[0465]
实施例5-5的400～700nm平均正反射率为0.215％，落入0.450％以下的范围。
[0466]
实施例5-5的380～780nm平均正反射率为0.470％，落入0.660％以下的范围。
[0467]
实施例5-5的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入2.1以上的范围。
[0468]
实施例5-5在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0469]
实施例5-6的光学多层膜4的层数为5，落入4以上的范围。
[0470]
实施例5-6的光学多层膜4的总物理膜厚为259nm，落入400nm以下的范围。
[0471]
实施例5-6的最表层10为l5(sio2层)，其物理膜厚为71nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0472]
实施例5-6的l4为tio2层，其物理膜厚为14nm，“未”落入26nm以上85nm以下的范
围，因此实施例5-6的l4“不是”次最表层12。实施例5-6的l2为tio2层，其物理膜厚为26nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-6的l2为次最表层12。
[0473]
实施例5-6的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为7nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0474]
实施例5-6的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为141nm，落入60nm以上的范围。
[0475]
实施例5-6的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为259nm，实施例5-6的特定比例f为(7+141)/259≒0.57(57％)，为34％以上。
[0476]
实施例5-6的400～700nm平均正反射率为0.315％，落入0.450％以下的范围。
[0477]
实施例5-6的380～780nm平均正反射率为0.644％，落入0.660％以下的范围。
[0478]
实施例5-6的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入2.1以上的范围。
[0479]
实施例5-6在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0480]
实施例5-7的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0481]
实施例5-7的光学多层膜4的总物理膜厚为302nm，落入400nm以下的范围。
[0482]
实施例5-7的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为80nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0483]
实施例5-7的l2为mgf2层，其物理膜厚为77nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-7的l2为次最表层12。
[0484]
实施例5-7的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为9nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0485]
实施例5-7的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为150nm，落入60nm以上的范围。
[0486]
实施例5-7的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为302nm，实施例5-7的特定比例f为(9+150)/302≒0.53(53％)，为34％以上。
[0487]
实施例5-7的400～700nm平均正反射率为0.284％，落入0.450％以下的范围。
[0488]
实施例5-7的380～780nm平均正反射率为0.346％，落入0.660％以下的范围。
[0489]
实施例5-7的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入2.1以上的范围。
[0490]
实施例5-7在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0491]
实施例5-8的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0492]
实施例5-8的光学多层膜4的总物理膜厚为277nm，落入400nm以下的范围。
[0493]
实施例5-8的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为79nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0494]
实施例5-8的l2为zro2层，其物理膜厚为42nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-8的l2为次最表层12。
[0495]
实施例5-8的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为6nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0496]
