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  • 一种镀膜用防着板的制作方法
    1.本实用新型属于膜制备技术领域,涉及一种镀膜用防着板。背景技术:2.在沉积镀膜工艺中,通常需要使用等离子体溅射等设备,例如磁控溅射机。采用磁控溅射机进行镀膜时,磁控溅射机中的溅射源在电场的作用下产生
    时间:2023-03-03  热度:30℃
  • 一种便于清洗的蒸镀机转盘的制作方法
    1.本实用新型涉及半导体生产设备技术领域,特别是一种便于清洗的蒸镀机转盘。背景技术:2.金属蒸发台(蒸镀机)是半导体芯片制造行业常用的真空镀膜设备,真空镀膜真空蒸镀是在4.00e-5pa的压力下,采用
    时间:2023-03-03  热度:19℃
  • 一种防着板花纹加工方法与流程
    1.本发明涉及真空溅射技术领域,尤其涉及防着板加工,具体涉及一种防着板花纹加工方法。背景技术:2.物理气相沉积(pvd)作为一种典型的薄膜加工方式,其制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化
    时间:2022-12-24  热度:58℃
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