实施例5-8的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为150nm，落入60nm以上的范围。
[0497]
实施例5-8的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为277nm，实施例5-8的特定比例f
为(6+150)/277≒0.56(56％)，为34％以上。
[0498]
实施例5-8的400～700nm平均正反射率为0.264％，落入0.450％以下的范围。
[0499]
实施例5-8的380～780nm平均正反射率为0.417％，落入0.660％以下的范围。
[0500]
实施例5-8的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入2.1以上的范围。
[0501]
实施例5-8在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0502]
实施例5-9的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0503]
实施例5-9的光学多层膜4的总物理膜厚为274nm，落入400nm以下的范围。
[0504]
实施例5-9的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为79nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0505]
实施例5-9的l2为ta2o5层，其物理膜厚为39nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-9的l2为次最表层12。
[0506]
实施例5-9的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为6nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0507]
实施例5-9的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为150nm，落入60nm以上的范围。
[0508]
实施例5-9的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为274nm，实施例5-9的特定比例f为(6+150)/274≒0.57(57％)，为34％以上。
[0509]
实施例5-9的400～700nm平均正反射率为0.298％，落入0.450％以下的范围。
[0510]
实施例5-9的380～780nm平均正反射率为0.538％，落入0.660％以下的范围。
[0511]
实施例5-9的380～780nm平均光学浓度为3.7，落入2.1以上的范围。
[0512]
实施例5-9在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0513]
实施例5-10的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0514]
实施例5-10的光学多层膜4的总物理膜厚为295nm，落入400nm以下的范围。
[0515]
实施例5-10的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为71nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0516]
实施例5-10的l2为sio2层层，其物理膜厚为73nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-10的l2为次最表层12。
[0517]
实施例5-10的表层侧光吸收层14为l3(ti层)，表层侧光吸收厚度c为16nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0518]
实施例5-10的基材侧光吸收层16为l1(ti层)，基材侧光吸收厚度d为135nm，落入60nm以上的范围。
[0519]
实施例5-10的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为295nm，实施例5-10的特定比例f为(16+135)/295≒0.51(51％)，为34％以上。
[0520]
实施例5-10的400～700nm平均正反射率为0.193％，落入0.450％以下的范围。
[0521]
实施例5-10的380～780nm平均正反射率为0.497％，落入0.660％以下的范围。
[0522]
实施例5-10的380～780nm平均光学浓度为3.2，落入2.1以上的范围。
[0523]
实施例5-10在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0524]
实施例5-11的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0525]
实施例5-11的光学多层膜4的总物理膜厚为312nm，落入400nm以下的范围。
[0526]
实施例5-11的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为76nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0527]
实施例5-11的l2为sio2层，其物理膜厚为71nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-11的l2为次最表层12。
[0528]
实施例5-11的表层侧光吸收层14为l3(nio
x
层)，表层侧光吸收厚度c为15nm，落入6nm以上17nm以下的范围。此处的nio
x
层可以通过ni的成膜速率为0.3nm/s的蒸镀而形成，在蒸镀时，导入20sccm的氧气。下文中，nio
x
层被假定为同样地制作。需要说明的是，通过氧气的流量的变更，能够变更nio
x
的组成(nio
x
中的x)。
[0529]
实施例5-11的基材侧光吸收层16为l1(nio
x
层)，基材侧光吸收厚度d为150nm，落入60nm以上的范围。
[0530]
实施例5-11的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为312nm，实施例5-11的特定比例f为(15+150)/312≒0.53(53％)，为34％以上。
[0531]
实施例5-11的400～700nm平均正反射率为0.393％，落入0.450％以下的范围。
[0532]
实施例5-11的380～780nm平均正反射率为0.653％，落入0.660％以下的范围。
[0533]
实施例5-11的380～780nm平均光学浓度为3.4，落入2.1以上的范围。
[0534]
实施例5-11在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0535]
实施例5-12的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0536]
实施例5-12的光学多层膜4的总物理膜厚为356nm，落入400nm以下的范围。
[0537]
实施例5-12的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为62nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0538]
实施例5-12的l2为sio2层，其物理膜厚为36nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-12的l2为次最表层12。
[0539]
实施例5-12的表层侧光吸收层14为l3(ge层)，表层侧光吸收厚度c为8nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0540]
实施例5-12的基材侧光吸收层16为l1(ge层)，基材侧光吸收厚度d为250nm，落入60nm以上的范围。
[0541]
实施例5-12的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为356nm，实施例5-12的特定比例f为(8+250)/356≒0.72(72％)，为34％以上。
[0542]
实施例5-12的400～700nm平均正反射率为0.402％，落入0.450％以下的范围。
[0543]
实施例5-12的380～780nm平均正反射率为0.637％，落入0.660％以下的范围。
[0544]
实施例5-12的380～780nm平均光学浓度为2.1，落入2.1以上的范围。
[0545]
实施例5-12在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0546]
实施例5-13的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0547]
实施例5-13的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为77nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0548]
实施例5-13的l2为sio2层，其物理膜厚为63nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-13的l2为次最表层12。
[0549]
实施例5-13的表层侧光吸收层14为l3(cr层)，表层侧光吸收厚度c为8nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0550]
实施例5-13的基材侧光吸收层16为l1(cr层)，基材侧光吸收厚度d为150nm，落入60nm以上的范围。
[0551]
实施例5-13的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为298nm，实施例5-13的特定比例f为(8+150)/298≒0.53(53％)，为34％以上。
[0552]
实施例5-13的400～700nm平均正反射率为0.165％，落入0.450％以下的范围。
[0553]
实施例5-13的380～780nm平均正反射率为0.170％，落入0.660％以下的范围。
[0554]
实施例5-13的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入2.1以上的范围。
[0555]
实施例5-13在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0556]
实施例5-14的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0557]
实施例5-14的光学多层膜4的总物理膜厚为221nm，落入400nm以下的范围。
[0558]
实施例5-14的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为70nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0559]
实施例5-14的l2为sio2层，其物理膜厚为70nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-14的l2为次最表层12。
[0560]
实施例5-14的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为17nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0561]
实施例5-14的基材侧光吸收层16为l1(al层)，基材侧光吸收厚度d为60nm，落入60nm以上的范围。
[0562]
实施例5-14的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为221nm，实施例5-14的特定比例f为(17+60)/221＝0.35(35％)，为34％以上。
[0563]
实施例5-14的400～700nm平均正反射率为0.241％，落入0.450％以下的范围。
[0564]
实施例5-14的380～780nm平均正反射率为0.562％，落入0.660％以下的范围。
[0565]
实施例5-14的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入2.1以上的范围。
[0566]
实施例5-14在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0567]
实施例5-15的光学多层膜4的层数为4，落入4以上的范围。
[0568]
实施例5-15的光学多层膜4的总物理膜厚为205nm，落入400nm以下的范围。
[0569]
实施例5-15的最表层10为l4(sio2层)，其物理膜厚为75nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0570]
实施例5-15的l2为sio2层，其物理膜厚为61nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-15的l2为次最表层12。
[0571]
实施例5-15的表层侧光吸收层14为l3(nb层)，表层侧光吸收厚度c为10nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0572]
实施例5-15的基材侧光吸收层16为l1(nb层)，基材侧光吸收厚度d为60nm，落入60nm以上的范围。
[0573]
实施例5-15的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为205nm，实施例5-15的特定比例f为(10+60)/205≒0.34(34％)，为34％以上。
[0574]
实施例5-15的400～700nm平均正反射率为0.246％，落入0.450％以下的范围。
[0575]
实施例5-15的380～780nm平均正反射率为0.427％，落入0.660％以下的范围。
[0576]
实施例5-15的380～780nm平均光学浓度为2.1，落入2.1以上的范围。
[0577]
实施例5-15在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0578]
实施例5-16的光学多层膜4的层数为5，落入4以上的范围。
[0579]
实施例5-16的光学多层膜4的总物理膜厚为400nm，落入400nm以下的范围。
[0580]
实施例5-16的最表层10为l5(sio2层)，其物理膜厚为75nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0581]
实施例5-16的l3为sio2层，其物理膜厚为61nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-16的l3为次最表层12。
[0582]
实施例5-16的表层侧光吸收层14为l4(nb层)，表层侧光吸收厚度c为10nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0583]
实施例5-16的基材侧光吸收层16为l2(nb层)，基材侧光吸收厚度d为60nm，落入60nm以上的范围。
[0584]
实施例5-16的特定表层厚度e为l2～l5的物理膜厚的合计206nm，实施例5-16的特定比例f为(10+60)/206≒0.34(34％)，为34％以上。
[0585]
实施例5-16的400～700nm平均正反射率为0.246％，落入0.450％以下的范围。
[0586]
实施例5-16的380～780nm平均正反射率为0.425％，落入0.660％以下的范围。
[0587]
实施例5-16的380～780nm平均光学浓度为2.1，落入2.1以上的范围。
[0588]
实施例5-16在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0589]
实施例5-17的光学多层膜4的层数为6，落入4以上的范围。
[0590]
实施例5-17的光学多层膜4的总物理膜厚为230nm，落入400nm以下的范围。
[0591]
实施例5-17的最表层10为l6(sio2层)，其物理膜厚为75nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0592]
实施例5-17的l4为sio2层，其物理膜厚为61nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-17的l4为次最表层12。
[0593]
实施例5-17的表层侧光吸收层14为l5(nb层)，表层侧光吸收厚度c为9nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0594]
实施例5-17的基材侧光吸收层16为l1,l3(nb层)，基材侧光吸收厚度d为10+50＝60nm，落入60nm以上的范围。实施例5-17的基材侧最大厚度光吸收层18为l3(nb层)。
[0595]
实施例5-17的特定表层厚度e与l3～l6的合计物理膜厚同样为195nm，实施例5-17的特定比例f为(9+60)/195≒0.35(35％)，为34％以上。
[0596]
实施例5-17的400～700nm平均正反射率为0.224％，落入0.450％以下的范围。
[0597]
实施例5-17的380～780nm平均正反射率为0.348％，落入0.660％以下的范围。
[0598]
实施例5-17的380～780nm平均光学浓度为2.1，落入2.1以上的范围。
[0599]
实施例5-17在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0600]
实施例5-18的光学多层膜4的层数为6，落入4以上的范围。
[0601]
实施例5-18的光学多层膜4的总物理膜厚为382nm，落入400nm以下的范围。
[0602]
实施例5-18的最表层10为l6(sio2层)，其物理膜厚为88nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0603]
实施例5-18的l4为sio2层，其物理膜厚为85nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-18的l4为次最表层12。
[0604]
实施例5-18的表层侧光吸收层14为l5(nb层)，表层侧光吸收厚度c为7nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0605]
实施例5-18的基材侧光吸收层16为l1、l3(nb层)，基材侧光吸收厚度d为105+16＝121nm，落入60nm以上的范围。实施例5-18的基材侧最大厚度光吸收层18为l1(nb层)。
[0606]
实施例5-18的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为382nm，实施例5-18的特定比例f为(7+121)/382≒0.34(34％)，为34％以上。
[0607]
实施例5-18的400～700nm平均正反射率为0.388％，落入0.450％以下的范围。
[0608]
实施例5-18的380～780nm平均正反射率为0.591％，落入0.660％以下的范围。
[0609]
实施例5-18的380～780nm平均光学浓度为3.7，落入2.1以上的范围。
[0610]
实施例5-18在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0611]
实施例5-19的光学多层膜4的层数为8，落入4以上的范围。
[0612]
实施例5-19的光学多层膜4的总物理膜厚为400nm，落入400nm以下的范围。
[0613]
实施例5-19的最表层10为l8(sio2层)，其物理膜厚为75nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0614]
实施例5-19的l6为sio2层，其物理膜厚为61nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-19的l6为次最表层12。
[0615]
实施例5-19的表层侧光吸收层14为l7(nb层)，表层侧光吸收厚度c为10nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0616]
实施例5-19的基材侧光吸收层16为l1,l3,l5(nb层)，基材侧光吸收厚度d为5+5+50＝60nm，落入60nm以上的范围。实施例5-19的基材侧最大厚度光吸收层18为l5(nb层)。
[0617]
实施例5-19的特定表层厚度e与l5～l8的合计物理膜厚同样为196nm，实施例5-19的特定比例f为(10+60)/196≒0.36(36％)，为34％以上。
[0618]
实施例5-19的400～700nm平均正反射率为0.274％，落入0.450％以下的范围。
[0619]
实施例5-19的380～780nm平均正反射率为0.540％，落入0.660％以下的范围。
[0620]
实施例5-19的380～780nm平均光学浓度为2.3，落入2.1以上的范围。
[0621]
实施例5-19在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0622]
实施例5-20的光学多层膜4的层数为6，落入4以上的范围。
[0623]
实施例5-20的光学多层膜4的总物理膜厚为349nm，落入400nm以下的范围。
[0624]
实施例5-20的最表层10为l6(sio2层)，其物理膜厚为91nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0625]
实施例5-20的l4为sio2层，其物理膜厚为79nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例5-20的l4为次最表层12。
[0626]
实施例5-20的表层侧光吸收层14为l5(nb层)，表层侧光吸收厚度c为8nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0627]
实施例5-20的基材侧光吸收层16为l1、l3(nb层)，基材侧光吸收厚度d为90+19＝109nm，落入60nm以上的范围。
[0628]
实施例5-20的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为349nm，实施例5-20的特定比例f为(8+109)/349≒0.34(34％)，为34％以上。
[0629]
实施例5-20的400～700nm平均正反射率为0.447％，落入0.450％以下的范围。
[0630]
实施例5-20的380～780nm平均正反射率为0.656％，落入0.660％以下的范围。
[0631]
实施例5-20的380～780nm平均光学浓度为3.4，落入2.1以上的范围。
[0632]
实施例5-20在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0633]
这样，实施例5-1～5-20中，光学多层膜4的层数和总物理膜厚、最表层10的物理膜厚、表层侧光吸收厚度c、基材侧光吸收厚度d、特定表层厚度e和特定比例f均落入各自的优选范围内，400～700nm平均正反射率、380～780nm平均正反射率和380～780nm平均光学浓度均落入透明的镜面基材中各自的优选范围内。
[0634]
[实施例6]
[0635]
通过实施例6(实施例6-1～6-3)的形成对于基材2的表面粗糙度为0.4μm以上1.0以下的范围内且为不同的复数个值的情况进行确认。实施例6-1～6-2是对于实施例2-1(黑凹凸基材，表面粗糙度0.6μm)分别变更为表面粗糙度不同的黑凹凸基材的示例。
[0636]
实施例6-1的基材的表面粗糙度为0.4μm。实施例6-1的基材(成膜前)的亮度l
*
为22.4。实施例6-1的基材的380～780nm平均正反射率为0.23％。实施例6-1的基材的平均光学浓度为4以上。
[0637]
实施例6-2的基材的表面粗糙度为0.5μm。实施例6-2的基材(成膜前)的亮度l
*
为13.4。实施例6-2的基材的380～780nm平均正反射率为0.02％。实施例6-2的基材的平均光学浓度为4以上。
[0638]
此外，实施例6-3是在下述基材上形成下述[表13]所示的光学多层膜4的示例。
[0639]
实施例6-3的基材的表面粗糙度为1.0μm。实施例6-3的基材(成膜前)的亮度l
*
为22.3。实施例6-3的基材的380～780nm平均正反射率为0.08％。实施例6-3的基材的平均光学浓度为4以上。
[0640]
实施例6-3的光学多层膜4的层数为7，落入4以上的范围。
[0641]
实施例6-3的光学多层膜4的总物理膜厚为292nm，落入400nm以下的范围。
[0642]
实施例6-3的最表层10为l7(sio2层)，其物理膜厚为75nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0643]
实施例6-3的l3为sio2层，其物理膜厚为41nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例6-3的l3为次最表层12。
[0644]
实施例6-3的表层侧光吸收层14为l6(si+nb层)，表层侧光吸收厚度c为8nm，落入6nm以上17nm以下的范围。此处，l6、l1的si+nb层可如下制作。即，以成膜速率0.21nm/s来溅射si，并且以成膜速率0.20nm/s来溅射nb，制成si+nb层。由成膜速率之比计算出的si与nb之比(体积比)为si:nb＝51:49左右，si+nb层是si过半的混合膜。si:nb可通过成膜速率等成膜条件进行变更。关于成膜后的si+nb层中的准确的si:nb的值，由于需要利用显微镜等观察庞大的范围，因此即使为本领域技术人员也难以提示。
[0645]
实施例6-3的基材侧光吸收层16为l1(si+nb层)，基材侧光吸收厚度d为150nm，落入60nm以上的范围。
[0646]
实施例6-3的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为292nm，实施例6-3的特定比例f为(8+150)/292≒0.54(54％)，为34％以上。
[0647]
实施例6和实施例2-1(再次示出)的表面粗糙度和确认结果被示于下述[表14]中。需要说明的是，实施例6-1～6-2的层结构与实施例1-1、2-1(上述[表1]、[表3])相同。
[0648]
[表13]
[0649][0650]
[表14]
[0651][0652]
实施例6-1(表面粗糙度0.4μm)的亮度l
*
为3.00，落入4.5以下的范围。
[0653]
实施例6-1的380～780nm平均正反射率为0.011％，落入0.02％以下的范围。
[0654]
实施例6-1的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4.0以上的范围。
[0655]
实施例6-2(表面粗糙度0.5μm)的亮度l
*
为1.94，落入4.5以下的范围。
[0656]
实施例6-2的380～780nm平均正反射率为0.008％，落入0.02％以下的范围。
[0657]
实施例6-2的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4.0以上的范围。
[0658]
实施例2-1(表面粗糙度0.6μm)的亮度l
*
为2.96，落入4.5以下的范围。
[0659]
实施例2-1的380～780nm平均正反射率为0.010％，落入0.02％以下的范围。
[0660]
实施例2-1的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4.0以上的范围。
[0661]
实施例6-3(表面粗糙度1.0μm)的亮度l
*
为3.65，落入4.5以下的范围。
[0662]
实施例6-3的380～780nm平均正反射率为0.006％，落入0.02％以下的范围。
[0663]
实施例6-3的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4.0以上的范围。
[0664]
实施例6-1～6-2、实施例2-1和实施例6-3中，基材2的表面粗糙度在0.4μm以上1.0μm以下的范围内分别不同，但是亮度l
*
、380～780nm平均正反射率和380～780nm平均光学浓度均为凹凸基材的优选范围，成为纯黑的遮光部件1。
[0665]
[实施例7]
[0666]
在进行小型化的照相机模块中，由于遮光膜也变薄，因此在进行光学多层膜4的成膜的情况下，与板状基材的情况相比，更容易发生因光学多层膜4的应力所致的膜基材的翘曲。由于光学部件1中的翘曲的发生，有时会抑制光学部件1发挥出所期望的功能、或者光学部件1不能被收纳在照相机模块中。即，有时要求抑制膜基材(薄型基材)的遮光部件1中的翘曲。
[0667]
因此，在实施例7中，对于作为厚度25μm的黑凹凸基材的膜的单面形成光学多层膜4后，切割出30mm见方(实施例7-1～7-3)，调查在其中的翘曲的发生。需要说明的是，实施例7的各基材的表面粗糙度为0.6μm，成膜前的各基材的亮度l
*
为19.3，成膜前的各基材的380～780nm平均正反射率为0.06％，成膜前的各基材的平均光学浓度为4以上。
[0668]
图2是关于遮光部件1的翘曲的示意图。根据光学多层膜4(各层)的材质，光学多层膜4中会产生应力，相对较大且厚的基材2中，可耐受应力而未发生翘曲，但在相对较小且薄的基材2中，光学多层膜4的应力使基材2发生翘曲。在遮光部件1的光学多层膜4中，在包括实施例7的许多情况下会产生应力，可能在光学多层膜4(成膜面m)侧产生凸出状的翘曲。应力的大小与具有应力的材质的用量大致处于正比关系。翘曲的程度以最大翘曲量h进行测量，该最大翘曲量h是将实施例7的遮光部件1按照光学多层膜4侧朝下静置于水平试验台t时的、距试验台t的最大高度。
[0669]
另外，实施例7的亮度l
*
、380～780nm平均正反射率和380～780nm平均光学浓度与实施例1同样地测定。
[0670]
这些层结构等与上述[表1]同样地示于下述[表15]中。
[0671]
[表15]
[0672]
[0673]
实施例7-1的光学多层膜4的层数为7，落入4以上的范围。
[0674]
实施例7-1的光学多层膜4的总物理膜厚为297nm，落入400nm以下的范围。
[0675]
实施例7-1的最表层10为l7(sio2层)，其物理膜厚为75nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0676]
实施例7-1的l3为sio2层，其物理膜厚为41nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例7-1的l3为次最表层12。
[0677]
实施例7-1的表层侧光吸收层14为l5(si+nb层)，表层侧光吸收厚度c为8nm，落入6nm以上17nm以下的范围。si+nb层的成膜如上所述，在实施例7中是同样的。
[0678]
实施例7-1的基材侧光吸收层16为l1(si+nb层)，基材侧光吸收厚度d为155nm，落入60nm以上的范围。
[0679]
实施例7-1的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为297nm，实施例7-1的特定比例f为(8+155)/297≒0.55(55％)，为34％以上。
[0680]
实施例7-1的亮度l
*
为3.40，落入4.5以下的范围。
[0681]
实施例7-1的380～780nm平均正反射率为0.007％，落入0.02％以下的范围。
[0682]
实施例7-1的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4.0以上的范围。
[0683]
实施例7-1在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0684]
实施例7-1的最大翘曲量h为2.0mm，比较小。
[0685]
实施例7-2的光学多层膜4的层数为7，落入4以上的范围。
[0686]
实施例7-2的光学多层膜4的总物理膜厚为400nm，落入400nm以下的范围。
[0687]
实施例7-2的最表层10为l7(sio2层)，其物理膜厚为75nm，落入62nm以上91nm以下的范围。
[0688]
实施例7-2的l3为sio2层，其物理膜厚为41nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例7-2的l3为次最表层12。
[0689]
实施例7-2的表层侧光吸收层14为l5(si+nb层)，表层侧光吸收厚度c为8nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0690]
实施例7-2的基材侧光吸收层16为l1(si+nb层)，基材侧光吸收厚度d为258nm，落入60nm以上的范围。
[0691]
实施例7-2的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为400nm，实施例7-2的特定比例f为(8+258)/400≒0.67(67％)，为34％以上。
[0692]
实施例7-2的亮度l
*
为2.97，落入4.5以下的范围。
[0693]
实施例7-2的380～780nm平均正反射率为0.006％，落入0.02％以下的范围。
[0694]
实施例7-2的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4.0以上的范围。
[0695]
实施例7-2在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0696]
实施例7-2的最大翘曲量h为2.5mm，比较小。
[0697]
实施例7-3的光学多层膜4的层数为7，落入4以上的范围。
[0698]
实施例7-3的光学多层膜4的总物理膜厚为500nm，“未”落入400nm以下的范围。需要说明的是，在从属于技术方案1的技术方案2中，限定了光学多层膜4的总物理膜厚为400nm以下的方案。
[0699]
实施例7-3的最表层10为l7(sio2层)，其物理膜厚为75nm，落入62nm以上91nm以下
的范围。
[0700]
实施例7-3的l3为sio2层，其物理膜厚为41nm，落入26nm以上85nm以下的范围，因此实施例7-3的l3为次最表层12。
[0701]
实施例7-3的表层侧光吸收层14为l5(si+nb层)，表层侧光吸收厚度c为8nm，落入6nm以上17nm以下的范围。
[0702]
实施例7-3的基材侧光吸收层16为l1(si+nb层)，基材侧光吸收厚度d为358nm，落入60nm以上的范围。
[0703]
实施例7-3的特定表层厚度e与总物理膜厚同样为500nm，实施例7-3的特定比例f为(8+358)/500≒0.73(73％)，为34％以上。
[0704]
实施例7-3的亮度l
*
为2.73，落入4.5以下的范围。
[0705]
实施例7-3的380～780nm平均正反射率为0.005％，落入0.02％以下的范围。
[0706]
实施例7-3的380～780nm平均光学浓度为4以上，落入4.0以上的范围。
[0707]
实施例7-3在高光学浓度和低反射率这两方面具有优异的黑度。
[0708]
实施例7-3的最大翘曲量h为3.5mm，比较大。从抑制翘曲的程度的方面出发，光学多层膜4的总物理膜厚优选为使30mm见方、厚度25μm的基材中的最大翘曲量h为2.5mm以下的400nm以下。
[0709]
符号说明
[0710]1··
遮光部件、2
··
基材、4
··
光学多层膜、6
··
光吸收层、8
··
电介质层、10
··
最表层、12
··
次最表层、14
··
表层侧光吸收层、16
··
基材侧光吸收层、18
··
基材侧最大厚度光吸收层、c
··
表层侧光吸收厚度、d
··
基材侧光吸收厚度、e
··
特定表层厚度、m
··
成膜面。

技术特征：

1.一种遮光部件，其特征在于，其具备：基材；以及配置在作为所述基材的1个以上的面的成膜面上的光学多层膜，所述光学多层膜以4层以上配置有吸收可见光的光吸收层和作为电介质制的层的电介质层，作为距所述基材最远的层的最表层为所述电介质层，所述最表层的物理膜厚为62nm以上91nm以下，配置在作为最靠近所述最表层的层的次最表层与所述最表层之间的1层以上的所述光吸收层的物理膜厚的合计即表层侧光吸收厚度为6nm以上17nm以下，该次最表层是物理膜厚为26nm以上85nm以下的所述电介质层，配置在所述次最表层与所述基材之间的1层以上的所述光吸收层的物理膜厚的合计即基材侧光吸收厚度为60nm以上，将从配置在所述次最表层与所述基材之间的所述光吸收层中的作为物理膜厚最大的层的基材侧最大厚度光吸收层到所述最表层的物理膜厚的合计即特定表层厚度作为除数、将所述表层侧光吸收厚度与所述基材侧光吸收厚度之和作为被除数时，作为其商的特定比例为0.34以上。2.如权利要求1所述的遮光部件，其特征在于，所述光学多层膜的总物理膜厚为400nm以下。3.如权利要求1或2所述的遮光部件，其特征在于，所述成膜面具有凹凸，所述成膜面的表面粗糙度为1.0μm以下。4.如权利要求1至3中任一项所述的遮光部件，其特征在于，所述基材被着为黑。5.如权利要求1至4中任一项所述的遮光部件，其特征在于，所述光吸收层包含金属或金属的不饱和氧化物。6.如权利要求5所述的遮光部件，其特征在于，所述光吸收层的主成分为nb、ti、ni、ge、al、si和cr以及它们的各不饱和氧化物中的至少任一者。7.如权利要求1至6中任一项所述的遮光部件，其特征在于，所述电介质层包含金属化合物。8.如权利要求7所述的遮光部件，其特征在于，所述电介质层的主成分为sio2、mgf2、nb2o5、tio2、al2o3、zro2、ta2o5、si3n4、sin
y
o
z
中的至少任一者。9.如权利要求1至8中任一项所述的遮光部件，其特征在于，所述最表层的主成分为sio2和mgf2中的至少一者。10.一种遮光部件，其特征在于，其具备：基材；以及配置在作为所述基材的1个以上的面的成膜面上的光学多层膜，所述成膜面具有凹凸，对于入射角为0
°
以上8
°
以下的光的380nm以上780nm以下的波长区域中的平均光学浓度为4.0以上，对于入射角为0
°
以上8
°
以下的光的380nm以上780nm以下的波长区域中的平均正反射
率为0.02％以下，在l
*
a
*
b
*
度系统测定(jis z 8729)中的亮度l
*
为4.5以下。11.一种遮光部件，其特征在于，其具备：透明的基材；以及配置在作为所述基材的1个以上的面的成膜面上的光学多层膜，所述成膜面为镜面，对于入射角为0
°
以上8
°
以下的光的400nm以上700nm以下的波长区域中的平均正反射率为0.450％以下，对于入射角为0
°
以上8
°
以下的光的380nm以上780nm以下的波长区域中的平均正反射率为0.660％以下，对于入射角为0
°
以上8
°
以下的光的380nm以上780nm以下的波长区域中的平均光学浓度为2.1以上。

技术总结

本发明提供具有优异的黑度的遮光部件。遮光部件(1)的光学多层膜(4)以4层以上配置有吸收可见光的光吸收层(6)和作为电介质制的层的电介质层(8)。距基材(2)最远的最表层(10)的物理膜厚为62nm以上91nm以下。配置在物理膜厚为26nm以上85nm以下的电介质层(8)中的最靠近最表层(10)的次最表层(12)与最表层(10)之间的光吸收层(6)的物理膜厚的合计即表层侧光吸收厚度C为6nm以上17nm以下。配置在次最表层(12)与基材(2)之间的光吸收层(6)的物理膜厚的合计即基材侧光吸收厚度D为60nm以上。从配置在次最表层(12)与基材(2)之间的光吸收层(6)中的物理膜厚最大的层即基材侧最大厚度光吸收层(18)到最表层(10)的物理膜厚的合计即特定表层厚度E的特定比例F＝(C+D)/E为0.34以上。表层厚度E的特定比例F＝(C+D)/E为0.34以上。表层厚度E的特定比例F＝(C+D)/E为0.34以上。

技术研发人员：

吉田拓郎 鸟居俊介

受保护的技术使用者：

东海光学株式会社

技术研发日：

2021.03.23

技术公布日：

2022/11/15